耐磨耐濕三銀低輻射鍍膜玻璃的制作方法
【專利摘要】耐磨耐濕三銀低輻射鍍膜玻璃,玻璃基片(1)的表面由下而上依次逐層覆蓋第一氧化鋅鋁膜層(2)、第一銀層(3)、第一鎳鉻膜層(4)、第一氧化鋅錫膜層(5)、第二銀層(6)、第二鎳鉻膜層(7)、第二氧化鋅錫膜層(8)、第三銀層(9)、第三鎳鉻膜層(10)、第二氧化鋅鋁膜層(11)、錫氧化硅膜層(12)；應(yīng)用TSO制備的覆蓋層，減少銀基鍍膜靶材中SiAl材料的使用，節(jié)約能源且降低成本，制備工藝更簡便，保證玻璃性能的穩(wěn)定性，具有較低的u值和較高的遮陽系數(shù)和G值，節(jié)能效果大幅度提升，減少損耗，提高使用壽命，同比普通玻璃的節(jié)能水平提高80％以上，且能夠在低輻射性能不變的條件下，有效提高耐磨和耐濕性。
【專利說明】
耐磨耐濕三銀低輻射鍍膜玻璃
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及IPC分類B32B應(yīng)用于耐磨、耐濕鍍膜的層狀產(chǎn)品，屬于高新技術(shù)材料領(lǐng) 域，尤其是耐磨耐濕三銀低輻射鍍膜玻璃。
【背景技術(shù)】
[0002] 銀基低輻射(L0w-Emissivity)鍍膜玻璃是在玻璃表面上沉積多層膜材，在多層膜 材中沉積一層以上的純銀基材的玻璃產(chǎn)品，具有高可將光透射率、極高的遠(yuǎn)紅外線反射率， 是建材中使用最為廣泛的材料之一，通常被用來制作玻璃幕墻、門窗、車窗等。利用在大型 建筑的幕墻玻璃上可大大降低空調(diào)費(fèi)用，使建筑的外觀具有美觀的顏色，而且，大部分的汽 車窗玻璃都貼有隔熱膜，可減緩車內(nèi)設(shè)施的老化，降低車內(nèi)環(huán)境的溫度，同時(shí)也降低了汽車 的油耗，節(jié)省用車成本。
[0003] Low-E玻璃是采用真空磁控濺射鍍膜設(shè)備在玻璃表面鍍上多層金屬或其它化合物 薄膜的產(chǎn)品。在Low-E玻璃發(fā)展近30年的歷程中，從最初的單銀基Low-E玻璃，發(fā)展為雙銀基 Low-E玻璃，近些年又開發(fā)出了三銀Low-E玻璃產(chǎn)品。單銀基Low-E玻璃只有1層金屬銀層，其 結(jié)構(gòu)為玻璃/介質(zhì)層/保護(hù)層/銀層/保護(hù)層/介質(zhì)層/覆蓋層;雙銀Low-E玻璃有2層銀層，其 結(jié)構(gòu)為玻璃/介質(zhì)層/保護(hù)層/第1銀層/保護(hù)層/介質(zhì)層/保護(hù)層/第2銀層/保護(hù)層/介質(zhì)層/ 覆蓋層;三銀Low-E玻璃有3層銀層，膜層結(jié)構(gòu)為:玻璃/介質(zhì)層/第1銀層/阻擋層/介質(zhì)層/第 2銀層/阻擋層/介質(zhì)層/第3銀層/阻擋層/介質(zhì)層/覆蓋層。銀層賦予玻璃陽光以及熱學(xué)性 能、反射紅外光;介質(zhì)層在可見光范圍內(nèi)反抗射銀層，作為銀的成核層，介質(zhì)層具有化學(xué)和 機(jī)械穩(wěn)定性，在可見光范圍內(nèi)無吸收，且環(huán)境友好，低成本、無毒性;保護(hù)層在濺射過程中保 護(hù)銀膜、提供穩(wěn)定性且在高溫成膜時(shí)保持穩(wěn)定;覆蓋層是頂層膜的光學(xué)擴(kuò)展，提供額外的穩(wěn) 定性。
