超白玻璃的減反射膜及超白玻璃制品的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及超白玻璃技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種超白玻璃的減反射膜及超白玻璃制品。
【背景技術(shù)】
[0002]當(dāng)前，通常會(huì)在超白玻璃表面形成減反射膜，可減少太陽(yáng)光反射?，F(xiàn)有的在超白玻璃表面形成減反射膜的方式是使用輥涂機(jī)把減反射溶液涂敷于玻璃基板的表面。這種生產(chǎn)方式形成的減反射膜由于減反射溶液的液體特性，形成的膜層多有缺陷:膜層涂敷不均勻致使膜面出現(xiàn)彩虹現(xiàn)象、由于溶液的表面張力使玻璃邊部的膜層出現(xiàn)帶狀不均勻現(xiàn)象、使用機(jī)器宏觀不易控制膜層厚度和溶液的最佳使用時(shí)間等生產(chǎn)問(wèn)題。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題在于，提供一種超白玻璃的減反射膜，便于批量生產(chǎn)，且能有效消除膜厚不均勻?qū)е碌牟屎?、色彩不均等缺陷?br>[0004]本實(shí)用新型進(jìn)一步所要解決的技術(shù)問(wèn)題在于，提供一種超白玻璃制品，其便于批量生產(chǎn)，且能有效消除膜厚不均勻?qū)е碌牟屎?、色彩不均等缺陷?br>[0005]為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案:一種超白玻璃的減反射膜，所述減反射膜是通過(guò)磁控濺射工藝在超白玻璃基板表面形成的T1-S1-O膜層。
[0006]進(jìn)一步地，所述T1-S1-O膜層結(jié)構(gòu)由里到外依次為ZnO膜、S1j莫、TiS1 J莫及T1J1
[0007]進(jìn)一步地，所述ZnO膜的膜厚為10?20nm，折射率為1.45?1.59。
[0008]進(jìn)一步地，所述S1J莫的膜厚為40?60nm，折射率為1.20?1.35。
[0009]進(jìn)一步地，所述TiS1J莫的膜厚為40?60nm，折射率為1.20?1.35。
[0010]進(jìn)一步地，所述T1J莫的膜厚為10?20nm，折射率為1.20?1.35。
[0011]另一方面，本實(shí)用新型還提供一種超白玻璃制品，包括超白玻璃基板以及形成于超白玻璃基板表面的減反射膜，所述減反射膜是如上任一項(xiàng)所述的減反射膜。
[0012]進(jìn)一步地，所述超白玻璃基板是超白壓花玻璃。
[0013]采用上述技術(shù)方案后，本實(shí)用新型至少具有如下有益效果:本實(shí)用新型使用磁控濺射工藝在超白玻璃基板表面形成T1-S1-O膜層，所得減反射膜膜厚均勻，消除了由于膜厚不均勻出現(xiàn)的色彩不均現(xiàn)象，且容易控制減反射膜層厚度，批量生產(chǎn)過(guò)程操作簡(jiǎn)單，且克服了膜層不均勻所致的彩虹、色彩不均等缺陷，膜層質(zhì)量好。
【附圖說(shuō)明】
[0014]圖1是本實(shí)用新型超白玻璃制品的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0015]需要說(shuō)明的是，在不沖突的情況下，本申請(qǐng)中的實(shí)施例及實(shí)施例中的特征可以相互結(jié)合，下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本申請(qǐng)作進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。
[0016]如圖1所示，本實(shí)用新型提供一種超白玻璃制品，包括超白玻璃基板I以及形成于超白玻璃基板I表面的減反射膜2。
[0017]在一個(gè)實(shí)施例中，所述超白玻璃基板I可以采用超白壓花玻璃制成。
[0018]所述減反射膜2是通過(guò)磁控濺射工藝在超白玻璃基板I表面形成的T1-S1-O膜層。在如圖1所示的優(yōu)選實(shí)施例中，所述T1-S1-O膜層結(jié)構(gòu)由里到外依次為ZnO膜20、Si0x膜 22、TiS1J莫 24 及 T1 ^莫 26。
[0019]優(yōu)選地，所述ZnO膜20的膜厚為10?20nm，折射率為1.45?1.59。
[0020]優(yōu)選地，所述S1J莫22的膜厚為40?60nm，折射率為1.20?1.35。
[0021]優(yōu)選地，所述TiS1J莫24的膜厚為40?60nm，折射率為1.20?1.35。
[0022]優(yōu)選地，所述T1J莫26的膜厚為10?20nm，折射率為1.20?1.35。
