轉(zhuǎn)盤式自動(dòng)上釉機(jī)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種上釉裝置，具體是一種轉(zhuǎn)盤式自動(dòng)上釉機(jī)。
【背景技術(shù)】
[0002]陶瓷制品在生產(chǎn)過(guò)程中，通常要在坯體表面上涂上一層釉料，該釉料經(jīng)高溫煅燒后和坯體牢固結(jié)合在一起，釉能增加陶瓷制品的機(jī)械強(qiáng)度、熱穩(wěn)定性和電介強(qiáng)度，還有美化器物、便于拭洗、不被塵土腥穢侵蝕等特點(diǎn)。目前，大多陶瓷生產(chǎn)企業(yè)還是采用人工上釉方式，人工上釉的方式受人工因素影響較大，釉料覆蓋在坯體上不均勻，上釉質(zhì)量不穩(wěn)定，工作效率低，嚴(yán)重制約了陶瓷企業(yè)的規(guī)模化發(fā)展。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題是:提供一種上釉質(zhì)量好，穩(wěn)定，工作效率高的轉(zhuǎn)盤式自動(dòng)上釉機(jī)。
[0004]本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案是:提供一種轉(zhuǎn)盤式自動(dòng)上釉機(jī)，包括機(jī)架、控制機(jī)構(gòu)、旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)、上釉機(jī)構(gòu)、釉珠處理機(jī)構(gòu)和邊角清理機(jī)構(gòu)，所述的控制機(jī)構(gòu)設(shè)于機(jī)架的上部，所述的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)設(shè)于機(jī)架的下部，旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)包括轉(zhuǎn)盤、設(shè)于轉(zhuǎn)盤下方的驅(qū)動(dòng)電機(jī)和轉(zhuǎn)輪，所述的轉(zhuǎn)盤上設(shè)有多個(gè)放置陶瓷制品的支撐柱，所述的支撐柱轉(zhuǎn)動(dòng)連接在轉(zhuǎn)盤上，支撐柱的上端設(shè)有吸盤，支撐柱的下端和所述轉(zhuǎn)輪的表面轉(zhuǎn)動(dòng)接觸，所述的上釉機(jī)構(gòu)設(shè)于支撐柱上方，所述的釉珠處理機(jī)構(gòu)和邊角清理機(jī)構(gòu)分別設(shè)于轉(zhuǎn)盤的兩側(cè)。
[0005]所述的釉珠處理機(jī)構(gòu)包括第一支架和設(shè)在第一支架上的旋轉(zhuǎn)組件，所述的第一支架和機(jī)架連接，旋轉(zhuǎn)組件包括驅(qū)動(dòng)器和旋轉(zhuǎn)刷件，旋轉(zhuǎn)刷件和陶瓷制品表面相接觸。
[0006]所述的邊角清理機(jī)構(gòu)包括第二支架、設(shè)在第二支架上的邊角刷和驅(qū)動(dòng)氣缸，所述的第二支架和機(jī)架連接，所述的邊角刷包括上邊角刷和側(cè)邊角刷，所述的驅(qū)動(dòng)氣缸驅(qū)動(dòng)上邊角刷上下滑動(dòng)，驅(qū)動(dòng)側(cè)邊角刷左右滑動(dòng)。
[0007]所述的上釉機(jī)構(gòu)包括上釉支架、釉料管、閥門和閥門氣缸，所述的上釉支架和機(jī)架連接，釉料管、閥門和閥門氣缸均設(shè)在上釉支架上，閥門氣缸連接閥門，閥門設(shè)在釉料管上，釉料管的出料口正對(duì)轉(zhuǎn)盤的支撐柱。
[0008]所述轉(zhuǎn)盤的側(cè)邊設(shè)有護(hù)罩和護(hù)罩驅(qū)動(dòng)氣缸，所述護(hù)罩驅(qū)動(dòng)氣缸推動(dòng)護(hù)罩在轉(zhuǎn)盤外和轉(zhuǎn)盤內(nèi)滑動(dòng)，以對(duì)陶瓷制品的上釉進(jìn)行保護(hù)。
[0009]采用以上結(jié)構(gòu)后，本實(shí)用新型轉(zhuǎn)盤式自動(dòng)上釉機(jī)在支撐柱上放置陶瓷制品，通過(guò)轉(zhuǎn)盤的轉(zhuǎn)動(dòng)和上釉機(jī)構(gòu)對(duì)陶瓷制品上釉以及釉珠處理、邊角清理實(shí)現(xiàn)陶瓷制品上釉的自動(dòng)化，上釉釉料均勻，質(zhì)量好且穩(wěn)定，大大增強(qiáng)了工作的效率，有利于企業(yè)的規(guī)?；l(fā)展。