[0004] 相比于單銀和雙銀Low-E玻璃來說，三銀Low-E玻璃具有更高的可見光透射比，可 保證室內(nèi)足夠的自然采光，有更低的太陽紅外熱能透射比和更低的傳熱系數(shù)，是目前世界 建筑領(lǐng)域公認(rèn)的最節(jié)能、最符合人性需求的建筑玻璃。三銀Low-E玻璃的U值小于1.65W/ (m 2 · K)，遮陽系數(shù)低于0.3,在建筑上可以維持較合適的玻璃內(nèi)表面溫度，給室內(nèi)人們的活 動(dòng)提供更舒適的生活環(huán)境。且在透視顏色上，雙銀產(chǎn)品的透視色多為灰色和深藍(lán)色等深色 調(diào)，影響了使用者的舒適感，而三銀產(chǎn)品的透過色為藍(lán)綠色，增加了視覺舒適度。
[0005] 現(xiàn)有技術(shù)中，三銀低輻射鍍膜玻璃常作為一種國家大力推廣的綠色建材被當(dāng)作建 筑物幕墻玻璃和門窗玻璃使用，可起到冬暖夏涼的效果，節(jié)省能源消耗。但在長期應(yīng)用中發(fā) 現(xiàn)，現(xiàn)有的三銀低輻射鍍膜玻璃最外層采用的都是硬度較高的氮化硅膜層，在加工過程中 因耐磨性差易出現(xiàn)劃傷而導(dǎo)致產(chǎn)生較高的次品率，此外，現(xiàn)有三銀低輻射鍍膜玻璃因耐濕 性不高導(dǎo)致玻璃的銀膜層易在高溫高濕環(huán)境中發(fā)生氧化或與其他物質(zhì)反應(yīng)，影響其使用壽 命。所以，具有好的隔熱性能同時(shí)具有高的可見光透過率的隔熱膜產(chǎn)品更加符合發(fā)展趨勢， 雖然，對一般金屬來說，高的可見光透過率與高的隔熱性能是相互矛盾的，但是，貴金屬Ag 膜不同程度上，通過合適的方法和工藝，貴金屬與TiO2或ITO等介質(zhì)膜的多層復(fù)合膜卻有助 于實(shí)現(xiàn)該要求，但金屬Ag膜存在易氧化和硫化等耐候性問題。
[0006] 另一方面，在低輻射中空玻璃生產(chǎn)的流程中，需要先在玻璃基板上完成鍍覆銀基 低輻射膜后，再合成中空玻璃，而由于工廠生產(chǎn)線中，通常在完成鍍膜后，需等待較長時(shí)間 才能將鍍膜玻璃做成中空玻璃。在十天甚至更長時(shí)間的等待中，特別是在天氣較為潮濕的 情況下，空氣中的水汽通過擴(kuò)散進(jìn)入銀層而使銀層中的銀原子發(fā)生迀移聚集，由于銀的耐 候性較差，而造成在銀層之上沉積的介質(zhì)層的應(yīng)力過大，易發(fā)生脫膜形成白點(diǎn)，甚至造成鍍 膜玻璃報(bào)廢。
[0007] 中國專利申請201410079111.6公開一種銀基低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基片及形 成于玻璃基片上的膜層，所述膜層包括第一介質(zhì)層、形成于第一層介質(zhì)層上的第一銀合金 層、形成于第一銀合金層上的第一阻擋層、形成于第一阻擋層之上的頂層介質(zhì)層、以及形成 于頂層介質(zhì)層之上的保護(hù)層，所述第一銀合金層為銀與金、鈀、銅和釕中至少一種的合金。
