化硅。作為氧化性氣體，可以列舉例如含有氧的氣體。其氧濃度通常為 1~30容量％左右。作為氧化性氣體，通?？墒褂每諝?、純氧，根據(jù)需要，可以用惰性氣體、水 蒸氣稀釋。氧化性氣體優(yōu)選為空氣。煅燒溫度通常為100~l〇〇〇°C，優(yōu)選為250~450°C。
[0026] 如上述那樣，在二氧化鈦載體上擔載二氧化硅，接著擔載氧化釕。在二氧化鈦載體 上擔載二氧化硅而得到固體（以下有時稱為上述固體)，氧化釕在上述固體上的擔載通過將 上述固體與釕化合物進行接觸處理后，在氧化性氣體氣氛下進行第2煅燒來實施。
[0027] 作為上述釕化合物，例如可以列舉如RuC13、RuBr3這樣的鹵化物、如K3RuC16、 K2RuC16這樣的齒酸鹽、如K2Ru04、Na2Ru04這樣的酮酸鹽、如Ru20C14、Ru2OC15、Ru2OC16這樣 的鹵氧化物、如K2 [RuC15 (H20)4]、[RuC12 (H20)4]C1、K2 [Ru2OC11(i]、Cs2 [Ru2OC14]這樣 的鹵合絡合物、如[Ru(NH3)5H20]C12、[Ru(NH3)5C1]C12、[Ru(NH3)6]C12、[Ru(NH3)6] Cl3、[Ru(NH3) 6] 這樣的氨絡物、如Ru(CO)5、Ru3 (CO)12這樣的羰基絡合物、如[Ru30 (0C0CH3) 6 (H20) 3] 0C0CH3、[Ru2 (0C0R1) 4]Cl(R1 =碳數(shù) 1 ~3 的烷基）這樣的羧酸根合 絡合物、如K2 [RuC15 (N0)]、[Ru(NH3)5 (N0)]C13、[Ru(OH) (NH3)4 (NO)] (N03)2、[Ru (NO)] (N03)3這樣的亞硝酰絡合物、膦絡合物、胺絡合物、乙酰丙酮絡合物等。其中優(yōu)選使 用鹵化物，特別地優(yōu)選使用氯化物。作為釕化合物，根據(jù)需要可以使用其水合物，另外也可 以使用它們的2種以上。
[0028] 二氧化硅擔載于二氧化鈦載體上的固體與釕化合物的使用比例可適當調整，以使 下述第2煅燒后得到的擔載氧化釕中的(氧化釕）/(二氧化硅擔載于二氧化鈦載體上的固 體)的重量比優(yōu)選為0. 1/99. 9~20. 0/80. 0,更優(yōu)選為0. 3/99. 7~10. 0/90. 0,進而優(yōu)選為 0. 5/99. 5~5. 0/95. 0。氧化釕過于少時，催化劑活性有時不充分，過于多時，在成本上變得 不利。而且，優(yōu)選調整釕化合物與上述固體的使用比例，以使相對于擔載于上述固體的二氧 化硅1摩爾，氧化釕含量為0. 10~20摩爾，更優(yōu)選調整為0. 20~10摩爾。如果氧化釕相 對于二氧化硅1摩爾的摩爾數(shù)過于高，則擔載氧化釕的熱穩(wěn)定性有時變低，如果過于低，則 催化劑活性有時變低。
[0029] 上述固體與釕化合物的接觸處理優(yōu)選通過將上述固體與含有釕化合物和溶劑的 溶液進行接觸處理來進行。在該接觸處理中，作為溶劑，可以列舉水、醇、腈等，根據(jù)需要，也 可以使用它們的2種以上。作為水，優(yōu)選是蒸餾水、離子交換水、超純水等的純度高的水。 使用的水中含有很多雜質時，有所述雜質附著于催化劑上，使催化劑的活性降低的情況。作 為醇，可以列舉甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、己醇、環(huán)己醇等碳數(shù)為1~6的醇。作為腈，可 以列舉乙腈、丙腈、節(jié)腈等碳數(shù)為1~6的腈。該溶液中所含的溶劑的量優(yōu)選是從使用的二 氧化鈦載體的總孔容中除去擔載的釕化合物的體積而得的量的70體積％以上。上限沒有 特別限制，但如果使用的溶劑量過多，則有干燥花費時間的傾向，因此優(yōu)選為120體積％以 下左右。在該接觸處理中，處理時的溫度通常為0~l〇〇°C，優(yōu)選為0~50°C，處理時的壓 力通常為0. 1~IMPa，優(yōu)選為大氣壓。另外，所述接觸處理可以在空氣氣氛下、或在氮、氦、 氬、二氧化氧等的惰性氣體氣氛下進行，也可以含有水蒸氣。
