一種坩堝的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型屬于單氟磷酸鈉生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種坩禍。
【背景技術(shù)】
[0002]單氟磷酸鈉是一種高附加值無機功能性含氟材料，應(yīng)用領(lǐng)域廣泛，市場需求量逐步增加。單氟磷酸鈉的制備方法較多，但歸納起來主要分為三類:熔融法、液相中和法和氣相氟化法。其中，無論從研究重點還是從工業(yè)應(yīng)用現(xiàn)狀來說，熔融法均是較為傳統(tǒng)且普遍選用的方法。
[0003]熔融法制備單氟磷酸鈉的過程中易產(chǎn)生加熱不均勻、迸濺和溢出等問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本實用新型采用的技術(shù)方案是:
[0005]—種坩禍包括主體、加熱片、防溢出裝置、防迸濺裝置，所述主體包括內(nèi)腔和外殼，所述內(nèi)腔為圓筒狀，所述內(nèi)腔中均勻設(shè)有加熱結(jié)構(gòu)，所述加熱結(jié)構(gòu)為矩形片狀，所述加熱結(jié)構(gòu)內(nèi)設(shè)有加熱腔，所述加熱腔內(nèi)設(shè)有所述加熱片，所述內(nèi)腔中至少設(shè)有3個所述加熱結(jié)構(gòu)，所述外殼設(shè)置在所述內(nèi)腔外，所述外殼上設(shè)有所述防溢出裝置，所述防溢出裝置包括防溢出托盤和回流凹槽，所述防溢出托盤設(shè)置在所述外殼上，所述防溢出托盤內(nèi)壁與所述內(nèi)腔相連接，所述防溢出托盤內(nèi)壁上均勻設(shè)有回流凹槽，所述防溢出裝置上設(shè)有所述防迸濺裝置，所述防迸濺裝置為柱形結(jié)構(gòu)，所述防迸濺裝置頂部設(shè)有觀察窗。
[0006]本實用新型具有的優(yōu)點和積極效果是:有效的使加熱更加均勻，不會產(chǎn)生漏液、迸濺的問題，便于觀察坩禍內(nèi)反應(yīng)的情況提高安全性。
【附圖說明】
[0007]圖1是本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0008]圖中:
[0009]1、主體，2、加熱片，3、防溢出裝置，
[0010]4、防迸濺裝置，5、內(nèi)腔，6、外殼，
[0011]7、加熱結(jié)構(gòu)，8、加熱腔，9、防溢出托盤，
[0012]10、回流凹槽，11、觀察窗。
【具體實施方式】
[0013]實施例:
[0014]—種坩禍包括主體1、加熱片2、防溢出裝置3、防迸濺裝置4，主體I包括內(nèi)腔5和外殼6，內(nèi)腔5為圓筒狀，內(nèi)腔5中均勻設(shè)有加熱結(jié)構(gòu)7，加熱結(jié)構(gòu)7為矩形片狀，加熱結(jié)構(gòu)7內(nèi)設(shè)有加熱腔8，加熱腔8內(nèi)設(shè)有加熱片2，內(nèi)腔5中至少設(shè)有3個加熱結(jié)構(gòu)7，加熱結(jié)構(gòu)7的添加似的加熱非常均勻，且增大加熱面積以達(dá)到更好的加熱效果，外殼6設(shè)置在內(nèi)腔5外，內(nèi)腔5和外殼的6的設(shè)置便于更換部件降低成本便于維修，外殼6上設(shè)有防溢出裝置3，防溢出裝置3包括防溢出托盤9和回流凹槽10，防溢出托盤9設(shè)置在外殼6上，防溢出托盤9內(nèi)壁與內(nèi)腔5相連接，防溢出托盤9內(nèi)壁上均勻設(shè)有回流凹槽10，防溢出裝置3上設(shè)有防迸濺裝置4，防迸濺裝置4為柱形結(jié)構(gòu)，防迸濺裝置4頂部設(shè)有觀察窗U。防溢出裝置3和防迸濺裝置4的配合增加了反應(yīng)中的安全性，回流凹槽10的設(shè)置增加了迸濺和溢出液體的回流效果，觀察窗11有利于觀察反應(yīng)情況。
[0015]以上對本實用新型的一個實施例進(jìn)行了詳細(xì)說明，但所述內(nèi)容僅為本實用新型的較佳實施例，不能被認(rèn)為用于限定本實用新型的實施范圍。凡依本實用新型申請范圍所作的均等變化與改進(jìn)等，均應(yīng)仍歸屬于本實用新型的專利涵蓋范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種坩禍，其特征在于包括主體、加熱片、防溢出裝置、防迸濺裝置，所述主體包括內(nèi)腔和外殼，所述內(nèi)腔為圓筒狀，所述內(nèi)腔中均勻設(shè)有加熱結(jié)構(gòu)，所述加熱結(jié)構(gòu)為矩形片狀，所述加熱結(jié)構(gòu)內(nèi)設(shè)有加熱腔，所述加熱腔內(nèi)設(shè)有所述加熱片，所述內(nèi)腔中至少設(shè)有3個所述加熱結(jié)構(gòu)，所述外殼設(shè)置在所述內(nèi)腔外，所述外殼上設(shè)有所述防溢出裝置，所述防溢出裝置包括防溢出托盤和回流凹槽，所述防溢出托盤設(shè)置在所述外殼上，所述防溢出托盤內(nèi)壁與所述內(nèi)腔相連接，所述防溢出托盤內(nèi)壁上均勻設(shè)有回流凹槽，所述防溢出裝置上設(shè)有所述防迸濺裝置，所述防迸濺裝置為柱形結(jié)構(gòu)，所述防迸濺裝置頂部設(shè)有觀察窗。
【專利摘要】本實用新型提供一種坩堝，包括主體、加熱片、防溢出裝置、防迸濺裝置，主體包括內(nèi)腔和外殼，內(nèi)腔為圓筒狀，內(nèi)腔中均勻設(shè)有加熱結(jié)構(gòu)，加熱結(jié)構(gòu)為矩形片狀，加熱結(jié)構(gòu)內(nèi)設(shè)有加熱腔，加熱腔內(nèi)設(shè)有加熱片，內(nèi)腔中至少設(shè)有3個加熱結(jié)構(gòu)，外殼設(shè)置在內(nèi)腔外，外殼上設(shè)有防溢出裝置，防溢出裝置包括防溢出托盤和回流凹槽，防溢出托盤設(shè)置在外殼上，防溢出托盤內(nèi)壁與內(nèi)腔相連接，防溢出托盤內(nèi)壁上均勻設(shè)有回流凹槽，防溢出裝置上設(shè)有防迸濺裝置，防迸濺裝置為柱形結(jié)構(gòu)，防迸濺裝置頂部設(shè)有觀察窗。有效的使加熱更加均勻，不會產(chǎn)生漏液、迸濺的問題，便于觀察坩堝內(nèi)反應(yīng)的情況提高安全性。
【IPC分類】C01B25/455
【公開號】CN205346841
【申請?zhí)枴緾N201520980763
【發(fā)明人】劉建, 李力
【申請人】天津開發(fā)區(qū)信達(dá)化工技術(shù)發(fā)展有限公司
【公開日】2016年6月29日
【申請日】2015年11月30日