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      可減少碳包裹的碳化硅熱場(chǎng)體系的制作方法

      文檔序號(hào):39346180發(fā)布日期:2024-09-10 12:10閱讀:40來源:國(guó)知局
      可減少碳包裹的碳化硅熱場(chǎng)體系的制作方法

      本發(fā)明涉及半導(dǎo)體領(lǐng)域,尤其是涉及一種可減少碳包裹的碳化硅熱場(chǎng)體系。


      背景技術(shù):

      1、碳化硅(sic)單晶材料是目前發(fā)展較為成熟的寬禁帶半導(dǎo)體材料,在高壓、高頻、高功率及耐高溫等領(lǐng)域應(yīng)用廣泛。目前,新能源汽車、光伏逆變、軌道交通、特高壓電網(wǎng)以及5g通訊中采用碳化硅功率器件的占比在逐年增多。在不久的將來,碳化硅單晶材料將成為最重要的電子材料之一。

      2、生長(zhǎng)碳化硅單晶最常用的方法是物理氣相傳輸法(physical?vapor?transport;pvt),該方法是將高純碳化硅粉及籽晶分別固定在石墨坩堝的底部和頂部,通過感應(yīng)線圈加熱坩堝至2000℃以上使碳化硅粉升華成碳化硅蒸氣,由于受到溫度梯度的調(diào)控,碳化硅蒸氣向上傳輸并沉積在籽晶的端面上結(jié)晶、生長(zhǎng)。然而相關(guān)技術(shù)中的碳化硅熱場(chǎng)體系生長(zhǎng)出的碳化硅晶體容易出現(xiàn)碳包裹缺陷,極大地影響碳化硅晶體的品質(zhì),因此如何減少生長(zhǎng)出的碳化硅晶體的碳包裹缺陷是本領(lǐng)域技術(shù)人員亟需解決的技術(shù)問題。


      技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

      1、發(fā)明人在實(shí)際研究中發(fā)現(xiàn):pvt法中通常伴隨的碳包裹產(chǎn)生的原因主要可歸結(jié)于以下兩點(diǎn):1、晶體生長(zhǎng)后期,碳化硅粉源發(fā)生嚴(yán)重石墨化;2、晶體生長(zhǎng)前中期,發(fā)生非化學(xué)計(jì)量比升華的富硅氣相組分,粉源至籽晶接長(zhǎng)面之間區(qū)域的石墨坩堝內(nèi)壁與非穩(wěn)態(tài)物質(zhì)發(fā)生結(jié)晶,部分碳再次反應(yīng)后形成細(xì)小的顆粒,隨著上浮的氣相摻雜到晶體中。

      2、對(duì)于問題1,通??梢酝ㄟ^增加裝料量及鋪設(shè)過濾層加以消除或抑制,此外,中后期形成的碳包裹對(duì)于晶體結(jié)構(gòu)缺陷(多型及微管)的產(chǎn)生影響不大,對(duì)碳化硅襯底片的切片良率影響較小。但是對(duì)于晶體生長(zhǎng)前中期發(fā)生的問題2型碳包裹,則會(huì)直接導(dǎo)致初期相變及伴生微管的產(chǎn)生。對(duì)于晶體質(zhì)量的影響則是致命性的;

      3、對(duì)于問題2型碳包裹,晶體生長(zhǎng)初期,碳化硅粉源發(fā)生非化學(xué)計(jì)量比分解升華,產(chǎn)生的富硅氣相組分(非穩(wěn)態(tài)物質(zhì))通過擴(kuò)散模型自粉源端向晶體生長(zhǎng)端輸運(yùn),當(dāng)靠近粉源與晶體接長(zhǎng)面區(qū)域內(nèi)的石墨坩堝內(nèi)壁后,由于軸向溫度梯度的存在,石墨坩堝內(nèi)壁溫度較低,這部分非穩(wěn)態(tài)的富硅氣相組分隨之發(fā)生結(jié)晶,即,非穩(wěn)態(tài)的富硅氣相組分在此區(qū)域內(nèi)與石墨壁發(fā)生反應(yīng),這就導(dǎo)致石墨坩堝內(nèi)壁處的一部分碳分解。

