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      一種高品質(zhì)高純度壓電水晶的快速生長方法與流程

      文檔序號:39961002發(fā)布日期:2024-11-12 14:18閱讀:37來源:國知局
      一種高品質(zhì)高純度壓電水晶的快速生長方法與流程

      本發(fā)明屬于壓電水晶制造,尤其涉及一種高品質(zhì)高純度壓電水晶的快速生長方法。


      背景技術(shù):

      1、壓電水晶(piezoquartz),即壓電石英,是指具有壓電效應(yīng)的水晶單晶。作為壓電水晶工業(yè)原料的晶體中,不允許有道芬雙晶、巴西雙晶、節(jié)瘤、裂隙、綿、包裹體(固體、氣體、液體)等影響壓電效應(yīng)的缺陷存在。用這種單晶片制成高精度、高比值的壓電水晶元件(如諧振器、濾波器等),具有最高的頻率穩(wěn)定性。目前使用的壓電水晶分為天然水晶和人造水晶,但天然水晶中難免存在雜志,影響了壓電水晶的性能,而人造水晶生長目前一般采用水熱溫差法,在密封的高壓釜內(nèi)進行。為了制造出無色透明、不含雜質(zhì)、裂隙等缺陷,并滿足一定幾何尺寸要求的人造水晶單晶,對于水晶的生長方法要求較高。目前的工藝使用天然石英石作為培養(yǎng)體,如果石英石中含有雜質(zhì),這些雜質(zhì)會在晶體生長過程中傳播,導(dǎo)致整個晶體的質(zhì)量下降,影響水晶的生長速度,石英石的純度會影響晶體生長的速率,高純度的石英石可以促進更均勻的生長速率,并且高純度的石英石有助于生長出更大尺寸的晶體,因為雜質(zhì)的減少也減少了晶體生長過程中可能發(fā)生的問題,如晶體破裂或生長中斷。

      2、授權(quán)公告號為cn101275273b的中國發(fā)明專利公開了一種壓電水晶的制造方法,將顆粒狀天然石英石作為培養(yǎng)體,但該發(fā)明僅將天然石英石簡單清洗,未提及對天然石英石的具體清洗過程。公開號為cn103938271a的中國發(fā)明專利公開了一種壓電水晶的生長方法,該發(fā)明用洗衣粉除去天然石英石表面雜質(zhì)去除,然后將清洗后的石英石投入高壓釜中生長壓電水晶,洗衣粉的主要成分為陰離子表面活性劑,易在洗滌物體表面形成吸附膜殘留在物體上,影響雜質(zhì)的去除,且陰離子表面活性劑還容易與鈣、鎂等離子結(jié)合從而影響清洗效果。


      技術(shù)實現(xiàn)思路

      1、針對上述情況,為克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷,本發(fā)明提供了一種高品質(zhì)高純度壓電水晶的快速生長方法,該方法通過特殊的清洗和生長步驟,有效去除天然石英石中的雜質(zhì),提高晶體生長的速率和質(zhì)量,從而獲得具有高頻率穩(wěn)定性和低內(nèi)部缺陷的壓電水晶單晶。

      2、為了實現(xiàn)上述目的,采用了如下技術(shù)方案:本發(fā)明提供了一種高品質(zhì)高純度壓電水晶的快速生長方法,包括如下步驟:

      3、s1、將端烯丙基聚醚和二甘醇酐混合,通入氮氣,加熱到50-60℃再加入羥丙基封端聚二甲基硅氧烷和三環(huán)己基膦,攪拌均勻,最后加入二烯丙基異氰脲酸酯和醋酸鈀,得到含硅的gemini型表面活性劑;

      4、s2、將天然石英石分選后,用去離子水清洗除去表面雜質(zhì),然后將分選后的天然石英石放入料槽中,將料槽浸入鹽酸溶液中,再加入所述含硅的gemini型表面活性劑,通過超聲裝置對鹽酸溶液超聲處理,10-20min后將料槽取出,迅速將料槽浸入室溫的去離子水中急冷,再次重復(fù)超聲和急冷過程,將得到的石英料破碎、篩分,選取直徑為1.5-3cm的石英粉碎料作為培養(yǎng)體,放入高壓釜下部;

      5、s3、向高壓釜內(nèi)裝入高純水,將壓電水晶沿c方向切割得到z軸籽晶,將z軸籽晶置于氫氟酸溶液中浸泡4-5h,然后用去離子水清洗,再進行切割,打孔,將籽晶懸掛在籽晶架上,再將籽晶架裝入高壓釜中,籽晶架上設(shè)置隔離板,隔離板上設(shè)置對流孔,然后密封高壓釜;

      6、s4、啟動高壓釜,分別對高壓釜的上部和下部進行程序控溫,保溫保壓50-55天后得到壓電水晶。

      7、進一步地,所述端烯丙基聚醚、二甘醇酐、羥丙基封端聚二甲基硅氧烷、三環(huán)己基膦、二烯丙基異氰脲酸酯、醋酸鈀的投料質(zhì)量比為80-120:10-15:120-150:1-5:20-30:1-5。

      8、進一步地,所述鹽酸溶液的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為10%-20%。

      9、進一步地,所述含硅的gemini型表面活性劑的用量為鹽酸溶液質(zhì)量的1%-5%。

      10、進一步地,所述超聲處理的功率20-35w/l,溫度為60-80℃。

      11、進一步地,所述氫氟酸溶液的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為20%-30%。

      12、進一步地,所述高純水的填充度為75%-85%。

      13、進一步地,所述隔離板上對流孔的孔徑為15-30mm,所述隔離板的開孔率為4%-8%。

      14、進一步地,所述高壓釜的壓力為140-160mpa。

      15、進一步地,所述高壓釜的上部以4℃/min升溫至100-110℃,保溫4h,然后以4℃/min升溫至230-250℃,保溫20h,再以4℃/min升溫至320-340℃,保溫至生長結(jié)束;

