本發(fā)明涉及建筑陶瓷領(lǐng)域，尤其涉及一種幻彩大理石瓷磚及其制造方法。

背景技術(shù)：

1、傳統(tǒng)大理石瓷磚生產(chǎn)制造著重在于紋理與噴墨調(diào)色，對于天然大理石中的石材晶體，由于光線折射產(chǎn)生的色彩變化，難以有效表達(dá)。而這些石材晶體對對光線的分解，產(chǎn)生的幻彩效果卻是石材最迷人的部分。

2、目前行業(yè)內(nèi)在制作幻彩干粒釉層時(shí)，通常以透明干粒作為基礎(chǔ)料，在其中混合少量閃爍干粒(1-3％)，整面布施，達(dá)到磚面有零星閃爍的效果，并不能夠真正完全復(fù)刻天然大理石的幻彩效果，但如果閃爍干粒添加量過大，則會影響磚面紋理的清晰度。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、針對上述問題，本發(fā)明通過改進(jìn)現(xiàn)有的幻彩干粒釉層的成分及工藝，提供一種幻彩大理石及其制造方法。

2、為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采取的技術(shù)方案為：

3、一種幻彩大理石的制造方法，包括以下步驟：

4、(1)在陶瓷磚坯表面施底釉，然后噴墨打印大理石紋理圖案；

5、(2)在步驟(1)得到的陶瓷磚坯表面，絲網(wǎng)印刷施色釉；

6、(3)在色釉的表面局部定位布施幻彩干粒釉，所述幻彩干粒釉由40-50份透明干粒、20-30份閃爍干粒、20-30份印油、10-15份印膏混合而成；按照重量百分比，所述透明干粒化學(xué)組成為sio2?55-60％、al2o3?5.5-8.5％、fe2o3?0-0.3％、cao?10-15％、mgo?0.2-0.3％、bao?1.5-4％、zno?8-15％、k2o?5-9％、na2o?0-3％、zro2?0.2-0.5％、tio2?0-1.5％，其余為燒失量；所述閃爍干?；瘜W(xué)組成為sio2?30-40％、zro2?60-70％、al2o3?0-1％、cao0-1％、tio2?0-1％，其余為燒失量；

7、(4)在步驟(3)得到的陶瓷磚坯表面淋保護(hù)釉；

8、(5)將步驟(4)所得的磚坯燒制成型；

9、(6)將步驟(5)所得的磚坯拋光及打蠟。

10、本發(fā)明方案通過采用局部定點(diǎn)布施幻彩干粒釉，可加大幻彩干粒釉中閃爍干料比例，而且在幻彩干粒度釉中，由于本發(fā)明采用的透明干粒熔點(diǎn)較低，在燒制過程中，先熔融包裹住熔點(diǎn)高的閃爍干粒，使得釉面層中，被包裹的閃爍干粒可以層層堆積，形成光線的折射層，從而形成更逼真的幻彩效果。進(jìn)一步結(jié)合保護(hù)釉層，由于保護(hù)釉在釉面層具有一定厚度，可以對其進(jìn)行全拋光，使得磚面平整，且不傷害釉下層。既可以為磚面拋光提供較高的切削量，又不影響磚面的防污等性能。而且由于在表面淋了一層保護(hù)釉，使得閃爍干粒在釉層的上下均有分布，形成立體的閃爍幻彩效果，即使拋光也不會影響到表面閃爍幻彩的立體效果。而且拋光打蠟后，磚面被磨平，由于磚面光度較高、平整度較好、釉面通透，光線可以很好的照射釉面中的閃爍干粒，并由數(shù)量眾多的閃爍干粒發(fā)生折射，產(chǎn)生逼真的幻彩漸變的效果。

11、優(yōu)選地，所述步驟(2)中，通過調(diào)整網(wǎng)版，使絲網(wǎng)不同紋理之間的顏色相互侵染，這樣可以使得瓷磚的變化過渡自然，可彌補(bǔ)噴墨打印在顏色的豐富度、鮮艷度以及層次感上的不足，提升大理石瓷磚的觀賞性。

12、優(yōu)選地，所述步驟(3)中，按照質(zhì)量比，幻彩干粒釉中，幻彩干粒：閃爍干粒＝1：0.4～0.6，最終得到的瓷磚幻彩效果和斷裂模數(shù)均較好。

13、優(yōu)選地，所述步驟(3)中，所述幻彩干粒釉的布施量為1-1.2kg/m2，厚度0.75-1.5mm。

14、優(yōu)選地，所述步驟(3)中，所述透明干粒粒徑為37-75μm，所述閃爍干粒粒徑為150-250μm。

15、優(yōu)選地，所述步驟(4)中，保護(hù)釉為保護(hù)釉粉分散在水中而形成漿料，其中所述保護(hù)釉粉的化學(xué)組成為sio2?40-45％、al2o3?6-10％、fe2o3≤0.3％、cao?6-10％、mgo?3-6％、bao?7-12％、zno?3-6％、k2o?2-5％、na2o?2-5％、sro?2-5％、so3?1-2.5％、tio2≤0.5％，其余為燒失量。