[0023]本實(shí)用新型超白玻璃制品及減反射膜的生產(chǎn)過(guò)程如下:
[0024]1、采用常規(guī)超白玻璃生產(chǎn)工藝生產(chǎn)超白玻璃基板；
[0025]2、采用磁控濺射工藝在超白玻璃基板的表面依次濺射形成減反射膜2由內(nèi)至外的各層結(jié)構(gòu)，濺射時(shí)，濺射裝備的本地真空度低于3.0E-6mbar，超白玻璃基板溫度為100?150°C，超白玻璃基板傳送走速為320cm/min，形成各層結(jié)構(gòu)時(shí)的具體濺射參數(shù)為:
[0026]ZnO膜:使用鋅靶材(純度為99.9% )，用高純(純度為99.999%)氣體OjPAr的混合氣體為工作氣體。鍍膜技術(shù)參數(shù):濺射功率40KW ;氬氣流量600sCCm ;氧氣流量900sCCm ；
[0027]S1x膜:使用硅靶材(純度為99.9 % )，用高純(純度為99.999 % )氣體02和Ar的混合氣體為工作氣體。鍍膜技術(shù)參數(shù):濺射功率200KW ;氬氣流量600sCCm ;氧氣流量700sccm ；
[0028]TiS1x膜:使用氧化硅(摻10%的鈦)鈀材，用高純(純度為99.999%)氣體02和Ar的混合氣體為工作氣體。鍍膜技術(shù)參數(shù):濺射功率4200KW ;氬氣流量600sCCm ;氧氣流量700sccm ；
[0029]T1x膜:使用氧化鈦靶材，用高純(純度為99.999%)氣體OjPAr的混合氣體為工作氣體。鍍膜技術(shù)參數(shù):濺射功率功率35KW ;氬氣流量1200SCCm ;氧氣流量lOOsccm。
[0030]盡管已經(jīng)示出和描述了本實(shí)用新型的實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以理解在不脫離本實(shí)用新型的原理和精神的情況下可以對(duì)這些實(shí)施例進(jìn)行多種變化、修改、替換和變型，本實(shí)用新型的范圍由所附權(quán)利要求及其等同范圍限定。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種超白玻璃的減反射膜，包括，其特征在于，所述減反射膜是通過(guò)磁控濺射工藝在超白玻璃基板表面形成的T1-S1-O膜層。
2.如權(quán)利要求1所述的超白玻璃的減反射膜，其特征在于，所述T1-S1-O膜層結(jié)構(gòu)由里到外依次為ZnO膜、S1J莫、TiS1 x膜及T1 x膜。
3.如權(quán)利要求2所述的超白玻璃的減反射膜，其特征在于，所述ZnO膜的膜厚為10?20nm，折射率為1.45?1.59。
4.如權(quán)利要求2所述的超白玻璃的減反射膜，其特征在于，所述S1J莫的膜厚為40?60nm，折射率為1.20?1.35。
5.如權(quán)利要求2所述的超白玻璃的減反射膜，其特征在于，所述TiS1x膜的膜厚為40?60nm，折射率為1.20?1.35。
6.如權(quán)利要求2所述的超白玻璃的減反射膜，其特征在于，所述T1J莫的膜厚為10?20nm，折射率為1.20?1.35。
7.一種超白玻璃制品，包括超白玻璃基板以及形成于超白玻璃基板表面的減反射膜，其特征在于，所述減反射膜是如權(quán)利要求1飛中任一項(xiàng)所述的減反射膜。
8.如權(quán)利要求7所述的超白玻璃制品，其特征在于，所述超白玻璃基板是超白壓花玻璃。
【專利摘要】本實(shí)用新型提供一種超白玻璃的減反射膜，所述減反射膜是通過(guò)磁控濺射工藝在超白玻璃基板表面形成的Ti-Si-O膜層。所述Ti-Si-O膜層結(jié)構(gòu)由里到外依次為ZnO膜、SiOX膜、TiSiOX膜及TiOX膜。本實(shí)用新型還提供一種超白玻璃制品，包括超白玻璃基板以及形成于超白玻璃基板表面的減反射膜，所述減反射膜是如上述的減反射膜。所述玻璃基板是超白壓花玻璃。本實(shí)用新型使用磁控濺射工藝在玻璃表面形成Ti-Si-O膜層，所得減反射膜膜厚均勻，消除了由于膜厚不均勻出現(xiàn)的色彩不均現(xiàn)象，且容易控制減反射膜層厚度，批量生產(chǎn)過(guò)程操作簡(jiǎn)單，且克服了膜層不均勻所致的彩虹、色彩不均等缺陷，膜層質(zhì)量好。
【IPC分類】C03C17-23
【公開(kāi)號(hào)】CN204281595
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201420646329
【發(fā)明人】董清世, 黃石娟
【申請(qǐng)人】信義光伏產(chǎn)業(yè)(安徽)控股有限公司
【公開(kāi)日】2015年4月22日
【申請(qǐng)日】2014年10月31日