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      一種制備核?殼結(jié)構(gòu)的高介低損鈦酸銅鈣基陶瓷的方法與流程

      文檔序號(hào):11191204閱讀:1033來(lái)源:國(guó)知局
      一種制備核?殼結(jié)構(gòu)的高介低損鈦酸銅鈣基陶瓷的方法與流程

      本發(fā)明涉及一種電介質(zhì)陶瓷的制備方法,尤其是涉及一種制備核-殼結(jié)構(gòu)的高介低損的鈦酸銅鈣基陶瓷的方法。



      背景技術(shù):

      高介電常數(shù)材料為實(shí)現(xiàn)濾波器、諧振器、存儲(chǔ)器和電容器等重要電子器件的尺寸微型化和高性能化提供了可能,受到廣泛的關(guān)注。鈦酸銅鈣(cacu3ti4o12,ccto)是幾年發(fā)現(xiàn)的較為典型、較有代表性的高介電材料,其不論單晶還是陶瓷都具有高達(dá)104的介電常數(shù),介電常數(shù)在較寬的頻率范圍(10hz~100khz)和較廣的溫度范圍(100~350k)基本保持不變。但是ccto陶瓷在具有很高的低頻介電常數(shù)的同時(shí),其低頻介電損耗也很高(>0.1),會(huì)導(dǎo)致器件大量發(fā)熱,限制了其應(yīng)用。

      對(duì)于降低ccto陶瓷的低頻介電損耗,目前研究者們主要采取的方法是摻雜改性和微觀結(jié)構(gòu)調(diào)控。例如,【appl.phys.lett.,872005032902】、【appl.phys.lett.,872005182911】、【phys.stat.sol.(a),203200622】、【中國(guó)專利200710009111.9】、【j.appl.phys.1172015094103】等。但是這些實(shí)驗(yàn)不是沒(méi)有足夠程度的降低ccto陶瓷的低頻介電損耗,就是在明顯降低ccto陶瓷的低頻介電損耗的同時(shí),也使ccto陶瓷的低頻介電常數(shù)大幅度的降低。



      技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

      本發(fā)明為解決目前在降低ccto陶瓷低頻介電損耗時(shí),其低頻介電常數(shù)也大幅度降低的技術(shù)問(wèn)題,提供一種制備核-殼結(jié)構(gòu)的高介低損鈦酸銅鈣基陶瓷的方法。

      本發(fā)明是采用以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:一種制備核-殼結(jié)構(gòu)的高介低損鈦酸銅鈣基陶瓷的方法,包括如下步驟:(1)以硝酸鈣、硝酸銅和鈦酸四丁酯為原料,添加檸檬酸后利用溶膠-凝膠法制備ccto粉體:首先按照cacu3ti4o12的化學(xué)計(jì)量比精確稱量硝酸鈣、硝酸銅、鈦酸四丁酯,再按照檸檬酸:陽(yáng)離子=1:1.2的摩爾比稱取檸檬酸,然后把上述原料充分溶解于乙醇中混合均勻,并利用硝酸將溶液的ph值調(diào)至2~3;溶液經(jīng)過(guò)磁力攪拌之后,放置于80°c的恒溫中,直到溶液形成膠體,然后在100°c的恒溫中保溫,直到膠體變?yōu)楦赡z;將干凝膠在750°c的大氣中煅燒2小時(shí),得到ccto粉體;(2)接下來(lái)按照ccto/xtio2的化學(xué)計(jì)量比精確稱量ccto粉體和鈦酸四丁酯,同時(shí)再按照檸檬酸:陽(yáng)離子=1:1.2的摩爾比稱取檸檬酸,并將它們置于乙醇中充分?jǐn)嚢?,乙醇質(zhì)量為ccto粉體和鈦酸四丁酯總質(zhì)量的五倍,形成懸濁液,其中x=0.5或1或2;懸濁液經(jīng)過(guò)磁力攪拌之后,再次放置于80°c的恒溫中保溫,直到溶液形成膠體,然后在100°c的恒溫中保溫,直到膠體變?yōu)楦赡z,最后在750°c的大氣中煅燒2小時(shí),得到ccto/tio2混合粉體;(3)將混合粉體經(jīng)過(guò)充分研磨后,在150mpa的壓強(qiáng)下壓制成片狀,然后在1080°c下燒結(jié)10小時(shí)得到ccto/xtio2陶瓷。

      通過(guò)對(duì)ccto陶瓷進(jìn)行阻抗譜等測(cè)試,確定ccto陶瓷的電學(xué)是不均勻的,其晶粒具有半導(dǎo)性,晶界具有絕緣性。基于此結(jié)果,內(nèi)部阻擋層電容效應(yīng)(iblc)似乎是ccto陶瓷高介電性質(zhì)來(lái)源的最合理解釋。根據(jù)iblc效應(yīng),增加晶界電阻是一種有效的降低ccto陶瓷在低頻區(qū)間介電損耗的方法。

      氧化物tio2具有很好的絕緣性,本發(fā)明將tio2納米粉末包覆在ccto陶瓷微粉的外表面,制備具有“核-殼”結(jié)構(gòu)的ccto/xtio2復(fù)合陶瓷,然后將復(fù)合陶瓷在氧氣中進(jìn)行退火處理,以增加復(fù)合陶瓷晶界的絕緣性,降低陶瓷的低頻介電損耗。

