專利名稱:一種窯變拋釉磚的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種陶瓷制品，尤其涉及拋釉磚產(chǎn)品技術(shù)領(lǐng)域：
。
背景技術(shù)：
陶瓷制品的應(yīng)用場(chǎng)合非常廣，僅以陶瓷磚為例，就可廣泛應(yīng)用于墻壁、地面，可用 于家居或辦公場(chǎng)所大面積的鋪設(shè)，也可以用于小面積的裝飾墻，或者是裝飾畫。不同的應(yīng)用 場(chǎng)合需要不同風(fēng)格的產(chǎn)品。
公開號(hào)為CN1197043A，發(fā)明名稱為"夜光印刷釉及其印花夜光釉面磚的制作方法" 的中國(guó)發(fā)明專利申請(qǐng)公開了一種夜光印刷釉及其印花夜光釉面磚的制作方法，其采用了瓷 坯素?zé)?、釉燒和夜光釉烤燒三次燒成工藝，制得的產(chǎn)品亮度高，余輝時(shí)間長(zhǎng)，經(jīng)照射后可在 暗處發(fā)出彩色光。
公開號(hào)為CN1281778A，發(fā)明名稱為"一種堆晶浮雕磚的生產(chǎn)方法"的中國(guó)發(fā)明專利 申請(qǐng)公開了一種堆晶浮雕磚的生產(chǎn)方法，該方法利用熔塊在高溫熔融時(shí)乳濁熔塊的熔解和 流動(dòng)在產(chǎn)品浮雕部分形成含有近似于結(jié)晶釉晶花的花紋組合，生產(chǎn)出來的產(chǎn)品浮雕部分具 有獨(dú)特的自然晶花，立體感強(qiáng)。
公開號(hào)為CN100387545C，發(fā)明名稱為"基于熔塊包裹著色術(shù)的仿石材圖案釉面陶 瓷磚的制造方法"的中國(guó)發(fā)明專利公開了一種基于熔塊包裹著色術(shù)的仿石材圖案釉面陶瓷 磚的制造方法，是將顏色釉漿經(jīng)過噴涂、淋涂或甩灑等方式施涂至玻璃熔塊表面，然后經(jīng)過 干燥，在熔塊表面形成一定具有厚度的包裹層，而后將包裹著色的熔塊按照預(yù)先設(shè)計(jì)好的 方案鋪積至陶瓷磚坯上，再補(bǔ)充施加粘性水漿液，使熔塊顆粒層粘接固定在陶瓷磚坯上，再 經(jīng)干燥、燒成、拋磨等工藝，形成具有天然石材外觀效果的圖案。
再如，公開號(hào)為CN1644559，發(fā)明名稱為"一種鍍金屬拋釉陶瓷制品及其制作工藝" 的中國(guó)發(fā)明專利公開了一種鍍金屬拋釉磚的制作工藝，其特點(diǎn)是先將釉料調(diào)制成的印花 膏通過刻制成圖案的網(wǎng)板印制在磚胚上，再在圖案上印刷透明熔塊粉，然后一次燒成，繼而 進(jìn)行拋光處理。所制得的產(chǎn)品圖案清晰、圖案間界限分明、立體感強(qiáng)。在制作過程中，熔塊 粉和釉料不發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。熔塊粉能使產(chǎn)品更富有立體感，但其本身并不構(gòu)成圖案的組成 部分，只是起到把釉料印制成的圖案固定在磚胚上的作用。為了能清晰地透出圖案及色彩， 熔塊粉必須采用透明的熔塊粉。根據(jù)上述發(fā)明可成功地制作出色澤好、立體感強(qiáng)、圖案線條 清晰突出的陶瓷制品，滿足某方面的市場(chǎng)需求。