[0008] 現(xiàn)有技術(shù)中，尚無適宜的改進(jìn)技術(shù)方案公開。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0009] 本發(fā)明的目的是提供一種耐磨耐濕三銀低輻射鍍膜玻璃，針對現(xiàn)有技術(shù)的缺陷和 不足，公開了一種新型鍍膜玻璃膜層結(jié)構(gòu)以及其制造方法，能夠在低輻射性能不變的條件 下，有效提尚耐磨和耐濕性，減少損耗，并且提尚使用壽命。
[0010] 本發(fā)明的目的將通過以下技術(shù)措施來實(shí)現(xiàn):包括玻璃基片、玻璃基片、第一氧化鋅 鋁膜層、第一銀層、第一鎳鉻膜層、第一氧化鋅錫膜層、第二銀層、第二鎳鉻膜層、第二氧化 鋅錫膜層、第三銀層、第三鎳鉻膜層、第二氧化鋅鋁膜層和錫氧化硅膜層;玻璃基片的表面 由下而上依次逐層覆蓋第一氧化鋅鋁膜層、第一銀層、第一鎳鉻膜層、第一氧化鋅錫膜層、 第二銀層、第二鎳鉻膜層、第二氧化鋅錫膜層、第三銀層、第三鎳鉻膜層、第二氧化鋅鋁膜層 和錫氧化硅膜層;具體生產(chǎn)方法包含以下步驟：
[0011] ①玻璃基片清洗干燥，并置于真空濺射區(qū)；
[0012] ②一號鍍膜室充入氮?dú)夂蜌鍤猓p旋轉(zhuǎn)陰極、中頻反應(yīng)磁控濺射沉積第一氧化鋅 鋁膜層作為基層介質(zhì)層，靶材為氧化鋅鋁AZO靶，沉積厚度為30~SOnm;
[0013] ③二號鍍膜室充入氬氣，靶材為銀靶，采用旋轉(zhuǎn)陰極、直流或直流加脈沖磁控濺 射，在第一氧化鋅鋁膜層上沉積第一銀層，厚度為8~15nm;
[0014] ④三號鍍膜室充入氬氣，靶材為鎳鉻靶，采用平面陰極或旋轉(zhuǎn)陰極、直流或直流加 脈沖磁控濺射，在第一銀層上沉積第一鎳鉻膜層作為保護(hù)層膜，厚度為2.0~3.5nm;
[0015] ⑤四號鍍膜室充入氮?dú)夂蜌鍤?，靶材為氧化鋅錫TZO靶，采用雙旋轉(zhuǎn)陰極、中頻反 應(yīng)磁控濺射，在第一鎳鉻膜層上沉積第一氧化鋅錫膜層作為介質(zhì)層，厚度為30~50nm;
[0016] ⑥回到二號鍍膜室，在第一氧化鋅錫膜層上沉積第二銀層，厚度為8~15nm;
[0017] ⑦回到三號鍍膜室，在第二銀層上沉積第二鎳鉻膜層作為保護(hù)層，厚度為3~5nm; [0018]⑧回到四號鍍膜室，在第二鎳鉻膜層上沉積第二氧化鋅錫膜層作為介質(zhì)膜層，厚 度為30~50nm;
[0019] ⑨再回到二號鍍膜室，在第二氧化鋅錫膜層上沉積第三銀層，厚度為8~15歷；
[0020] ⑩再回到三號鍍膜室，在第三銀層上沉積第三鎳鉻膜層保護(hù)層，厚度為2.0~ 3.5nm；
[0021] 0回到一號鍍膜室，在第三鎳鉻膜層上沉積第二氧化鋅鋁膜層作為頂層介質(zhì)層， 厚度為30~80nm;
[0022] ?五號鍍膜室充入氧氣和氬氣，靶材為錫氧化硅TSO靶，采用雙旋轉(zhuǎn)陰極、中頻反 應(yīng)磁控濺射在第二氧化鋅鋁膜層上沉積錫氧化硅膜層作為覆蓋層膜，厚度為2.5~5. Onm;
