本申請屬于多晶硅制造領(lǐng)域,尤其涉及一種三氯氫硅還原控制方法。
背景技術(shù):
1、多晶硅是現(xiàn)代半導(dǎo)體和光伏行業(yè)中不可或缺的基礎(chǔ)材料,其生產(chǎn)過程中最常用的方法是西門子法,這種方法的核心反應(yīng)涉及三氯氫硅和氫氣在高溫下的化學(xué)還原,生成高純度的多晶硅。還原爐是該反應(yīng)的主要設(shè)備之一,其中電流的調(diào)整對反應(yīng)的效率、產(chǎn)品質(zhì)量以及能耗有著至關(guān)重要的影響。
2、在化學(xué)還原反應(yīng)的過程中,隨著硅在硅棒表面沉積,硅棒的電阻將發(fā)生變化,為了保持還原爐內(nèi)溫度的穩(wěn)定,硅棒的電流也要做出相應(yīng)的調(diào)整。若電流過高,導(dǎo)致還原爐內(nèi)溫度過高,會(huì)加速設(shè)備的老化,增加故障風(fēng)險(xiǎn),還可能導(dǎo)致硅沉積過快,影響沉積質(zhì)量。若電流過低,三氯氫硅和氫氣的反應(yīng)速率低,會(huì)導(dǎo)致硅的沉積速度下降,結(jié)晶不均勻。另外氫氣和三氯氫硅的進(jìn)料也是影響系統(tǒng)轉(zhuǎn)化效率的關(guān)鍵因素之一。
3、傳統(tǒng)的控制方法多采用人工經(jīng)驗(yàn),通過觀察窗觀察硅棒的生產(chǎn)情況對電流、進(jìn)料進(jìn)行手動(dòng)調(diào)節(jié),或是采取控制程序按照預(yù)先設(shè)定好的電流曲線或者進(jìn)料曲線進(jìn)行控制。前者需要人工實(shí)時(shí)監(jiān)控硅棒的生長情況,存在效率低的缺點(diǎn),而后者只能根據(jù)預(yù)設(shè)的曲線去調(diào)整,無法實(shí)時(shí)根據(jù)還原爐狀態(tài)進(jìn)行調(diào)節(jié)。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、為了克服上述現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷,本申請通過構(gòu)建神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型,以沉積效率作為評價(jià)指標(biāo),在線調(diào)節(jié)溫度、氫氣、三氯氫硅進(jìn)料,最大化原料的利用率。
2、本申請的目的在于提供一種三氯氫硅還原控制方法,包括:
3、采集生產(chǎn)多晶硅過程中各參數(shù)的時(shí)間序列數(shù)據(jù);
4、利用特征提取器對時(shí)間序列數(shù)據(jù)進(jìn)行特征提??;
5、基于提取的特征建立與訓(xùn)練預(yù)測模型;
6、使用訓(xùn)練好的預(yù)測模型控制多晶硅生產(chǎn)過程的溫度、氫氣進(jìn)料和三氯氫硅進(jìn)料,調(diào)節(jié)沉積效率。
7、進(jìn)一步地,各參數(shù)的時(shí)間序列數(shù)據(jù)包括溫度、氫氣進(jìn)料和三氯氫硅進(jìn)料的時(shí)間序列數(shù)據(jù)。
8、進(jìn)一步地,特征提取器包括依次連接的卷積層、遞歸層、全連接層、沉積效率預(yù)測層和輸出層,特征提取器的輸入表達(dá)式為:
9、
10、其中,t(t)為溫度的時(shí)間序列數(shù)據(jù),為氫氣進(jìn)料的時(shí)間序列數(shù)據(jù),為三氯氫硅進(jìn)料的時(shí)間序列數(shù)據(jù)。
11、進(jìn)一步地,卷積層的表達(dá)式為:
12、xcnn(t)=relu(conv1d(x(t)·wcnn+bcnn))
13、其中,wcnn為卷積核,bcnn為偏置。
14、進(jìn)一步地,遞歸層的表達(dá)式為:
15、hlstm(t)=lstm(xcnn(t))
16、進(jìn)一步地,全連接層的表達(dá)式為:
17、hfc(t)=relu(wfc·hlstm(t)+bfc)
18、其中,wfc為全連接層的權(quán)重,bfc為全連接層的偏置。
19、進(jìn)一步地,沉積效率預(yù)測層的表達(dá)式為:
20、η(t)=wout·hfc(t)+bout
21、其中,wout為輸出層的權(quán)重,bout為輸出層的偏置。
22、進(jìn)一步地,基于提取的特征建立與訓(xùn)練預(yù)測模型,包括:
23、對特征提取獲得的沉積效率與時(shí)間序列數(shù)據(jù)進(jìn)行分割,得到訓(xùn)練集和驗(yàn)證集;
24、對訓(xùn)練集的數(shù)據(jù)進(jìn)行歸一化;