      16、進一步地,所述高壓釜的上部以4℃/min升溫至120-130℃,保溫4h,然后以4℃/min升溫至260-270℃,保溫20h,再以4℃/min升溫至340-360℃,保溫至生長結(jié)束。

      17、本發(fā)明的有益效果是:

      18、(1)本發(fā)明制備了含硅的gemini型表面活性劑,gemini表面活性劑相較于傳統(tǒng)的洗衣粉類表面活性劑,具有更低的臨界膠束濃度,能更有效地降低表面張力,清洗效果更好,本發(fā)明將其與鹽酸溶液一起使用,并通過超聲波處理對天然石英石清洗,超聲處理使石英石和鹽酸溶液之間產(chǎn)生攪動加速了石英石與酸之間的化學(xué)反應(yīng)速度,從而快速除去天然石英石中的雜質(zhì);

      19、(2)本發(fā)明制得的含硅的gemini型表面活性劑具有較好的水溶性和耐鹽性,其含有的有機硅和異氰脲酸酯有耐酸和耐溫的性質(zhì),不會受到清洗環(huán)境和溫度變化的影響而降低清洗效果;

      20、(3)本發(fā)明通過先加熱再用去離子水急冷,使石英石在溫度驟變時產(chǎn)生裂紋,從而使其包裹的雜質(zhì)充分暴露,為后續(xù)的清洗步驟提供了更多的接觸面積,配合gemini型表面活性劑、鹽酸溶液和超聲處理,實現(xiàn)了更深層次的雜質(zhì)去除,并且還能促進天然石英石后續(xù)的破碎和篩分;

      21、(4)本發(fā)明的方法不僅提高了壓電水晶的生長速率,縮短了生產(chǎn)周期,而且通過精確控制生長條件,實現(xiàn)了對壓電水晶晶體質(zhì)量的優(yōu)化,所得到的壓電水晶具有更高的q值、更低的內(nèi)部缺陷和腐蝕隧道密度,制得的壓電水晶具有高品質(zhì)高純度的優(yōu)點,滿足了高精度電子元件制造的嚴(yán)格要求。



      技術(shù)特征:

      1.一種高品質(zhì)高純度壓電水晶的快速生長方法,其特征在于:包括如下步驟:

      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高品質(zhì)高純度壓電水晶的快速生長方法,其特征在于:所述端烯丙基聚醚、二甘醇酐、羥丙基封端聚二甲基硅氧烷、三環(huán)己基膦、二烯丙基異氰脲酸酯、醋酸鈀的投料質(zhì)量比為80-120:10-15:120-150:1-5:20-30:1-5。

      3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種高品質(zhì)高純度壓電水晶的快速生長方法,其特征在于:所述鹽酸溶液的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為10%-20%。

      4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種高品質(zhì)高純度壓電水晶的快速生長方法,其特征在于:所述含硅的gemini型表面活性劑的用量為鹽酸溶液質(zhì)量的1%-5%。

      5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種高品質(zhì)高純度壓電水晶的快速生長方法,其特征在于:所述超聲處理的功率20-35w/l,溫度為60-80℃。

      6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種高品質(zhì)高純度壓電水晶的快速生長方法,其特征在于:所述氫氟酸溶液的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為20%-30%。

      7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種高品質(zhì)高純度壓電水晶的快速生長方法,其特征在于:所述高純水的填充度為75%-85%。

      8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種高品質(zhì)高純度壓電水晶的快速生長方法,其特征在于:所述隔離板上對流孔的孔徑為15-30mm,所述隔離板的開孔率為4%-8%。

      9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種高品質(zhì)高純度壓電水晶的快速生長方法,其特征在于:所述高壓釜的壓力為140-160mpa。

      10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的一種高品質(zhì)高純度壓電水晶的快速生長方法,其特征在于:所述高壓釜的上部以4℃/min升溫至100-110℃,保溫4h,然后以4℃/min升溫至230-250℃,保溫20h,再以4℃/min升溫至320-340℃,保溫至生長結(jié)束;


      技術(shù)總結(jié)
      本發(fā)明公開了一種高品質(zhì)高純度壓電水晶的快速生長方法,屬于壓電水晶制造技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明制備了含硅的Gemini型表面活性劑,清洗效果好,與鹽酸溶液一起使用,通過超聲波處理對天然石英石清洗,加速了石英石與酸之間的化學(xué)反應(yīng)速度,快速除去天然石英石中的雜質(zhì)。含硅的Gemini型表面活性劑具有較好的水溶性和耐鹽性,有機硅和異氰脲酸酯有耐酸和耐溫的性質(zhì)。本發(fā)明先加熱再用去離子水急冷,使石英石在溫度驟變時產(chǎn)生裂紋,使其包裹的雜質(zhì)充分暴露,實現(xiàn)了更深層次的雜質(zhì)去除,促進天然石英石后續(xù)的破碎和篩分。本發(fā)明提高了壓電水晶的生長速率,縮短了生產(chǎn)周期,得到的壓電水晶具有更高的Q值、更低的內(nèi)部缺陷和腐蝕隧道密度,具有高品質(zhì)高純度的優(yōu)點。

      技術(shù)研發(fā)人員:李東偉,李林旺,任冰,馬增建
      受保護的技術(shù)使用者:山東晶湖科技有限公司
      技術(shù)研發(fā)日:
      技術(shù)公布日:2024/11/11
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