      4、由于在此區(qū)域內(nèi),雖可以部分發(fā)生反應(yīng),但尚不具備穩(wěn)定的結(jié)晶條件,故,此部分結(jié)晶產(chǎn)物會(huì)陸續(xù)分解,分解的過程中,再次形成富硅氣相組分和脫離的碳,因此,導(dǎo)致石墨坩堝內(nèi)壁中脫離的碳向上輸運(yùn),摻雜于晶體之內(nèi)。這部分碳包裹通常出現(xiàn)于晶體生長(zhǎng)初期,極易造成因碳包裹造成的多型相變,從而伴生微管或嚴(yán)重的螺旋位錯(cuò)缺陷。因此,對(duì)單晶的生長(zhǎng)是致命性的。

      5、本發(fā)明旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問題之一。為此,本發(fā)明在于提出一種可減少碳包裹的碳化硅熱場(chǎng)體系,在長(zhǎng)晶過程中,石墨筒內(nèi)部的弧形段因?yàn)椤摆吥w效應(yīng)”相對(duì)于同橫截面維度上溫度更高,有利于抑制晶體生長(zhǎng)初期由于非穩(wěn)態(tài)的富硅氣相組分在石墨筒內(nèi)壁發(fā)生結(jié)晶情況來減少前中期碳包裹。

      6、根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的可減少碳包裹的碳化硅熱場(chǎng)體系,包括:石墨蓋,所述石墨蓋的底部設(shè)有籽晶;石墨筒,所述石墨筒設(shè)于所述石墨蓋的下方,所述石墨筒的頂部與所述石墨蓋可拆卸地相連,所述石墨筒具有氣流通道,所述石墨筒包括弧形段和直管段,所述直管段位于所述弧形段的下方,所述直管段的頂端與所述弧形段的底端相連,所述弧形段的內(nèi)壁呈外凸的圓弧過渡,在從上到下的方向上,所述弧形段的內(nèi)徑逐漸增大;坩堝本體,所述石墨筒的底部與所述坩堝本體可拆卸地相連,所述坩堝本體的底部設(shè)有碳化硅粉源。

      7、根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的可減少碳包裹的碳化硅熱場(chǎng)體系,通過使得弧形段的內(nèi)壁呈外凸的圓弧過渡,可以增大弧形段內(nèi)壁的表面積,在長(zhǎng)晶過程中,石墨筒內(nèi)部的弧形段因?yàn)椤摆吥w效應(yīng)”相對(duì)于同橫截面維度上溫度更高,可以使得粉源至晶體接長(zhǎng)面區(qū)域石墨坩堝壁局部溫度升高,有利于抑制晶體生長(zhǎng)初期由于非穩(wěn)態(tài)的富硅氣相組分在石墨筒內(nèi)壁發(fā)生結(jié)晶情況來減少前中期碳包裹,從而提高碳化硅晶體的生長(zhǎng)質(zhì)量。

      8、在本發(fā)明的一些實(shí)施例中,所述碳化硅熱場(chǎng)體系還包括:石墨紙,所述石墨蓋蓋設(shè)于所述石墨筒上,所述石墨蓋的底部具有第一臺(tái)階槽,所述石墨筒的頂部具有與所述第一臺(tái)階槽相對(duì)的第二臺(tái)階槽,所述石墨紙位于所述第一臺(tái)階槽和所述第二臺(tái)階槽限定出的安裝空間內(nèi),所述籽晶通過所述石墨紙粘貼至所述石墨蓋。

      9、在本發(fā)明的一些實(shí)施例中,所述弧形段的高度h為80mm-120mm,所述弧形段的頂端的內(nèi)徑d1為155mm-165mm,所述弧形段的底端的內(nèi)徑d2為175mm-185mm。

      10、在本發(fā)明的一些實(shí)施例中,所述石墨筒的外徑d3為210mm-220mm,在從上到下的方向上,所述石墨筒的厚度逐步減小。

      11、在本發(fā)明的一些實(shí)施例中,所述石墨筒的壁厚t為8mm-10mm。

      12、在本發(fā)明的一些實(shí)施例中,所述石墨筒的內(nèi)壁具有多個(gè)溝槽,多個(gè)所述溝槽在所述石墨筒的周向均勻間隔開排布,每個(gè)溝槽在上下方向延伸且呈彎曲向所述籽晶端延伸。