但市場(chǎng)的需求是多樣化的，因而生產(chǎn)者需要不斷地研發(fā)及創(chuàng)新才能滿足、甚至創(chuàng) 造出多種多樣的市場(chǎng)需求。

發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的在于填補(bǔ)現(xiàn)有技術(shù)的部分空白，提供一種圖案及色彩具有自然 混合，顏色漸變細(xì)膩、層次感強(qiáng)的拋釉磚。
為了達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型采用了以下技術(shù)方案一種拋釉磚，其特征在于
3包括磚胚、燒結(jié)成形于磚胚上面的熔塊層及由熔塊層與釉料進(jìn)行窯變反應(yīng)形成的窯變釉層。
本實(shí)用新型所制成的陶瓷磚，熔塊層表面在窯爐的高溫下與裝飾釉層的釉料發(fā)生 發(fā)應(yīng)，圖案的形狀及色彩的形成不但取決于印制上去的釉料，還受熔塊層表面與釉料發(fā)生 發(fā)應(yīng)后的結(jié)果而影響。受反應(yīng)的影響，不同色塊之間的邊界模糊，過渡自然，具有成熟、高 貴、華麗的美感。所制作的陶瓷磚裝飾效果好，可用作規(guī)則的鋪排，也可以根據(jù)大型地面/ 墻壁設(shè)計(jì)，而鋪設(shè)出具有強(qiáng)烈視覺效果的主題場(chǎng)景。本實(shí)用新型具有廣闊的市場(chǎng)前景和良 好的經(jīng)濟(jì)和社會(huì)效益。


圖1是實(shí)施例1的成S5結(jié)構(gòu)圖。
圖2是實(shí)施例2的成S5結(jié)構(gòu)圖。
圖3是實(shí)施例3的成S5結(jié)構(gòu)圖。
圖4是實(shí)施例4的成S5結(jié)構(gòu)圖。
圖5是實(shí)施例5的成S5結(jié)構(gòu)圖。
圖6是實(shí)施例6的成S5結(jié)構(gòu)圖。
圖7是實(shí)施例7的成S5結(jié)構(gòu)圖。
具體實(shí)施方式
實(shí)施例1
如圖1所示，底層為磚胚1，覆蓋于磚胚上的為熔塊層2，最上面的為經(jīng)拋光的窯變 釉層3。
依次按照以下工藝步驟進(jìn)行生產(chǎn)
(1)對(duì)磚坯1進(jìn)行表面處理；
(2)調(diào)制熔塊粉，根據(jù)已制好的網(wǎng)板將調(diào)制好的熔塊粉印制在磚面上形成圖案，然 后進(jìn)行第一次燒成；
熔塊粉可采用透明的熔塊粉，也可以采用不透明的熔塊粉，其色彩根據(jù)設(shè)計(jì)的需
要而選擇。熔塊粉的粉細(xì)度為80 200目，主要成份由硼鋁硅酸鹽玻璃構(gòu)成，本例中，其主
要成份用釉式表示如下<formula>formula see original document page 4</formula>[0025]
熔塊鋪貼絲網(wǎng)的目數(shù)為40 60目，熔塊層厚度控制在0. 3 5. 0mm。
燒成的溫度為850 105(TC，燒成時(shí)間為60 90分鐘。燒成使熔塊粉形成的圖
案固定在磚胚表面形成熔塊層2。
(3)根據(jù)已制好的網(wǎng)板在上述熔塊層2表面印刷調(diào)配好的釉料，要求釉料的燒成 范圍在熔塊粉的熔融范圍內(nèi)，然后進(jìn)行第二次燒成；
