一種用于金屬精細(xì)研磨的研磨石的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及用于金屬精細(xì)研磨的研磨石技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種用于金屬精細(xì)研磨的研磨石。
【背景技術(shù)】
[0002]研磨石泛指用于震動(dòng)拋光機(jī)，滾動(dòng)拋光機(jī)，同時(shí)也可用于離心拋光機(jī)，渦流式拋光機(jī)等其它拋光機(jī)中的各類(lèi)磨料。
[0003]現(xiàn)有的研磨石在進(jìn)行金屬研磨拋光時(shí)，對(duì)金屬表面的拋光程度不夠精細(xì)，拋光后金屬表面容易產(chǎn)生不光滑的現(xiàn)象，為此我們提出了一種用于金屬精細(xì)研磨的研磨石，用來(lái)解決上述問(wèn)題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]基于【背景技術(shù)】存在的技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明提出了一種用于金屬精細(xì)研磨的研磨石。
[0005]本發(fā)明提出的一種用于金屬精細(xì)研磨的研磨石，所述研磨石包括以下重量百分比的原料:三氧化二鋁98-99 %、三氧化二鐵0.1-0.2%、氧化鐵0.05-0.1 %、氧化硅0.05-0.1%、二氧化娃0.01-0.04%、氧化鈉0.01-0.04%、氧化錯(cuò)0.01-0.02%，余量為氧化I丐。
[0006]優(yōu)選地，所述研磨石包括以下重量百分比的原料:三氧化二鋁98.4-98.6%、三氧化二鐵0.12-0.18%、氧化鐵0.06-0.09%、氧化硅0.06-0.09%、二氧化硅0.02-0.03%,?化鈉0.02-0.03%,氧化鋯0.014-0.016%，余量為氧化鈣。
[0007]優(yōu)選地，所述研磨石包括以下重量百分比的原料:三氧化二鋁98.5%、三氧化二鐵0.15%、氧化鐵0.08%、氧化娃0.08%、二氧化娃0.025%、氧化鈉0.025%、氧化錯(cuò)0.015%，
余量為氧化鈣。
[0008]優(yōu)選地，所述研磨石采用高溫煅燒制成。
[0009]優(yōu)選地，所述研磨石用于經(jīng)過(guò)粗拋、中拋后的金屬零件表面的精密研磨。
[0010]優(yōu)選地，所述研磨石為圓球狀，其直徑為7-9mm。
[0011]本發(fā)明中，三氧化二鋁作為常見(jiàn)的原料，使用時(shí)可以有效降低生產(chǎn)成本，通過(guò)將三氧化二鋁、三氧化二鐵、氧化鐵、氧化硅、二氧化硅、氧化鈉、氧化鋯和氧化鈣等原料進(jìn)行混合，上述原料經(jīng)過(guò)高溫煅燒后得到的研磨石在進(jìn)行金屬表面研磨拋光時(shí)具有精度高的優(yōu)點(diǎn)，使用過(guò)程中可以和震動(dòng)拋光機(jī)、滾動(dòng)拋光機(jī)配合使用，本發(fā)明有效使得金屬表面具有一定的光整度，光潔度和光亮度，可以廣泛應(yīng)用于各種金屬零件的加工。
【具體實(shí)施方式】
[0012]下面結(jié)合具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步解說(shuō)。
[0013]實(shí)施例一本發(fā)明提出的一種用于金屬精細(xì)研磨的研磨石，所述研磨石包括以下重量百分比的原料:三氧化二鋁98%、三氧化二鐵0.1 %、氧化鐵0.05 %、氧化硅0.05%、二氧化硅0.01 %、氧化鈉0.01%、氧化錯(cuò)0.01%，余量為氧化I丐。
[0014]本發(fā)明的研磨石為圓球狀，其直徑為7_。
[0015]實(shí)施例二
本發(fā)明提出的一種用于金屬精細(xì)研磨的研磨石，所述研磨石包括以下重量百分比的原料:三氧化二鋁98.25 %、三氧化二鐵0.125%、氧化鐵0.06 %、氧化硅0.06 %、二氧化硅0.015%、氧化鈉0.015%、氧化錯(cuò)0.0125%，余量為氧化I丐。
[0016]本發(fā)明的研磨石為圓球狀，其直徑為7.5_。
[0017]實(shí)施例三
本發(fā)明提出的一種用于金屬精細(xì)研磨的研磨石，所述研磨石包括以下重量百分比的原料:三氧化二鋁98.5% ,三氧化二鐵0.15%,氧化鐵0.075% ,氧化硅0.075%, 二氧化硅0.025%、氧化鈉0.025 %、氧化錯(cuò)0.015%，余量為氧化I丐。
[0018]本發(fā)明的研磨石為圓球狀，其直徑為8_。
[0019]實(shí)施例四
本發(fā)明提出的一種用于金屬精細(xì)研磨的研磨石，所述研磨石包括以下重量百分比的原料:三氧化二鋁98.8 %、三氧化二鐵0.18%、氧化鐵0.09 %、氧化硅0.09% , 二氧化硅0.03%、氧化鈉0.03%、氧化錯(cuò)0.0175%，余量為氧化I丐。