[0023] ?所有膜層全部鍍完之后，向鍍膜室中充入工藝氣體，取出成品即可。
[0024]尤其是，將玻璃基片清洗干燥，并置于真空濺射區(qū)；在一號鍍膜室充入氮?dú)夂蜌?氣，雙旋轉(zhuǎn)陰極、中頻反應(yīng)磁控濺射沉積第一氧化鋅鋁膜層基層介質(zhì)層，靶材為氧化鋅鋁 AZO靶，沉積厚度為50nm;在二號鍍膜室充入氬氣，靶材為銀靶，采用旋轉(zhuǎn)陰極、直流或直流 加脈沖磁控濺射，在第一氧化鋅鋁膜層上沉積第一銀層，厚度為15nm;在三號鍍膜室充入氬 氣，靶材為鎳鉻靶，采用平面陰極或旋轉(zhuǎn)陰極、直流或直流加脈沖磁控濺射，在第一銀層上 沉積第一鎳鉻膜層保護(hù)層，厚度為5.Onm;在四號鍍膜室充入氮?dú)夂蜌鍤猓胁臑檠趸\錫 TZO靶，采用雙旋轉(zhuǎn)陰極、中頻反應(yīng)磁控濺射，在第一鎳鉻膜層上沉積第一氧化鋅錫膜層介 質(zhì)層，厚度為30nm;回到二號鍍膜室，在第一氧化鋅錫膜層上沉積第二銀層，厚度為IOnm;回 到三號鍍膜室，在第二銀層上沉積第二鎳鉻膜層保護(hù)層，厚度為3.5nm;回到四號鍍膜室，在 鎳鉻膜層上沉積TZO介質(zhì)膜層即第二氧化鋅錫膜層，厚度為40nm;再回到二號鍍膜室，在第 二氧化鋅錫膜層上沉積第三銀層，厚度為8nm;再回到三號鍍膜室，在第三銀層上沉積第三 鎳鉻膜層保護(hù)層，厚度為2. Onm;回到一號鍍膜室，在第三鎳鉻膜層上沉積頂層第二氧化鋅 鋁膜層介質(zhì)層，厚度為SOnm;在五號鍍膜室充入氧氣和氬氣，靶材為錫氧化硅TSO靶，采用雙 旋轉(zhuǎn)陰極、中頻反應(yīng)磁控濺射在第二氧化鋅鋁膜層上沉積錫氧化硅膜層覆蓋層膜，厚度為 5. Onm;待所有膜層全部鍍完之后，向鍍膜室中充入工藝氣體即可。
[0025]尤其是，耐濕性測試是將鍍膜玻璃放置在50°C、95%濕度的環(huán)境條件下一周，觀察 膜表面是否氧化以及氧化程度。
[0026]本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)和效果:應(yīng)用TSO制備的覆蓋層，減少銀基鍍膜靶材中SiAl材料的使 用，節(jié)約能源且降低成本，制備工藝更簡便，保證玻璃性能的穩(wěn)定性，具有較低的u值和較高 的遮陽系數(shù)和G值，節(jié)能效果大幅度提升，減少損耗，提高使用壽命，比單銀和雙銀鍍膜玻璃 性能更優(yōu)異，同比普通玻璃的節(jié)能水平提高80%以上，且能夠在低輻射性能不變的條件下， 有效提高耐磨和耐濕性。
【附圖說明】
[0027]圖1為本發(fā)明結(jié)構(gòu)示意圖。
[0028]附圖標(biāo)記包括:玻璃基片1、第一氧化鋅鋁膜層2、第一銀層3、第一鎳鉻膜層4、第一 氧化鋅錫膜層5、第二銀層6、第二鎳鉻膜層7、第二氧化鋅錫膜層8、第三銀層9、第三鎳鉻膜 層10、第二氧化鋅鋁膜層11、錫氧化硅膜層12;
【具體實(shí)施方式】