【附圖說(shuō)明】
[0010]圖1為本實(shí)用新型轉(zhuǎn)盤式自動(dòng)上釉機(jī)的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0011]圖2為本實(shí)用新型轉(zhuǎn)盤式自動(dòng)上釉機(jī)的另一結(jié)構(gòu)示意圖。
[0012]圖中，1、機(jī)架，2、護(hù)罩，3、上釉支架，4、釉料管、5、閥門，6、閥門氣缸，7、控制機(jī)構(gòu)，8、邊角刷驅(qū)動(dòng)氣缸，9、上邊角刷，10、第二支架，11、側(cè)邊角刷，12、支撐柱，13、轉(zhuǎn)盤，14、驅(qū)動(dòng)電機(jī)，15、旋轉(zhuǎn)刷件，16、驅(qū)動(dòng)器，17、第一支架，18、護(hù)罩驅(qū)動(dòng)氣缸。
【具體實(shí)施方式】
[0013]以下結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型做詳細(xì)的說(shuō)明。
[0014]如圖1、圖2所示，本實(shí)用新型轉(zhuǎn)盤式自動(dòng)上釉機(jī)，包括機(jī)架1、控制機(jī)構(gòu)7、旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)、上釉機(jī)構(gòu)、釉珠處理機(jī)構(gòu)和邊角清理機(jī)構(gòu)，控制機(jī)構(gòu)7設(shè)于機(jī)架I的上部，旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)設(shè)于機(jī)架I的下部，也就是控制機(jī)構(gòu)7的下部，旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)包括轉(zhuǎn)盤13、設(shè)于轉(zhuǎn)盤13下方的驅(qū)動(dòng)電機(jī)14和轉(zhuǎn)輪，轉(zhuǎn)盤13為圓形，轉(zhuǎn)盤13上設(shè)有多個(gè)放置陶瓷制品的支撐柱12，支撐柱12環(huán)形設(shè)置在轉(zhuǎn)盤13靠近外圓周邊緣處，支撐柱12轉(zhuǎn)動(dòng)連接在轉(zhuǎn)盤13上，即支撐柱12豎直和轉(zhuǎn)盤13連接，支撐柱12和轉(zhuǎn)盤13之間設(shè)有軸承，支撐柱12貫穿轉(zhuǎn)盤13分成上部和下部，支撐柱12的上端設(shè)有吸盤，用于吸附陶瓷制品，支撐柱12的下端和轉(zhuǎn)輪的表面轉(zhuǎn)動(dòng)接觸，上釉機(jī)構(gòu)設(shè)于支撐柱12上方，釉珠處理機(jī)構(gòu)和邊角清理機(jī)構(gòu)分別設(shè)于轉(zhuǎn)盤13的兩側(cè)。
[0015]本實(shí)用新型在具體實(shí)施時(shí)，釉珠處理機(jī)構(gòu)包括第一支架17和設(shè)在第一支架17上的旋轉(zhuǎn)組件，第一支架17通過(guò)其上端和機(jī)架I連接，旋轉(zhuǎn)組件包括驅(qū)動(dòng)器16和旋轉(zhuǎn)刷件15，旋轉(zhuǎn)刷件15和陶瓷制品表面相接觸。
[0016]本實(shí)用新型的上釉機(jī)構(gòu)包括上釉支架3、釉料管4、閥門5和閥門氣缸6，上釉支架3和機(jī)架I連接，即上釉支架3上端連接在控制機(jī)構(gòu)7的底板上，釉料管4、閥門5和閥門氣缸6均設(shè)在上釉支3架上，閥門氣缸6連接閥門5，閥門5設(shè)在釉料管4上，閥門氣缸6推動(dòng)閥門5對(duì)釉料管4進(jìn)行關(guān)閉操作，釉料管4的出料口正對(duì)轉(zhuǎn)盤13的支撐柱12，轉(zhuǎn)輪可設(shè)多個(gè)，圍繞設(shè)在轉(zhuǎn)盤13下方靠近轉(zhuǎn)盤13邊緣處，也可以單單設(shè)一個(gè)，設(shè)在釉料管4出料口正下方，也就是支撐柱12隨著轉(zhuǎn)盤13轉(zhuǎn)動(dòng)到此處時(shí)，支撐柱12下端和轉(zhuǎn)輪表面接觸，帶動(dòng)支撐柱12轉(zhuǎn)動(dòng)進(jìn)行上釉。