16、優(yōu)選地，所述步驟(4)中，保護(hù)釉布施量為400-600g/m2，以便達(dá)到一定的厚度，利于拋光打蠟，形成平整、光亮的表面。

17、優(yōu)選地，所述步驟(5)中，燒制溫度為1185-1225℃，燒制時(shí)間45-60min；溫度過低或時(shí)間過短，都容易導(dǎo)致瓷磚釉面未完全熔融?；?，影響磚面的通透度。

18、優(yōu)選地，所述步驟(6)中，拋光后基底磚面光度在70°-80°之間，打蠟后基底磚面光度在90°-100°之間，這樣磚面平整通透，在光線照射下，更好地局部呈現(xiàn)出幻彩效果。

19、優(yōu)選地，所述步驟(6)中，拋光工藝為先采用10組400目彈性磨塊，10組600目彈性磨塊，壓力4kg；然后10組800目彈性磨塊，10組1000目彈性模塊，壓力為2kg；最后20組240目海綿拋，壓力為0.5kg。打蠟工藝可以選擇常用的陶瓷拋光蠟，如在本發(fā)明一個(gè)具體實(shí)施例中，采用雙益中光蠟，滴涂量為12-15g/m2

20、本發(fā)明的另一方面，還提供了上述制造方法制備得到的幻彩大理石瓷磚。

21、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有以下有益效果：

22、本發(fā)明方案通過改進(jìn)幻彩干粒釉組分，且在局部布施幻彩干粒釉，燒成的大理石瓷磚可以形成逼真的幻彩效果并不會影響磚面整體的紋理清晰度。而且由于在表面淋了一層一定厚度的透明保護(hù)釉，使得閃爍干粒在釉層的上下均有分布，可形成立體的閃爍幻彩效果。即使拋光也不會影響到表面閃爍幻彩的立體效果。

技術(shù)特征：

1.一種幻彩大理石瓷磚的制造方法，其特征在于，包括以下步驟：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述步驟(2)中，通過調(diào)整網(wǎng)版，使絲網(wǎng)不同紋理之間的顏色相互侵染。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述步驟(3)中，按照質(zhì)量比，幻彩干粒釉中，透明干粒：閃爍干粒＝1：0.4～0.6。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述步驟(3)中，所述幻彩干粒釉的布施量為1-1.2kg/m2，厚度0.75-1.5mm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述步驟(3)中，所述透明干粒粒徑為37-75μm，所述閃爍干粒粒徑為150-250μm。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述步驟(4)中，保護(hù)釉為保護(hù)釉粉分散在水中而形成漿料；按照重量百分比，所述保護(hù)釉粉的化學(xué)組成為sio2?40-45％、al2o36-10％、fe2o3≤0.3％、cao?6-10％、mgo?3-6％、bao?7-12％、zno?3-6％、k2o?2-5％、na2o?2-5％、sro?2-5％、so3?1-2.5％、tio2≤0.5％，其余為燒失量。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述步驟(4)中，保護(hù)釉布施量為400-600g/m2。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述步驟(5)中，燒制溫度為1185-1225℃，燒制時(shí)間45-60min。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述步驟(6)中，拋光后基底磚面光度在70°-80°之間，打蠟后基底磚面光度在90°-100°之間。

10.一種幻彩大理石瓷磚，其特征在于，采用如權(quán)利要求1-9任一項(xiàng)所述的制造方法制備得到。

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明屬于建筑陶瓷領(lǐng)域，尤其涉及一種幻彩大理石瓷磚及其制造方法，本發(fā)明的制造方法包括步驟：在陶瓷磚坯表面施底釉，然后噴墨打印大理石紋理圖案；絲網(wǎng)印刷施色釉；在色釉的表面局部定位布施幻彩干粒釉；淋保護(hù)釉；燒制成型；拋光及打蠟。本發(fā)明方案通過改進(jìn)幻彩干粒釉組分，在局部布施幻彩干粒釉，燒成的大理石瓷磚可以形成逼真的幻彩效果且并不會影響磚面整體的紋理清晰度。而且由于在表面淋了一層保護(hù)釉，使得閃爍干粒在釉層的上下均有分布，形成立體的閃爍幻彩效果，即使拋光也不會影響到表面閃爍幻彩的立體效果。

技術(shù)研發(fā)人員：李志豪,黃少卿,黃文鋒,鄧波
受保護(hù)的技術(shù)使用者：清遠(yuǎn)市簡一陶瓷有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/12/17