      采用本發(fā)明所述的原料、原料配比以及相應(yīng)的工藝以及工藝參數(shù)(如溫度)才能夠制備出

      本技術(shù):
      所述的具有“核-殼”結(jié)構(gòu)的ccto/xtio2復(fù)合陶瓷,并且能夠增加復(fù)合陶瓷晶界的絕緣性,降低陶瓷的低頻介電損耗。

      本發(fā)明的有益效果:

      1)本發(fā)明所述方法制備出了具有核-殼結(jié)構(gòu)的鈦酸銅鈣基陶瓷。圖1給出了ccto/xtio2(x=1)陶瓷的元素分布圖。從圖中可以看出,cu元素在完整晶粒表面的分布是缺乏的,在晶粒斷面的分布是均勻的;而ti元素?zé)o論在完整晶粒表面還是斷面的分布都是均勻的。這個(gè)結(jié)果證明tio2均勻的附著在了ccto晶粒的表面,得到了具有核殼結(jié)構(gòu)的ccto/tio2復(fù)合陶瓷。

      2)本發(fā)明制備的鈦酸銅鈣基陶瓷的室溫低頻(20hz~45khz)介電常數(shù)保持在6000以上,介電損耗降至0.05以下。圖2給出了空氣中燒結(jié)制備的純ccto陶瓷(x=0)、空氣中燒結(jié)制備的ccto/xtio2(x=1)陶瓷和氧氣中退火的ccto/xtio2(x=1)陶瓷的室溫介電頻譜。可以看出,氧氣中退火的ccto/xtio2(x=1)陶瓷的低頻介電常數(shù)大于6000,并且介電損耗有了明顯降低,在20hz~45khz的寬頻率范圍內(nèi)低于0.05。

      附圖說(shuō)明

      圖1ccto/xtio2(x=1)陶瓷在指定區(qū)域內(nèi)的微觀結(jié)構(gòu)和元素分布。

      圖2空氣中燒結(jié)制備的純ccto陶瓷、空氣中燒結(jié)制備的ccto/xtio2(x=1)陶瓷和氧氣中退火的ccto/xtio2(x=1)陶瓷的室溫介電頻譜;圖a為介電常數(shù)實(shí)部,圖b為介電損耗。

      具體實(shí)施方式

      以分析純的硝酸鈣(ca(no3)2?4h2o,99%)、硝酸銅(cu(no3)2?3h2o,99%)和鈦酸四丁酯([ch3(ch2)3o]4ti,99%)為初始原料,添加檸檬酸(c6h8o7,99%)后利用溶膠-凝膠法制備了ccto粉體,首先按照cacu3ti4o12的化學(xué)計(jì)量比精確稱量各種原料,然后把它們?nèi)芙庥谝掖贾谢旌暇鶆?,并利用硝酸將溶液的ph只調(diào)至2~3。溶液經(jīng)過(guò)磁力攪拌之后,放置于80°c的恒溫中保溫6小時(shí),使溶液形成膠體,然后在100°c的恒溫中保溫2小時(shí),變?yōu)楦赡z。將干凝膠在750°c的大氣中煅燒2小時(shí),得到ccto前驅(qū)粉體。接下來(lái)按照ccto/xtio2(x=0、0.5、1和2)的化學(xué)計(jì)量比精確稱量ccto粉體、鈦酸四丁酯和檸檬酸,并將它們置于乙醇中充分?jǐn)嚢?,形成懸濁液。液體經(jīng)過(guò)磁力攪拌之后,再次放置于80°c的恒溫中保溫6小時(shí),使溶液形成膠體,然后在100°c的恒溫中保溫2小時(shí),變?yōu)楦赡z,最后在700°c的大氣中煅燒2小時(shí),得到ccto/tio2混合粉體。將粉體經(jīng)過(guò)充分研磨后,在150mpa的壓強(qiáng)下壓制成片狀,然后在1080°c下燒結(jié)10小時(shí)得到ccto/xtio2陶瓷,最后將陶瓷在950°c的氧氣氣氛中退火2小時(shí)。



      技術(shù)特征:

      技術(shù)總結(jié)
      本發(fā)明涉及一種電介質(zhì)陶瓷的制備方法,尤其是涉及一種具有核?殼結(jié)構(gòu)的高介低損的鈦酸銅鈣基陶瓷的制備方法。解決了目前在降低CCTO陶瓷低頻介電損耗時(shí),其低頻介電常數(shù)也大幅度降低的技術(shù)問(wèn)題。一種制備核?殼結(jié)構(gòu)的高介低損鈦酸銅鈣基陶瓷的方法,包括如下步驟:(1)以硝酸鈣、硝酸銅和鈦酸四丁酯為原料,添加檸檬酸后利用溶膠?凝膠法制備CCTO粉體;(2)按照CCTO/xTiO2的化學(xué)計(jì)量比稱量CCTO粉體和鈦酸四丁酯,添加檸檬酸后利用類溶膠?凝膠法制備CCTO/TiO2混合粉體;(3)將混合粉體經(jīng)過(guò)充分研磨后,在150?MPa的壓強(qiáng)下壓制成片狀,然后在1080°C下燒結(jié)10小時(shí)得到CCTO/xTiO2陶瓷。

      技術(shù)研發(fā)人員:郝文濤;孫禮;吳輝;王明文;楊帥;曹恩思;張雍家
      受保護(hù)的技術(shù)使用者:太原理工大學(xué)
      技術(shù)研發(fā)日:2017.06.12
      技術(shù)公布日:2017.09.29
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