燒成的溫度為950 105(TC，燒成時(shí)間為60 90分鐘。在窯爐內(nèi)，熔塊粉在高溫 下會(huì)熔化，與釉料發(fā)生高溫化學(xué)反應(yīng)，形成窯變釉層3。關(guān)于窯變反應(yīng)發(fā)生的條件，可參見華 南工學(xué)院、南京化工學(xué)院、武漢建筑材料工藝學(xué)院合編的《陶瓷工藝學(xué)》。由于釉料的種類及 不同位置印制厚度的差異，故其與熔塊表層的反應(yīng)進(jìn)行的程度也存在差別，從而形成顏色 漸變的色差，使不同顏色之間形成一種自然的混合效果。
(4)表面拋光；
對(duì)上述步驟中釉料與熔塊表層反應(yīng)后的半成品表面進(jìn)行拋光處理。由于熔塊與釉 料的反應(yīng)隨著所處深淺位置不同，反應(yīng)進(jìn)行的程度也不同，因此顏色的深淺也不同。拋光處 理的深與淺也會(huì)對(duì)產(chǎn)品表面的顏色產(chǎn)生影響。根據(jù)設(shè)計(jì)的要求，設(shè)定適當(dāng)?shù)膾伖馓幚砩疃?就能控制成品表面的顏色深淺。
經(jīng)進(jìn)一步檢選后最終得到成品。成品磚表面平滑、顏色過渡自然，具有高貴、華麗 的風(fēng)格。
實(shí)施例2
如圖2所示，底層為磚胚1，覆蓋于磚胚上的為熔塊層2，最上面的為經(jīng)拋光的窯變
釉層3，熔塊層的凹陷內(nèi)為另一釉層4。
按以下步驟生產(chǎn)，
(1)對(duì)磚坯1進(jìn)行表面處理；
(2)調(diào)制熔塊粉，根據(jù)已制好的網(wǎng)板將調(diào)制好的熔塊粉印制在磚面上形成圖案，在 圖案中的凹陷部分則留空，然后進(jìn)行第一次燒成，形成帶有凹陷22及熔塊21的熔塊層2; 凹陷的深度主要由熔塊層的厚度決定；
熔塊粉的配方可以和例1相同也可以不同。燒成的溫度為950 105(TC，燒成時(shí)
間為60 90分鐘。燒成使熔塊粉形成的圖案固定在磚胚表面形成熔塊層2。
(3)根據(jù)已制好的網(wǎng)板在上述熔塊層表面印刷調(diào)配好的釉料，對(duì)于凹陷的部位則
留空，然后進(jìn)行第二次燒成，形成釉料與熔塊層反應(yīng)后形成的窯變釉層3 ;
燒成的溫度為950 105(TC，燒成時(shí)間為60 90分鐘。
(4)根據(jù)已制好的網(wǎng)板在上述步驟所形成的凹陷表面印刷另一種釉料，然后進(jìn)行 第三次燒成，形成釉層4;
燒成的溫度為750 95(TC，燒成時(shí)間為60 90分鐘。此次燒成的溫度比前次燒 成的溫度稍低。
根據(jù)設(shè)計(jì)的需要，還可以進(jìn)行再次的著色印刷及再次的燒成，以獲得預(yù)期的裝飾 效果。
(5)表面拋光；
對(duì)燒成后的半成品表面進(jìn)行拋光處理。根據(jù)設(shè)計(jì)的要求，控制拋光的深度從而控 制成品表面的顏色深淺以達(dá)到設(shè)計(jì)的效果。[0045]
得到如圖2所示的產(chǎn)品。
實(shí)施例3
如圖3所示，底層為磚胚1，覆蓋于磚胚上的為熔塊層2，最上面的為經(jīng)拋光的窯變 釉層3，熔塊層的凹陷內(nèi)為金屬鍍層5。 按以下步驟生產(chǎn)，
(1)對(duì)圖3中的磚坯1進(jìn)行表面處理；
(2)調(diào)制熔塊粉，根據(jù)已制好的網(wǎng)板將調(diào)制好的熔塊粉印制在磚面上形成圖案，在