[0029]本發(fā)明原理在于，采用在一玻璃基片1表面由下而上依次鍍上玻璃基片1、第一氧 化鋅鋁膜層2、第一銀層3、第一鎳鉻膜層4、氧化鋅錫膜層5、第二銀層6、第二鎳鉻膜層7、氧 化鋅錫膜層8、第三銀層9、第三鎳鉻膜層10、第二氧化鋅鋁膜層11和錫氧化硅膜層12,即在 玻璃基片1的表面形成十一層覆膜結(jié)構(gòu)，從而構(gòu)成所述的一種新型高耐磨耐濕性三銀低輻 射鍍膜玻璃。
[0030] 本發(fā)明包括:玻璃基片1、第一氧化鋅鋁膜層2、第一銀層3、第一鎳鉻膜層4、氧化鋅 錫膜層5、第二銀層6、第二鎳鉻膜層7、氧化鋅錫膜層8、第三銀層9、第三鎳鉻膜層10、第二氧 化鋅鋁膜層11和錫氧化硅膜層12。
[0031] 本發(fā)明中，如附圖1所示，玻璃基片1的表面由下而上依次逐層覆蓋第一氧化鋅鋁 膜層2、第一銀層3、第一鎳鉻膜層4、第一氧化鋅錫膜層5、第二銀層6、第二鎳鉻膜層7、第二 氧化鋅錫膜層8、第三銀層9、第三鎳鉻膜層10、第二氧化鋅鋁膜層11和錫氧化硅膜層12。 [0032]下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對本發(fā)明作進(jìn)一步說明。
[0033] 實(shí)施例1:將玻璃基片1清洗干燥，并置于真空濺射區(qū)；在一號鍍膜室充入氮?dú)夂蜌?氣，雙旋轉(zhuǎn)陰極、中頻反應(yīng)磁控濺射沉積第一氧化鋅鋁膜層2基層介質(zhì)層，靶材為氧化鋅鋁 AZO靶，沉積厚度為50nm;在二號鍍膜室充入氬氣，靶材為銀靶，采用旋轉(zhuǎn)陰極、直流或直流 加脈沖磁控濺射，在第一氧化鋅鋁膜層2上沉積第一銀層3,厚度為15nm;在三號鍍膜室充入 氬氣，靶材為鎳鉻靶，采用平面陰極或旋轉(zhuǎn)陰極、直流或直流加脈沖磁控濺射，在第一銀層3 上沉積第一鎳鉻膜層4保護(hù)層，厚度為5. Onm;在四號鍍膜室充入氮?dú)夂蜌鍤?，靶材為氧化鋅 錫TZO靶，采用雙旋轉(zhuǎn)陰極、中頻反應(yīng)磁控濺射，在第一鎳鉻膜層4上沉積第一氧化鋅錫膜層 5介質(zhì)層，厚度為30nm;回到二號鍍膜室，在氧化鋅錫膜層5上沉積第二銀層6,厚度為IOnm; 回到三號鍍膜室，在第二銀層6上沉積第二鎳鉻膜層7保護(hù)層，厚度為3.5nm;回到四號鍍膜 室，在第二鎳鉻膜層7上沉積TZO介質(zhì)膜層即第二氧化鋅錫膜層8,厚度為40nm;再回到二號 鍍膜室，在第二氧化鋅錫膜層8上沉積第三銀層9，厚度為8nm;再回到三號鍍膜室，在第三銀 層9上沉積第三鎳鉻膜層10保護(hù)層，厚度為2.Onm;回到一號鍍膜室，在第三鎳鉻膜層10上沉 積第二氧化鋅鋁膜層11頂層介質(zhì)層，厚度為SOnm;在五號鍍膜室充入氧氣和氬氣，靶材為錫 氧化硅TSO靶，采用雙旋轉(zhuǎn)陰極、中頻反應(yīng)磁控濺射在第二氧化鋅鋁膜層11上沉積錫氧化硅 膜層12覆蓋層膜，厚度為5. Onm;待所有膜層全部鍍完之后，向鍍膜室中充入工藝氣體即可。
[0034] 前述中，當(dāng)十二層膜層都沉積完畢即生成本發(fā)明的耐磨耐濕三銀低輻射鍍膜玻 璃，耐濕性測試是將鍍膜玻璃放置在50°C、95%濕度的環(huán)境條件下一周，觀察膜表面是否氧 化以及氧化程度。