[0030] 作為接觸處理，可以列舉浸滲、浸漬等。作為將上述固體與釕化合物進行接觸處理 的方法，可以列舉例如（C)使含有釕化合物和溶劑的溶液浸滲于在二氧化鈦載體上擔載了 二氧化硅的固體的方法、（D)使在二氧化鈦載體上擔載了二氧化硅的固體浸漬在含有釕化 合物和溶劑的溶液中的方法等，優(yōu)選是上述（C)的方法。利用該接觸處理，釕化合物擔載于 上述固體上。將上述固體與含有釕化合物和溶劑的溶液進行接觸處理的情況下，優(yōu)選調整 溶劑相對于上述固體的使用量，以在接觸處理后所得的含有釕化合物、溶劑和上述固體的 混合物中，使其溶劑的含量以上述固體的重量作為基準計為超過15重量％的量。
[0031] 將上述固體與釕化合物進行接觸處理后，可以進行干燥，然后在氧化性氣體的氣 氛下進行第2煅燒，或也可以進行干燥，接著進行還原處理，然后在氧化性氣體的氣氛下進 行第2煅燒。作為所述的干燥方法，可以采用目前公知的方法，其溫度通常為室溫至KKTC 左右，其壓力通常為0. 001~IMPa，優(yōu)選為大氣壓。干燥可以在空氣氣氛下、或在氮、氦、氬、 二氧化氧這樣的惰性氣體氣氛下進行，惰性氣體也可含有水蒸氣。另外，可在空氣、惰性氣 體或空氣與惰性氣體的混合氣體的流通下進行干燥，它們也可含有水蒸氣。在含水蒸氣的 氣體流通下進行干燥時，含水蒸氣的氣體中的水蒸氣的濃度以小于干燥條件下的含水蒸氣 的氣體的飽和水蒸氣量的范圍設定。在氣體流通下進行干燥時，該氣體的流通速度以上述 固體中的氣體的空速（GHSV)計，在標準狀態(tài)（0°C、0.IMPa換算)下優(yōu)選為10~10000/h，更 優(yōu)選為100~5000/h。應予說明，空速可以通過將通過實施干燥處理的裝置內的每1小時 的氣體量（L/h)除以實施干燥處理的裝置內的上述固體的容量（L)來求得。干燥優(yōu)選一邊 攪拌一邊來進行。應予說明，一邊攪拌一邊進行的干燥是指將與釕化合物進行了接觸處理 的上述固體不是在靜止狀態(tài)下、而是在流動狀態(tài)下進行干燥。作為上述攪拌的方法，可以列 舉使干燥容器本身旋轉的方法、使干燥容器本身振動的方法、利用在干燥容器內具有的攪 拌機進行攪拌的方法等。作為還原處理，可以列舉例如日本特開2000-229239號公報、日本 特開2000-254502號公報、日本特開2000-281314號公報、日本特開2002-79093號公報等 中記載的還原處理。
[0032] 通過將上述固體與含有釕化合物和溶劑的溶液進行接觸處理來進行上述固體與 釕化合物的接觸處理時，干燥（以下有時稱為干燥處理）優(yōu)選將接觸處理后所得的含有釕化 合物、溶劑和上述固體的混合物進行干燥，直至溶劑的含量以上述固體的重量為基準計成 為0. 10~15重量％。更優(yōu)選進行干燥處理，直至溶劑的含量以上述固體的重量為基準計成 為1. 0~13重量％，進而優(yōu)選成為2. 0~7. 0重量％。干燥處理后所得的干燥物中的、以上 述固體的重量為基準的溶劑的含量用以下的式（2)算出。
[0033] 將干燥物中的上述固體的重量作為基準的溶劑的含量(重量％)=[干燥物中的殘 留溶劑量（g)] / [干燥物中含有的上述固體的量（g)]X100 (2) 應予說明，在通過浸滲進行上述固體與含有釕化合物和溶劑的溶液的接觸處理的情況 下，干燥物中的殘留溶劑量可以通過從接觸處理中使用的溶劑的量中、減去干燥處理前后 的擔載了氯化釕的上述固體的重量變化量來求得。