[0020]本發(fā)明的研磨石為圓球狀，其直徑為8.5_。
[0021 ]實(shí)施例五
本發(fā)明提出的一種用于金屬精細(xì)研磨的研磨石，所述研磨石包括以下重量百分比的原料:三氧化二鋁99%、三氧化二鐵0.2 %、氧化鐵0.1 %、氧化硅0.1 %、二氧化硅0.04%、氧化鈉0.04%、氧化錯(cuò)0.02%，余量為氧化I丐。
[0022]本發(fā)明的研磨石為圓球狀，其直徑為9_。
[0023]本發(fā)明廣泛應(yīng)用于壓鑄件、精密鑄件、縫紉機(jī)零件、粉末冶金制品、紡織器材、醫(yī)療器械、油嘴油栗、管樂(lè)器件、日用五金、硬質(zhì)合金、鐘表零件、電工器材、軸承、化油器、電鍍件、機(jī)加工件、儀表儀器、眼鏡、電子元件、工藝裝飾品、餐具、閥門(mén)、氣門(mén)、制鎖零件、壓縮機(jī)零件、沖壓件等，特別適用于表面幾何形狀復(fù)雜、易變形的薄壁窄縫、異形孔腔的零件。
[0024]以上所述，僅為本發(fā)明較佳的【具體實(shí)施方式】，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)方案及其發(fā)明構(gòu)思加以等同替換或改變，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種用于金屬精細(xì)研磨的研磨石，其特征在于，所述研磨石包括以下重量百分比的原料:三氧化二鋁98-99 %、三氧化二鐵0.1-0.2%、氧化鐵0.05-0.1 %、氧化硅0.05-0.1 %、二氧化娃0.01-0.04%、氧化鈉0.01-0.04%、氧化錯(cuò)0.01-0.02%，余量為氧化I丐。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于金屬精細(xì)研磨的研磨石，其特征在于，所述研磨石包括以下重量百分比的原料:三氧化二鋁98.4-98.6%、三氧化二鐵0.12-0.18%、氧化鐵0.06-0.09% ^氧化硅0.06-0.09 %、二氧化硅0.02-0.03%、氧化鈉0.02-0.03 %、氧化鋯0.014-0.016%，余量為氧化鈣。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于金屬精細(xì)研磨的研磨石，其特征在于，所述研磨石包括以下重量百分比的原料:三氧化二鋁98.5%,三氧化二鐵0.15%,氧化鐵0.08 %、氧化硅0.08%、二氧化娃0.025 %、氧化鈉0.025 %、氧化錯(cuò)0.015%，余量為氧化I丐。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于金屬精細(xì)研磨的研磨石，其特征在于，所述研磨石采用高溫煅燒制成。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于金屬精細(xì)研磨的研磨石，其特征在于，所述研磨石用于經(jīng)過(guò)粗拋、中拋后的金屬零件表面的精密研磨。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于金屬精細(xì)研磨的研磨石，其特征在于，所述研磨石為圓球狀，其直徑為7-9_。
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種用于金屬精細(xì)研磨的研磨石，所述研磨石包括以下重量百分比的原料：三氧化二鋁98-99％、三氧化二鐵0.1-0.2％、氧化鐵0.05-0.1％、氧化硅0.05-0.1％、二氧化硅0.01-0.04％、氧化鈉0.01-0.04％、氧化鋯0.01-0.02％，余量為氧化鈣。本發(fā)明中的三氧化二鋁作為常見(jiàn)的原料，使用時(shí)可以有效降低生產(chǎn)成本，通過(guò)將三氧化二鋁、三氧化二鐵、氧化鐵、氧化硅、二氧化硅、氧化鈉、氧化鋯和氧化鈣等原料進(jìn)行混合，上述原料經(jīng)過(guò)高溫煅燒后得到的研磨石在進(jìn)行金屬表面研磨拋光時(shí)具有精度高的優(yōu)點(diǎn)，使用過(guò)程中可以和震動(dòng)拋光機(jī)、滾動(dòng)拋光機(jī)配合使用，本發(fā)明有效使得金屬表面具有一定的光整度，光潔度和光亮度，可以廣泛應(yīng)用于各種金屬零件的加工。
【IPC分類(lèi)】C04B35/10
【公開(kāi)號(hào)】CN105622074
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201610000289
【發(fā)明人】吳興偉
【申請(qǐng)人】安徽律正科技信息服務(wù)有限公司
【公開(kāi)日】2016年6月1日
【申請(qǐng)日】2016年1月3日