[0017]本實(shí)用新型的邊角清理機(jī)構(gòu)包括第二支架10、設(shè)在第二支架10上的邊角刷和邊角刷驅(qū)動(dòng)氣缸8，第二支架10通過(guò)其上端和機(jī)架I連接，邊角刷包括上邊角刷9和側(cè)邊角刷11，上邊角刷9和其驅(qū)動(dòng)氣缸設(shè)在支撐柱12正上方，邊角刷驅(qū)動(dòng)氣缸8驅(qū)動(dòng)上邊角刷9上下滑動(dòng)，以對(duì)陶瓷制品上邊角進(jìn)行釉料的處理，側(cè)邊角刷11和其驅(qū)動(dòng)氣缸設(shè)在支撐柱12側(cè)邊，邊角刷驅(qū)動(dòng)氣缸8驅(qū)動(dòng)側(cè)邊角刷11左右滑動(dòng)，以對(duì)陶瓷制品側(cè)邊角進(jìn)行釉料的處理。
[0018]本實(shí)用新型的轉(zhuǎn)盤的側(cè)邊設(shè)有護(hù)罩2和護(hù)罩驅(qū)動(dòng)氣缸18，護(hù)罩驅(qū)動(dòng)氣缸18和護(hù)罩2連接，護(hù)罩驅(qū)動(dòng)氣缸18推動(dòng)護(hù)罩2在轉(zhuǎn)盤外和轉(zhuǎn)盤13內(nèi)滑動(dòng)，以對(duì)陶瓷制品的上釉進(jìn)行保護(hù)。
[0019]本實(shí)用新型在具體實(shí)施時(shí)，機(jī)架I上部的控制機(jī)構(gòu)7和轉(zhuǎn)盤13下方的驅(qū)動(dòng)電機(jī)14、轉(zhuǎn)輪等可以用擋板將其封起來(lái)，中部轉(zhuǎn)盤處可采取開(kāi)放狀態(tài)，方便操作。
[0020]本實(shí)用新型在具體工作時(shí)，將陶瓷制品放置到支撐柱12上，支撐柱12上的吸盤對(duì)陶瓷制品吸附固定，驅(qū)動(dòng)電機(jī)14對(duì)轉(zhuǎn)盤13進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)，當(dāng)?shù)竭_(dá)上釉機(jī)構(gòu)處時(shí)，支撐柱12下端通過(guò)和轉(zhuǎn)輪接觸實(shí)現(xiàn)旋轉(zhuǎn)，上釉機(jī)構(gòu)上釉，護(hù)罩驅(qū)動(dòng)氣缸18推動(dòng)護(hù)罩2從轉(zhuǎn)盤13外滑動(dòng)到轉(zhuǎn)盤13內(nèi)，罩在支撐柱12周圍，以達(dá)到對(duì)上釉時(shí)釉料的飛濺的保護(hù)，上釉完畢后，護(hù)罩2抽出，轉(zhuǎn)盤13繼續(xù)轉(zhuǎn)動(dòng)，經(jīng)過(guò)釉珠處理機(jī)構(gòu)和邊角清理機(jī)構(gòu)對(duì)陶瓷制品進(jìn)行處理。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種轉(zhuǎn)盤式自動(dòng)上釉機(jī)，其特征在于:包括機(jī)架(I)、控制機(jī)構(gòu)(7)、旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)、上釉機(jī)構(gòu)、釉珠處理機(jī)構(gòu)和邊角清理機(jī)構(gòu)，所述的控制機(jī)構(gòu)(7)設(shè)于機(jī)架(I)的上部，所述的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)設(shè)于機(jī)架(I)的下部，旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)包括轉(zhuǎn)盤(13)、設(shè)于轉(zhuǎn)盤(13)下方的驅(qū)動(dòng)電機(jī)(14)和轉(zhuǎn)輪，所述的轉(zhuǎn)盤(13)上設(shè)有多個(gè)放置陶瓷制品的支撐柱(12)，所述的支撐柱(12)轉(zhuǎn)動(dòng)連接在轉(zhuǎn)盤(13)上，支撐柱(12)的上端設(shè)有吸盤，支撐柱(12)的下端和所述轉(zhuǎn)輪的表面轉(zhuǎn)動(dòng)接觸，所述的上釉機(jī)構(gòu)設(shè)于支撐柱(12)上方，所述的釉珠處理機(jī)構(gòu)和邊角清理機(jī)構(gòu)分別設(shè)于轉(zhuǎn)盤(13)的兩側(cè)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的轉(zhuǎn)盤式自動(dòng)上釉機(jī)，其特征在于:所述的釉珠處理機(jī)構(gòu)包括第一支架(17)和設(shè)在第一支架(17)上的旋轉(zhuǎn)組件，所述的第一支架(17)和控制機(jī)構(gòu)(7)的底板連接，旋轉(zhuǎn)組件包括驅(qū)動(dòng)器(16)和旋轉(zhuǎn)刷件(15)，旋轉(zhuǎn)刷件(15)和陶瓷制品表面相接觸。