一種高硬度的硅灰石釉漿及其制備方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及衛(wèi)生陶瓷釉面技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種高硬度的硅灰石釉漿及其制備 方法。
【背景技術(shù)】
[0002] 衛(wèi)生陶瓷經(jīng)過窯爐的高溫?zé)珊笥悦嫘纬刹Ａз|(zhì)，生產(chǎn)工序后期倒運(yùn)、檢驗(yàn)、包裝 及消費(fèi)者使用過程中，由于產(chǎn)品防護(hù)不當(dāng)、人為操作不當(dāng)?shù)鹊纫蛩丶耙自斐僧a(chǎn)品的擦花，擦 花的介質(zhì)有銳器與制品、制品與制品及木質(zhì)材料等其他材料與制品間的擦花，無論何種擦 花都會給產(chǎn)品帶來缺陷，給消費(fèi)者帶來瑕疵。從主動"安全"的角度出發(fā)，提升釉面的硬度 是可以降低缺陷的有效方法?，F(xiàn)有的衛(wèi)生陶瓷用釉硬度均無法達(dá)到令人滿意的效果。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003] 針對上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供一種高硬度的硅灰石釉漿及其制備方法，該硅灰 石釉漿能夠在陶瓷潔具領(lǐng)域通過大幅度提高釉面的機(jī)械強(qiáng)度來解決產(chǎn)品在成瓷后期產(chǎn)生 的釉面擦花現(xiàn)象。
[0004] 為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明一種高硬度的硅灰石釉漿所采取的技術(shù)方案是：硅 灰石釉漿原料組成按質(zhì)量份計(jì)如下：鉀長石28. 0~33. 0份，石英24. 0~27. 0份，方解石 7. 0~8. 0份，娃灰石12. 0~15. 0份，高嶺土 3. 0~5. 0份，燒滑石2. 0~3. 5份，氧化鋅 3. 0~4. 0份，硅酸鋯8. 0~10. 5份，氧化鋁1. 0~2. 0份，低溫熔塊1. 0~2. 0份。
[0005] 本發(fā)明所述化學(xué)組成范圍的質(zhì)量百分含量為：Si02 59 . 5~60. 5%，A1203 8. 5~ 9. 5%，F(xiàn)e203 0? 1 ~0? 3%，Ti02 0 ? 05 ~0? 15%，CaO10 ~11%，MgO0? 5 ~1. 5%，K20 2. 5 ~ 4. 5%，Na20 1. 0 ~2. 0%，ZnO3 ~4%，Zr02 5 . 0 ~7. 0%，燒失量Lg.loss4. 0 ~5. 0%。
[0006] 本發(fā)明所述硅灰石釉漿原料組成按質(zhì)量份計(jì)如下：鉀長石29. 61份，石英25. 73 份，方解石7. 77份，硅灰石13. 68份，高嶺土 3. 88份，燒滑石2. 43份，氧化鋅3. 4份，硅酸 鋯10. 1份，氧化鋁1. 46份，低溫熔塊1. 94份。
[0007] 本發(fā)明所述娃灰石釉衆(zhòng)原料化學(xué)組成的重量百分含量為：Si0259. 69%，A1203 8. 65%，F(xiàn)e203 0? 22%，Ti02 0 ? 05%，CaO10. 85%，MgO0? 97%，K20 3. 18%，Na20 1. 37%，ZnO 3. 47%，Zr02 6. 66%，燒失量Lg.loss4. 61%，其余 0. 28% 為雜質(zhì)。
[0008] 本發(fā)明的另一目的在于提供一種基于上述配方的高硬度的硅灰石釉漿的制備方 法，所述工藝步驟如下：原料按照所述組份和各組份重量份備料，按球：釉料：水=1. 5~ 2:4~5:3~4,濕法球磨10-15小時(shí)，球磨后的釉料要求粒度10微米通過率70~75%，325 目篩余0. 05~0. 15%，釉漿濃度345~355g/200ml，環(huán)收縮11~13%，熔融長度65~75_。
[0009] 本發(fā)明所述原料入磨初期加入釉用減水劑0. 05~0. 1%以保證正常使用。
[0010] 本發(fā)明的設(shè)計(jì)要點(diǎn)：在配方中引入了硅灰石及燒滑石，硅灰石為三斜晶系，大多呈 針狀、纖維狀或片狀，一方面利用硅灰石晶體的無序排列，在部分熔融產(chǎn)生熔體的作用下予 以團(tuán)結(jié)，形成交織結(jié)構(gòu)，提升強(qiáng)度。另一方面利用硅灰石及燒滑石的低燒失量來降低原料中 的結(jié)晶水及碳酸根來減少釉漿中的氣泡，使釉層致密，強(qiáng)度提升。
[0011] 采用上述技術(shù)方案所產(chǎn)生的有益效果在于：通過降低原料中的結(jié)晶水及碳酸根來 減少釉漿中的氣泡，同時(shí)利用硅灰石針狀晶體的無序排列，在部分熔融產(chǎn)生熔體的作用下 予以團(tuán)結(jié)，形成交織結(jié)構(gòu)，釉面平均維氏硬度700以上，大幅提高了釉面的機(jī)械強(qiáng)度。經(jīng)過 與現(xiàn)有同類產(chǎn)品的對比，使用高硬度硅灰石釉漿明顯改善了擦花現(xiàn)象，大幅減少了產(chǎn)品后 期的劃痕，釉面更加細(xì)膩、平滑，整體提升了釉面的觀感效果。