[0035] 本發(fā)明中，第一層和第十層采用氧化鋅鋁AZO膜，第四層和第七層氧化鋅錫TZO膜 為介質(zhì)層，調(diào)節(jié)玻璃的顏色和可見光透光率;第三、六、九層膜采用鎳鉻NiCr膜為保護(hù)層，提 高其與銀膜的附著力，以有效保障銀膜層在高溫下不被氧化或與其它物質(zhì)發(fā)生反應(yīng)，進(jìn)而 使所述玻璃在鋼化后，還能夠具備膜層不變色和輻射率不變化的特性;第二、五、八層采用 三層銀膜是為了使所述玻璃具備非常低的輻射率;第十一層采用錫氧化硅TSO膜是以顯著 提高玻璃基片表面膜層的整體耐磨耐濕性能。
[0036] 本發(fā)明并不局限于上述實(shí)施方式，根據(jù)本發(fā)明的創(chuàng)造精神，本領(lǐng)域技術(shù)人員還可 以做出其他變化，這些依據(jù)本發(fā)明的創(chuàng)造精神所做的變化，都應(yīng)包含在本發(fā)明所要求保護(hù) 的范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 耐磨耐濕三銀低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基片（I)、第一氧化鋅鋁膜層(2)、第一銀層 (3) 、第一鎳鉻膜層(4)、第一氧化鋅錫膜層(5)、第二銀層(6)、第二鎳鉻膜層(7)、第二氧化 鋅錫膜層（8)、第三銀層（9)、第三鎳鉻膜層（10)、第二氧化鋅鋁膜層（11)、錫氧化硅膜層 (12);其特征在于，玻璃基片（1)的表面由下而上依次逐層覆蓋第一氧化鋅鋁膜層(2)、第一 銀層(3)、第一鎳鉻膜層(4)、第一氧化鋅錫膜層(5)、第二銀層(6)、第二鎳鉻膜層(7)、第二 氧化鋅錫膜層(8)、第三銀層(9)、第三鎳鉻膜層（10)、第二氧化鋅鋁膜層（11)、錫氧化硅膜 層（12);具體生產(chǎn)方法包含以下步驟： ① 玻璃基片（1)清洗干燥，并置于真空濺射區(qū)； ② 一號鍍膜室充入氮?dú)夂蜌鍤?，雙旋轉(zhuǎn)陰極、中頻反應(yīng)磁控濺射沉積第一氧化鋅鋁膜 層(2)作為基層介質(zhì)層，靶材為氧化鋅鋁AZO靶，沉積厚度為30~SOnm; ③ 二號鍍膜室充入氬氣，靶材為銀靶，采用旋轉(zhuǎn)陰極、直流或直流加脈沖磁控濺射，在 第一氧化鋅鋁膜層(2)上沉積第一銀層(3)，厚度為8~15nm; ④ 三號鍍膜室充入氬氣，靶材為鎳鉻靶，采用平面陰極或旋轉(zhuǎn)陰極、直流或直流加脈沖 磁控濺射，在第一銀層(3)上沉積第一鎳鉻膜層(4)作為保護(hù)層膜，厚度為2.0~3.5nm; ⑤ 四號鍍膜室充入氮?dú)夂蜌鍤?，靶材為氧化鋅錫TZO靶，采用雙旋轉(zhuǎn)陰極、中頻反應(yīng)磁 控濺射，在第一鎳鉻膜層(4)上沉積第一氧化鋅錫膜層(5)作為介質(zhì)層，厚度為30~50nm; ⑥ 回到二號鍍膜室，在第一氧化鋅錫膜層(5)上沉積第二銀層(6)，厚度為8~15nm; ⑦ 回到三號鍍膜室，在第二銀層(6)上沉積第二鎳鉻膜層（7)作為保護(hù)層，厚度為3~ 5nm； ⑧ 回到四號鍍膜室，在第二鎳鉻膜層(7)上沉積第二氧化鋅錫膜層(8)作為介質(zhì)膜層， 厚度為30~50nm; ⑨ 再回到二號鍍膜室，在第二氧化鋅錫膜層(8)上沉積第三銀層(9)，厚度為8~15nm; ⑩ 再回到三號鍍膜室，在第三銀層(9)上沉積第三鎳鉻膜層（10)保護(hù)層，厚度為2.0~ 3.5nm； ?