圖案中的凹陷部分則留空，然后進(jìn)行第一次燒成，形成帶有凹陷22及熔塊21的熔塊層2 ;
熔塊粉的配方可以和例1或例2相同或不同。燒成的溫度為950 105(TC，燒成
時(shí)間為60 90分鐘。燒成使熔塊粉形成的圖案固定在磚胚表面形成熔塊層2。
(3)根據(jù)已制好的網(wǎng)板在上述熔塊層表面印刷調(diào)配好的釉料，對(duì)于凹陷的部位則
留空，然后進(jìn)行第二次燒成，形成釉料與熔塊層反應(yīng)后形成的窯變釉層3 ;
燒成的溫度為950 1050。C，燒成時(shí)間為60 90分鐘。
(4)采用多弧離子鍍法在半成品的整個(gè)表面鍍上金屬層5，如鈦金、鈦銀等，使金 屬鍍層覆蓋整塊半成品的瓷磚表面(包括凹陷部份)。
(5)表面拋光，即對(duì)半成品表面部分的窯變釉及其上面的鍍層進(jìn)行拋光處理，拋光 深度的掌握是要將窯變釉層表面鍍層拋掉，使拋光后露出窯變釉層、并控制好顏色的深淺 以達(dá)到設(shè)計(jì)的要求，凹陷部分則保持鍍后的效果。
得到如圖3所示的產(chǎn)品。
實(shí)施例4
如圖4所示，底層為磚胚1，覆蓋于磚胚上的為熔塊層2，最上面的為經(jīng)拋光的窯變 釉層3，熔塊層的凹陷內(nèi)為釉層4及覆蓋于其上的金屬鍍層5。 按以下步驟生產(chǎn)，
(1)對(duì)圖4中的磚坯1進(jìn)行表面處理；
(2)調(diào)制熔塊粉，根據(jù)已制好的網(wǎng)板將調(diào)制好的熔塊粉印制在磚面上形成圖案，在 圖案中的凹陷部分則留空，然后進(jìn)行第一次燒成，形成帶有凹陷22及熔塊21的熔塊層2 ; 凹陷的深度主要由熔塊層的厚度決定；
熔塊粉的配方可以和前例相同或不同。燒成的溫度為950 105(TC，燒成時(shí)間為
60 90分鐘。燒成使熔塊粉形成的圖案固定在磚胚表面形成熔塊層2。
(3)根據(jù)已制好的網(wǎng)板在上述熔塊層表面印刷調(diào)配好的釉料，對(duì)于凹陷的部位則
留空，然后進(jìn)行第二次燒成，形成釉料與熔塊層反應(yīng)后形成的窯變釉層3 ;
燒成的溫度為950 105(TC，燒成時(shí)間為60 90分鐘。
(4)根據(jù)已制好的網(wǎng)板在上述步驟所形成的凹陷表面印刷另一種釉料，然后進(jìn)行 第三次燒成，形成釉層4;
燒成的溫度為750 95(TC，燒成時(shí)間為60 90分鐘。此次燒成的溫度比前次燒 成的溫度稍低。
(5)采用多弧離子鍍法在半成品的表面鍍上金屬層，如鈦金、鈦銀等，使金屬鍍層 5覆蓋整塊半成品的瓷磚表面(包括凹陷部份)；
(6)表面拋光，即對(duì)半成品表面部分的窯變釉層及其上面的鍍層進(jìn)行拋光處理，拋光深度的掌握是要將表面鍍層拋掉使拋光后露出窯變釉層、并控制好顏色的深淺以達(dá)到設(shè)
計(jì)的要求，凹陷部分則保持鍍后的效果，得到如圖4所示的產(chǎn)品。
實(shí)施例5
如圖5所示，底層為磚胚1，覆蓋于磚胚上的為熔塊層2，最上面的為經(jīng)拋光的窯變 釉層3，熔塊層的凹陷部分保持著磚坯1原有的色彩。 按以下步驟生產(chǎn)，
(1)對(duì)圖5中的磚坯1進(jìn)行表面處理；
(2)調(diào)制熔塊粉，根據(jù)已制好的網(wǎng)板將調(diào)制好的熔塊粉印制在磚面上形成圖案，在