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的轉(zhuǎn)盤式自動(dòng)上釉機(jī)，其特征在于:所述的邊角清理機(jī)構(gòu)包括第二支架(10)、設(shè)在第二支架(10)上的邊角刷和邊角刷驅(qū)動(dòng)氣缸(8)，所述的第二支架(10)和控制機(jī)構(gòu)(7)的底板連接，所述的邊角刷包括上邊角刷(9)和側(cè)邊角刷(11)，所述的邊角刷驅(qū)動(dòng)氣缸(8)驅(qū)動(dòng)上邊角刷(9)上下滑動(dòng)，驅(qū)動(dòng)側(cè)邊角刷(11)左右滑動(dòng)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的轉(zhuǎn)盤式自動(dòng)上釉機(jī)，其特征在于:所述的上釉機(jī)構(gòu)包括上釉支架(3)、釉料管(4)、閥門(5)和閥門氣缸(6)，所述的上釉支架(3)和控制機(jī)構(gòu)(7)的底板連接，釉料管(4 )、閥門(5 )和閥門氣缸(6 )均設(shè)在上釉支架(3 )上，閥門氣缸(6 )連接閥門(5 )，閥門(5 )設(shè)在釉料管(4 )上，釉料管(4 )的出料口正對(duì)轉(zhuǎn)盤(13)的支撐柱(12)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的轉(zhuǎn)盤式自動(dòng)上釉機(jī)，其特征在于:所述轉(zhuǎn)盤(13)的側(cè)邊設(shè)有護(hù)罩(2)和護(hù)罩驅(qū)動(dòng)氣缸(18)，所述護(hù)罩驅(qū)動(dòng)氣缸(18)推動(dòng)護(hù)罩(2)在轉(zhuǎn)盤(13)外和轉(zhuǎn)盤(13)內(nèi)滑動(dòng)，以對(duì)陶瓷制品的上釉進(jìn)行保護(hù)。
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種轉(zhuǎn)盤式自動(dòng)上釉機(jī)，包括機(jī)架、控制機(jī)構(gòu)、旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)、上釉機(jī)構(gòu)、釉珠處理機(jī)構(gòu)和邊角清理機(jī)構(gòu)，所述的控制機(jī)構(gòu)設(shè)于機(jī)架的上部，所述的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)設(shè)于機(jī)架的下部，旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)包括轉(zhuǎn)盤、設(shè)于轉(zhuǎn)盤下方的驅(qū)動(dòng)電機(jī)和轉(zhuǎn)輪，所述的轉(zhuǎn)盤上設(shè)有多個(gè)放置陶瓷制品的支撐柱，所述的支撐柱轉(zhuǎn)動(dòng)連接在轉(zhuǎn)盤上，支撐柱的上端設(shè)有吸盤，支撐柱的下端和所述轉(zhuǎn)輪的表面轉(zhuǎn)動(dòng)接觸，所述的上釉機(jī)構(gòu)設(shè)于支撐柱上方，所述的釉珠處理機(jī)構(gòu)和邊角清理機(jī)構(gòu)分別設(shè)于轉(zhuǎn)盤的兩側(cè)。本實(shí)用新型上釉質(zhì)量好，穩(wěn)定，工作效率高。
【IPC分類】C04B41-86
【公開(kāi)號(hào)】CN204454903
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520131931
【發(fā)明人】凌愷, 李祖富, 凌志聰, 梁文
【申請(qǐng)人】廣西北流市智宇陶瓷自動(dòng)化設(shè)備有限公司
【公開(kāi)日】2015年7月8日
【申請(qǐng)日】2015年3月9日