25、利用歸一化后的訓(xùn)練集的數(shù)據(jù)進(jìn)行神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型訓(xùn)練,利用驗(yàn)證集的數(shù)據(jù)進(jìn)行超參數(shù)調(diào)整。
26、進(jìn)一步地,基于提取的特征建立與訓(xùn)練預(yù)測模型,還包括:
27、對訓(xùn)練過程中的損失函數(shù)和評估指標(biāo)進(jìn)行監(jiān)控。
28、進(jìn)一步地,基于提取的特征建立與訓(xùn)練預(yù)測模型之后,對預(yù)測模型的預(yù)測結(jié)果進(jìn)行誤差評估,計(jì)算沉積效率的預(yù)測結(jié)果和實(shí)際值的均方誤差。
29、本申請的技術(shù)效果和優(yōu)點(diǎn):
30、本申請通過對影響三氯氫硅轉(zhuǎn)化多晶硅效率的因素進(jìn)行研究,確定影響多晶硅生產(chǎn)過程的主要參數(shù),以多晶硅的沉積效率作為三氯氫硅還原反應(yīng)的評價(jià)標(biāo)準(zhǔn),構(gòu)建并訓(xùn)練基于溫度、氫氣和三氯氫硅進(jìn)料的時(shí)間序列數(shù)據(jù)預(yù)測預(yù)測沉積效率的神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型,實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)調(diào)整溫度、氫氣進(jìn)料參數(shù)和三氯氫硅進(jìn)料參數(shù),快速響應(yīng)生產(chǎn)過程中的變化,減少因外部因素導(dǎo)致的生產(chǎn)波動(dòng),提升生產(chǎn)穩(wěn)定性,確保在不同生產(chǎn)條件下始終達(dá)到最佳沉積效率。
31、本申請的其它特征和優(yōu)點(diǎn)將在隨后的說明書中闡述,并且,部分地從說明書中變得顯而易見,或者通過實(shí)施本申請而了解。本申請的目的和其他優(yōu)點(diǎn)可通過在說明書、權(quán)利要求書以及附圖中所指出的結(jié)構(gòu)來實(shí)現(xiàn)和獲得。
1.一種三氯氫硅還原控制方法,其特征在于,包括:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種三氯氫硅還原控制方法,其特征在于,所述各參數(shù)的時(shí)間序列數(shù)據(jù)包括溫度、氫氣進(jìn)料和三氯氫硅進(jìn)料的時(shí)間序列數(shù)據(jù)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種三氯氫硅還原控制方法,其特征在于,所述特征提取器包括依次連接的卷積層、遞歸層、全連接層、沉積效率預(yù)測層和輸出層,所述特征提取器的輸入表達(dá)式為:
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種三氯氫硅還原控制方法,其特征在于,所述卷積層的表達(dá)式為:
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種三氯氫硅還原控制方法,其特征在于,所述遞歸層的表達(dá)式為:
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種三氯氫硅還原控制方法,其特征在于,所述全連接層的表達(dá)式為:
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種三氯氫硅還原控制方法,其特征在于,所述沉積效率預(yù)測層的表達(dá)式為:
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種三氯氫硅還原控制方法,其特征在于,所述的基于提取的特征建立與訓(xùn)練預(yù)測模型,包括:
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種三氯氫硅還原控制方法,其特征在于,所述的基于提取的特征建立與訓(xùn)練預(yù)測模型,還包括:
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種三氯氫硅還原控制方法,其特征在于,在基于提取的特征建立與訓(xùn)練預(yù)測模型之后,對預(yù)測模型的預(yù)測結(jié)果進(jìn)行誤差評估,計(jì)算沉積效率的預(yù)測結(jié)果和實(shí)際值的均方誤差。