圖案中的凹陷部分則留空，然后進(jìn)行第一次燒成，形成帶有凹陷22及熔塊21的熔塊層2 ;
熔塊粉的配方可以和前例相同或不同。燒成的溫度為950 105(TC，燒成時(shí)間為
60 90分鐘。燒成使熔塊粉形成的圖案固定在磚胚表面形成熔塊層2。
(3)根據(jù)已制好的網(wǎng)板在上述熔塊層表面印刷調(diào)配好的釉料，對(duì)于凹陷的部位則
留空，然后進(jìn)行第二次燒成，形成釉料與熔塊層反應(yīng)后形成的窯變釉層3 ;
燒成的溫度為950 105(TC，燒成時(shí)間為60 90分鐘。
(4)表面拋光，即對(duì)半成品表面部分的窯變釉進(jìn)行拋光處理，得到如圖5所示的產(chǎn)
品，其中在凹陷部分，由于并未被釉層或熔塊粉所覆蓋，因此顯現(xiàn)出來的是磚坯1原來所具
有的顏色。
實(shí)施例6
如圖6所示，底層為磚胚1，覆蓋于磚胚上的為熔塊層2，最上面的為經(jīng)拋光的窯變 釉層3，熔塊層的凹陷內(nèi)為釉層4及覆蓋于其上的透明熔塊薄層6。 按以下步驟生產(chǎn)，
(1)對(duì)圖6中的磚坯1進(jìn)行表面處理；
(2)調(diào)制熔塊粉，根據(jù)已制好的網(wǎng)板將調(diào)制好的熔塊粉印制在磚面上形成圖案，在
圖案中的凹陷部分則留空，然后進(jìn)行第一次燒成，形成帶有凹陷22及熔塊21的熔塊層2 ;
熔塊粉的配方可以和前例相同或不同。燒成的溫度為950 105(TC，燒成時(shí)間為
60 90分鐘。燒成使熔塊粉形成的圖案固定在磚胚表面形成熔塊層2。
(3)根據(jù)已制好的網(wǎng)板在上述熔塊層表面印刷調(diào)配好的釉料，對(duì)于凹陷的部位則
留空，然后進(jìn)行第二次燒成，形成釉料與熔塊層反應(yīng)后形成的窯變釉層3 ;
燒成的溫度為950 105(TC，燒成時(shí)間為60 90分鐘。
(4)根據(jù)已制好的網(wǎng)板在上述步驟所形成的凹陷表面印刷另一種裝飾釉料，并在 該釉料層4上覆蓋一透明熔塊薄層6，然后進(jìn)行第三次燒成；凹陷中的透明熔塊層與釉料層 不發(fā)生窯變反應(yīng)，凹陷中顯現(xiàn)的色彩是釉料層4所具有的色彩，因此選用的熔塊粉為透明 熔塊粉；
燒成的溫度為750 95(TC，燒成時(shí)間為60 90分鐘。此次燒成的溫度比前次燒 成的溫度稍低。
(5)根據(jù)需要，決定是否再在半成品的表面鍍上金屬層，如鈦金、鈦銀等。
(6)表面拋光，即對(duì)半成品表面部分的窯變釉及其上面鍍層進(jìn)行拋光處理，拋光深
度的掌握是要將表面鍍層拋掉使拋光后露出窯變釉層、并控制好顏色的深淺以達(dá)到設(shè)計(jì)的
要求，凹陷部分則保持鍍后的效果，得到如圖6所示的產(chǎn)品。[0090]
實(shí)施例7
如圖7所示，底層為磚胚1，覆蓋于磚胚上的為熔塊層2，最上面的為經(jīng)拋光的窯變 釉層3，熔塊層的凹陷內(nèi)為熔塊薄層7及覆蓋于其上的窯變釉層8。 按以下步驟生產(chǎn)，
(1)對(duì)圖7中的磚坯1進(jìn)行表面處理；
(2)調(diào)制熔塊粉，根據(jù)已制好的網(wǎng)板將調(diào)制好的熔塊粉印制在磚面上形成圖案，在