【具體實(shí)施方式】
[0012] 下面結(jié)合具體實(shí)施例對本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。
[0013] 以下提供發(fā)明的實(shí)施例，其中對比例1、實(shí)施例1-8對不同配方的釉漿進(jìn)行對比， 得出優(yōu)選配方，實(shí)施例9針對實(shí)施例6的配方進(jìn)行優(yōu)選生產(chǎn)參數(shù)，實(shí)施例10-12給出針對較 優(yōu)配方、較優(yōu)生產(chǎn)參數(shù)的【具體實(shí)施方式】。
[0014] 實(shí)施例與對比例的原料配比見表1，對表1所列述配方進(jìn)行檢測，結(jié)果見表2，通過 檢測分析，普通白釉出磨性能較好，釉面光滑，強(qiáng)度較低，強(qiáng)度統(tǒng)一使用HMV-2TEF維氏硬度 儀進(jìn)行測定。
[0015] 表1實(shí)施例及對比例的釉漿的原料組成表
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種高硬度的硅灰石釉漿，其特征在于，硅灰石釉漿原料組成按質(zhì)量份計(jì)如下：鉀 長石28.O~33.O份，石英24.O~27.O份，方解石7.O~8.O份，娃灰石12.O~15.O份， 高嶺土 3.O~5.O份，燒滑石2.O~3. 5份，氧化鋅3.O~4.O份，硅酸鋯8.O~10. 5份， 氧化鋁I. 0~2. 0份，低溫熔塊I. 0~2. 0份。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高硬度的硅灰石釉漿，其特征在于，所述化學(xué)組成范圍 的質(zhì)量百分含量為：SiO2 59. 5 ~60. 5%，Al2O3 8. 5 ~9. 5%，F(xiàn)e2O3 0? 1 ~0? 3%，TiO2 0? 05 ~ 0? 15%，CaO10 ~11%，MgO0? 5 ~1. 5%，K2O2. 5 ~4. 5%，Na2OI. 0 ~2. 0%，ZnO3 ~4%， ZrO2 5. 0 ~7. 0%，燒失量Lg.loss4. 0 ~5. 0%〇
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高硬度的硅灰石釉漿，其特征在于，所述硅灰石釉漿原 料組成按質(zhì)量份計(jì)如下：鉀長石29. 61份，石英25. 73份，方解石7. 77份，硅灰石13. 68份， 高嶺土 3. 88份，燒滑石2. 43份，氧化鋅3. 4份，硅酸鋯10. 1份，氧化鋁1. 46份，低溫熔塊 L94 份。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高硬度的硅灰石釉漿，其特征在于，所述硅灰石釉漿 原料化學(xué)組成的重量百分含量為：SiO2 59. 69%，Al2O3 8. 65%，F(xiàn)e2O3 0.22%，TiO2 0.05%， CaO10. 85%，MgO0? 97%，K2O3. 18%，Na2O1. 37%，ZnO3. 47%，ZrO2 6. 66%，燒失量Lg.loss 4. 61%，其余0. 28%為雜質(zhì)。
5. 基于權(quán)利要求1-4任意一項(xiàng)所述的一種高硬度的硅灰石釉漿的制備方法，其特征在 于，所述工藝步驟如下：原料按照所述組份和各組份重量份備料，按球：釉料：水=1. 5~ 2:4~5:3~4,濕法球磨10-15小時(shí)，球磨后的釉料要求粒度10微米通過率70~75%，325 目篩余0. 05~0. 15%，釉漿濃度345~355g/200ml，環(huán)收縮11~13%，熔融長度65~75_。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的制備方法，其特征在于：所述原料入磨初期加入釉用減水劑 0. 05~0. 1%以保證正常使用。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種衛(wèi)生陶瓷具有高強(qiáng)度釉面的硅灰石釉漿配方，其原料組成按質(zhì)量份計(jì)如下：鉀長石28.0～33.0份，石英24.0～27.0份，方解石7.0～8.0份，硅灰石12.0～15.0份，高嶺土3.0～5.0份，燒滑石2.0～3.5份，氧化鋅3.0～4.0份，硅酸鋯8.0～10.5份，氧化鋁1.0～2.0份，低溫熔塊1.0～2.0份。本釉漿大量引入硅灰石，并將燒滑石預(yù)燒，通過降低原料中的結(jié)晶水及碳酸根來減少釉漿中的氣泡，同時(shí)利用硅灰石針狀晶體的無序排列，在部分熔融產(chǎn)生熔體的作用下予以團(tuán)結(jié)，形成交織結(jié)構(gòu)，釉面平均維氏硬度700以上，大幅提高了釉面的機(jī)械強(qiáng)度。
【IPC分類】C04B41-86
【公開號】CN104692833
【申請?zhí)枴緾N201510089721
【發(fā)明人】夏劍石, 傅文龍, 王文東
【申請人】唐山中陶衛(wèi)浴制造有限公司
【公開日】2015年6月10日
【申請日】2015年2月27日