      13、在本發(fā)明的一些實(shí)施例中,所述溝槽的橫截面形成為弧形。

      14、在本發(fā)明的一些實(shí)施例中,所述溝槽的深度w是3mm-4mm。

      15、在本發(fā)明的一些實(shí)施例中,所述碳化硅熱場(chǎng)體系還包括:過濾層,所述過濾層設(shè)于所述坩堝本體內(nèi)且位于所述碳化硅原料的上方,所述過濾層設(shè)有多個(gè)過濾孔,所述過濾孔的孔徑小于所述碳化硅粉的粒徑。

      16、在本發(fā)明的一些實(shí)施例中,所述石墨筒的底部具有第一螺紋段,所述坩堝本體具有第二螺紋段,所述第一螺紋段和所述第二螺紋段螺紋配合。

      17、本發(fā)明的附加方面和優(yōu)點(diǎn)將在下面的描述中部分給出,部分將從下面的描述中變得明顯,或通過本發(fā)明的實(shí)踐了解到。



      技術(shù)特征:

      1.一種可減少碳包裹的碳化硅熱場(chǎng)體系,其特征在于,包括:

      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可減少碳包裹的碳化硅熱場(chǎng)體系,其特征在于,還包括:

      3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可減少碳包裹的碳化硅熱場(chǎng)體系,其特征在于,所述弧形段的高度h為80mm-120mm,所述弧形段的頂端的內(nèi)徑d1為155mm-165mm,所述弧形段的底端的內(nèi)徑d2為175mm-185mm。

      4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的可減少碳包裹的碳化硅熱場(chǎng)體系,其特征在于,所述石墨筒的外徑d3為210mm-220mm,在從上到下的方向上,所述石墨筒的厚度逐步減小。

      5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的可減少碳包裹的碳化硅熱場(chǎng)體系,其特征在于,所述石墨筒的壁厚t為8mm-10mm。

      6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可減少碳包裹的碳化硅熱場(chǎng)體系,其特征在于,所述石墨筒的內(nèi)壁具有多個(gè)溝槽,多個(gè)所述溝槽在所述石墨筒的周向均勻間隔開排布,每個(gè)溝槽在上下方向延伸且呈彎曲向所述籽晶端延伸。

      7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的可減少碳包裹的碳化硅熱場(chǎng)體系,其特征在于,所述溝槽的橫截面形成為弧形。

      8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的可減少碳包裹的碳化硅熱場(chǎng)體系,其特征在于,所述溝槽的深度w是3mm-4mm。

      9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可減少碳包裹的碳化硅熱場(chǎng)體系,其特征在于,還包括:

      10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可減少碳包裹的碳化硅熱場(chǎng)體系,其特征在于,所述石墨筒的底部具有第一螺紋段,所述坩堝本體具有第二螺紋段,所述第一螺紋段和所述第二螺紋段螺紋配合。


      技術(shù)總結(jié)
      本發(fā)明公開了一種可減少碳包裹的碳化硅熱場(chǎng)體系,包括:石墨蓋,石墨蓋的底部設(shè)有籽晶;石墨筒,石墨筒設(shè)于石墨蓋的下方,石墨筒的頂部與石墨蓋可拆卸地相連,石墨筒具有氣流通道,石墨筒包括弧形段和直管段,直管段位于弧形段的下方,直管段的頂端與弧形段的底端相連,弧形段的內(nèi)壁呈外凸的圓弧過渡,在從上到下的方向上,弧形段的內(nèi)徑逐漸增大;坩堝本體,石墨筒的底部與坩堝本體可拆卸地相連,坩堝本體的底部設(shè)有碳化硅粉源。根據(jù)本發(fā)明的碳化硅熱場(chǎng)體系,在長(zhǎng)晶過程中,石墨筒內(nèi)部的弧形段因?yàn)椤摆吥w效應(yīng)”相對(duì)于同橫截面維度上溫度更高,有利于抑制晶體生長(zhǎng)初期由于非穩(wěn)態(tài)的富硅氣相組分在石墨筒內(nèi)壁發(fā)生結(jié)晶情況來減少前中期碳包裹。

      技術(shù)研發(fā)人員:李遠(yuǎn)田,吳建
      受保護(hù)的技術(shù)使用者:江蘇集芯先進(jìn)材料有限公司
      技術(shù)研發(fā)日:
      技術(shù)公布日:2024/9/9
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