回到一號鍍膜室，在第三鎳鉻膜層（10)上沉積第二氧化鋅鋁膜層（11)作為頂層介質(zhì) 層，厚度為30~80nm; ?五號鍍膜室充入氧氣和氬氣，靶材為錫氧化硅TSO靶，采用雙旋轉(zhuǎn)陰極、中頻反應(yīng)磁控 濺射在第二氧化鋅鋁膜層（11)上沉積錫氧化硅膜層（12)作為覆蓋層膜，厚度為2.5~ 5.Onm； ⑩所有膜層全部鍍完之后，向鍍膜室中充入工藝氣體，取出成品即可。2. 如權(quán)利要求1所述的耐磨耐濕三銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，將玻璃基片（1)清 洗干燥，并置于真空濺射區(qū)；在一號鍍膜室充入氮?dú)夂蜌鍤?，雙旋轉(zhuǎn)陰極、中頻反應(yīng)磁控濺 射沉積第一氧化鋅鋁膜層(2)基層介質(zhì)層，靶材為氧化鋅鋁AZO靶，沉積厚度為50nm;在二號 鍍膜室充入氬氣，靶材為銀靶，采用旋轉(zhuǎn)陰極、直流或直流加脈沖磁控濺射，在第一氧化鋅 鋁膜層(2)上沉積第一銀層(3)，厚度為15nm;在三號鍍膜室充入氬氣，靶材為鎳鉻靶，采用 平面陰極或旋轉(zhuǎn)陰極、直流或直流加脈沖磁控濺射，在第一銀層（3)上沉積第一鎳鉻膜層 (4) 保護(hù)層，厚度為5.Onm;在四號鍍膜室充入氮?dú)夂蜌鍤猓胁臑檠趸\錫TZO靶，采用雙旋 轉(zhuǎn)陰極、中頻反應(yīng)磁控濺射，在第一鎳鉻膜層(4)上沉積第一氧化鋅錫膜層(5)介質(zhì)層，厚度 為30nm;回到二號鍍膜室，在第一氧化鋅錫膜層(5)上沉積第二銀層(6)，厚度為IOnm;回到 三號鍍膜室，在第二銀層(6)上沉積第二鎳鉻膜層(7)保護(hù)層，厚度為3.5nm;回到四號鍍膜 室，在第二鎳鉻膜層(7)上沉積TZO介質(zhì)膜層即第二氧化鋅錫膜層(8 )，厚度為40nm;再回到 二號鍍膜室，在第二氧化鋅錫膜層(8)上沉積第三銀層(9)，厚度為8nm;再回到三號鍍膜室， 在第三銀層(9)上沉積第三鎳鉻膜層（10)保護(hù)層，厚度為2. Onm;回到一號鍍膜室，在第三鎳 鉻膜層（10)上沉積第二氧化鋅鋁膜層（11)頂層介質(zhì)層，厚度為80nm;在五號鍍膜室充入氧 氣和氬氣，靶材為錫氧化硅TSO靶，采用雙旋轉(zhuǎn)陰極、中頻反應(yīng)磁控濺射在第二氧化鋅鋁膜 層（11)上沉積錫氧化硅膜層（12)覆蓋層膜，厚度為5.Onm;待所有膜層全部鍍完之后，向鍍 膜室中充入工藝氣體即可。3.如權(quán)利要求1所述的耐磨耐濕三銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，耐濕性測試是將鍍 膜玻璃放置在50°C、95%濕度的環(huán)境條件下一周，觀察膜表面是否氧化以及氧化程度。
【文檔編號】C03C17/36GK106007404SQ201610343634
【公開日】2016年10月12日
【申請日】2016年5月23日
【發(fā)明人】莊志杰, 曹興民, 顧宗慧
【申請人】基邁克材料科技（蘇州）有限公司