圖案中的凹陷部分則留空，然后進(jìn)行第一次燒成，形成帶有凹陷22及熔塊21的熔塊層2 ;
熔塊粉的配方可以和前例相同或不同。燒成的溫度為950 105(TC，燒成時(shí)間為
60 90分鐘。燒成使熔塊粉形成的圖案固定在磚胚表面形成熔塊層2。
(3)根據(jù)已制好的網(wǎng)板在上述熔塊層表面印刷調(diào)配好的釉料，對(duì)于凹陷的部位則
留空，然后進(jìn)行第二次燒成，形成釉料與熔塊層反應(yīng)后形成的窯變釉層3 ;
燒成的溫度為950 105(TC，燒成時(shí)間為60 90分鐘。
(4)根據(jù)已制好的網(wǎng)板在上述步驟所形成的凹陷表面覆蓋熔塊薄層7，并在該熔 塊薄層7之上覆蓋另一裝飾釉層，然后進(jìn)行第三次燒成，形成凹陷22內(nèi)的窯變釉層8 ;
凹陷內(nèi)所選用的熔塊粉可以與主圖案熔塊層2所選用的熔塊粉相同或不同，可以 選用透明熔塊粉或不透明熔塊粉。
燒成的溫度為750 95(TC，燒成時(shí)間為60 90分鐘。此次燒成的溫度比前次燒 成的溫度稍低。
(5)根據(jù)需要，決定是否再在半成品的表面鍍上金屬層，如鈦金、鈦銀等。
(6)表面拋光，即對(duì)半成品表面部分的窯變釉層進(jìn)行拋光處理，凹陷部分則保持未
拋光的效果，得到如圖7所示的產(chǎn)品。
權(quán)利要求
一種窯變拋釉磚，其特征在于包括磚胚、燒結(jié)成形于磚胚上面的熔塊層及由熔塊層與釉料進(jìn)行窯變反應(yīng)形成的窯變釉層。
2. 根據(jù)權(quán)利要求
1所述的拋釉磚，其特征在于所述熔塊層包括由熔塊粉燒結(jié)而成的 主體圖案及主體圖案間的凹陷。
3. 根據(jù)權(quán)利要求
2所述的拋釉磚，其特征在于所述凹陷內(nèi)填充釉料。
4. 根據(jù)權(quán)利要求
2所述的拋釉磚，其特征在于所述凹陷內(nèi)填充金屬鍍層。
5. 根據(jù)權(quán)利要求
3所述的拋釉磚，其特征在于所述凹陷內(nèi)的釉料層之上覆蓋有金屬 鍍層。
6. 根據(jù)權(quán)利要求
2所述的拋釉磚，其特征在于所述凹陷內(nèi)具有填充的釉料，且在所述 填充的釉料之上覆蓋有一透明熔塊層。
7. 根據(jù)權(quán)利要求
2所述的拋釉磚，其特征在于所述凹陷內(nèi)有一熔塊薄層，及一由該熔 塊薄層與覆蓋于熔塊薄層之上的釉料窯變反應(yīng)后形成的窯變釉層。
專利摘要
本實(shí)用新型公開了一種拋釉磚，包括磚胚、燒結(jié)成形于磚胚上面的熔塊層及由熔塊層與釉料進(jìn)行窯變反應(yīng)形成的窯變釉層。本實(shí)用新型所制成的陶瓷磚，熔塊層表面在窯爐的高溫下與裝飾釉層的釉料發(fā)生發(fā)應(yīng)，圖案的形狀及色彩的形成不但取決于印制上去的釉料，還受熔塊層表面與釉料發(fā)生發(fā)應(yīng)后的結(jié)果而影響。不同色塊之間的邊界模糊，過渡自然，具有成熟、高貴、華麗的美感。
文檔編號(hào)E04F13/14GKCN201545788SQ200920179036
公開日2010年8月11日 申請(qǐng)日期2009年9月16日
發(fā)明者唐納德·溫·黑格比, 陳滿堅(jiān) 申請(qǐng)人:陳滿堅(jiān)導(dǎo)出引文BiBTeX, EndNote, RefMan