[0034] 通過將上述固體與含有釕化合物和溶劑的溶液進行接觸處理來進行上述固體與 釕化合物的接觸處理的情況下，上述干燥處理時的干燥速度可適當設定，從生產率的角度 考慮，作為每lg上述固體的溶劑的蒸發(fā)速度，優(yōu)選為〇.oig/h以上，更優(yōu)選為0. 02g/h以 上，進而優(yōu)選為0.03g/h以上。干燥速度的上限可適當設定，作為每lg上述固體的溶劑的 蒸發(fā)速度，優(yōu)選為〇. 50g/h以下。所述干燥速度可以通過調整溫度、壓力、時間、氣體的流通 速度等的條件來控制，但也可在干燥中，改變這些條件來使干燥速度變化。
[0035] 通過將上述固體與含有釕化合物和溶劑的溶液進行接觸處理來進行上述固體與 釕化合物的接觸處理時，優(yōu)選干燥處理后得到的干燥物在以上述固體的重量為基準計含有 1. 0~15重量％的溶劑的狀態(tài)下保持后，在氧化性氣體的氣氛下付與第2煅燒。該保持在 抑制干燥物中所含的溶劑的蒸發(fā)的狀態(tài)下進行，其溶劑的蒸發(fā)速度優(yōu)選每lg上述固體為 小于〇. 〇lg/h，更優(yōu)選為0. 001g/h以下。在所述保持中，其溫度優(yōu)選為0~80°C，更優(yōu)選為 5~50°C。其保持時間根據(jù)溶劑的含量、保持溫度而適當設定，優(yōu)選為10小時以上，更優(yōu)選 為15小時以上。該保持只要在以上述固體的重量為基準計含有1. 0~15重量％的溶劑的 狀態(tài)下進行保持，就可以在密閉條件下進行，或可在開放條件下進行，或可在氣體流通下進 行。另外，可在與干燥處理時相同的裝置內保持，或也可在干燥后、移到其它容器中進行保 持。
[0036] 通過將上述固體與含有釕化合物和溶劑的溶液進行接觸處理，來進行上述固體與 釕化合物的接觸處理，將接觸處理后得到的含有釕化合物、溶劑和上述固體的混合物進行 干燥、直至溶劑的含量以上述固體的重量為基準計成為0. 10~15重量％時，對于在該干燥 時，以上述固體的重量為基準的溶劑的含量為0. 10重量％以上且小于1. 0重量％的情況， 可在上述保持前，利用使含有氣化的溶劑的氣體流通而與干燥物接觸的方法、或對于溶劑 為水的情況，利用在大氣中放置的方法等，使干燥物中的溶劑的含量以上述固體的重量為 基準計變?yōu)?. 〇~15重量％的范圍內后，供于上述保持。
[0037] 利用在上述氧化性氣體的氣氛下的第2煅燒，擔載的釕化合物轉換為氧化釕。氧 化性氣體是含有氧化性物質的氣體，可以列舉例如含有氧的氣體。其氧濃度通常為1~30 容量％左右。作為該氧化性氣體，通常使用空氣、純氧，根據(jù)需要可以用惰性氣體、水蒸氣稀 釋。氧化性氣體優(yōu)選為空氣。煅燒溫度通常為100~500°C，優(yōu)選為200~400°C。
[0038] 進行上述保持的情況下，在上述保持后，可以進而干燥，直至干燥物中的溶劑的含 量以上述固體的重量為基準計小于1. 〇重量％后，進行上述第2煅燒，或者可以在上述保持 后，進行還原處理，然后進行上述第2煅燒，或者也可以在上述保持后，進而干燥，直至干燥 物中的溶劑的含量以上述固體的重量為基準計小于1. 〇重量％，接著進行還原處理后，進行 上述第2煅燒。作為所述干燥方法，可以采用現(xiàn)有公知的方法，其溫度通常為室溫至KKTC 左右，其壓力通常為0. 001~IMPa，優(yōu)選為大氣壓。所述干燥可以在空氣氣氛下、或在氮、 氦、氬、二氧化氧這樣的惰性氣體氣氛下進行，它們也可以含有水蒸氣。作為所述還原處 理，可以列舉例如日本特開2000-22923