一種藍(lán)寶石加工爐的除塵保溫裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及藍(lán)寶石加工技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種藍(lán)寶石加工爐的除塵保溫
目.0
【背景技術(shù)】
[0002]藍(lán)寶石晶體化學(xué)性質(zhì)非常穩(wěn)定，一般不溶于水，不受酸、堿腐蝕，藍(lán)寶石晶體硬度很高，為莫氏硬度9級，僅次于最硬的金剛石。它具有很好的透光性，熱傳導(dǎo)性和電氣絕緣性，力學(xué)機(jī)械性能好，并且具有耐磨和抗風(fēng)蝕的特點(diǎn)。藍(lán)寶石晶體的熔點(diǎn)為2050°C，沸點(diǎn)3500°C，最高工作溫度可達(dá)1900°C。因此，藍(lán)寶石作為一種重要的技術(shù)晶體，已被廣泛地應(yīng)用于科學(xué)技術(shù)、國防與民用工業(yè)的許多領(lǐng)域。
[0003]目前，市場上傳統(tǒng)生產(chǎn)藍(lán)寶石的保溫材料為鎢鉬制品，形狀為一體結(jié)構(gòu)的桶狀，在生產(chǎn)過程中存在高溫下嚴(yán)重變形的問題，從而破壞了熱場的對稱性，并且鎢鉬揮發(fā)物較多，使晶體中雜質(zhì)變多導(dǎo)致合格率降低，成本增加。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]本實(shí)用新型主要解決的技術(shù)問題是提供一種藍(lán)寶石加工爐的除塵保溫裝置，能夠?qū)庸t內(nèi)的藍(lán)寶石進(jìn)行很好的聚溫隔熱，且加工爐內(nèi)設(shè)置有除塵裝置，能有效的對爐內(nèi)氣流進(jìn)行除塵處理。
[0005]為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型采用的一個技術(shù)方案是:提供一種藍(lán)寶石加工爐的除塵保溫裝置，其特征在于，包括:加工爐以及連接在加工爐上端的保溫爐蓋，所述的加工爐內(nèi)壁設(shè)置有一隔熱層，所述的隔熱層內(nèi)壁連接一保溫層，所述的加工爐內(nèi)的底部以及環(huán)形側(cè)壁上設(shè)置有若干個空氣加熱管，所述的加工爐內(nèi)部的頂端設(shè)置有一除塵裝置，所述的加工爐表面連接有一控制機(jī)柜。
[0006]在本實(shí)用新型一個較佳實(shí)施例中，所述的加工爐為柱體結(jié)構(gòu)。
[0007]在本實(shí)用新型一個較佳實(shí)施例中，所述的保溫爐蓋與所述的保溫層材質(zhì)為高純度氧化鋯纖維磚。
[0008]在本實(shí)用新型一個較佳實(shí)施例中，所述的隔熱層為石墨聚苯板。
[0009]在本實(shí)用新型一個較佳實(shí)施例中，所述的控制機(jī)柜上設(shè)置有控制面板。
[0010]在本實(shí)用新型一個較佳實(shí)施例中，所述的除塵裝置、空氣加熱管與控制面板電連接。
[0011]本實(shí)用新型的有益效果是:本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡單，采用加熱、保溫、隔熱三重的保溫結(jié)構(gòu)，能夠?qū)庸t內(nèi)的藍(lán)寶石進(jìn)行很好的聚溫隔熱，且加工爐內(nèi)設(shè)置有除塵裝置，能有效的對爐內(nèi)氣流進(jìn)行除塵處理，保證加工爐內(nèi)氣流潔凈，避免在保溫過程中，藍(lán)寶石晶體受到粉塵顆粒的二次污染。
【附圖說明】
[0012]為了更清楚地說明本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案，下面將對實(shí)施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其它的附圖，其中:
[0013]圖1是本實(shí)用新型一種藍(lán)寶石加工爐的除塵保溫裝置一較佳實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0014]附圖中各部件的標(biāo)記如下:1-加工爐、2-保溫爐蓋、3-隔熱層、4-保溫層、5-空氣加熱管、6-除塵裝置、7-控制機(jī)柜、8-控制面板。
【具體實(shí)施方式】
[0015]下面將對本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅是本實(shí)用新型的一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其它實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。
[0016]請參閱圖1，本實(shí)用新型實(shí)施例包括:
[0017]—種藍(lán)寶石加工爐的除塵保溫裝置，其特征在于，包括:加工爐I以及連接在加工爐I上端的保溫爐蓋2，所述的加工爐I內(nèi)壁設(shè)置有一隔熱層3，所述的隔熱層3內(nèi)壁連接一保溫層4，所述的加工爐I內(nèi)的底部以及環(huán)形側(cè)壁上設(shè)置有若干個空氣加熱管5，所述的加工爐I內(nèi)部的頂端設(shè)置有一除塵裝6置，所述的加工爐I表面連接有一控制機(jī)柜7。
[0018]區(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)。
[0019]在另一個實(shí)施例中，所述的加工爐I為柱體結(jié)構(gòu)。
[0020]在另一個實(shí)施例中，所述的保溫爐蓋2與所述的保溫層4材質(zhì)為高純度氧化鋯纖維磚，高溫下雜質(zhì)揮發(fā)小。
[0021]在另一個實(shí)施例中，所述的隔熱層3為石墨聚苯板，其保溫隔熱性能強(qiáng)，原材料內(nèi)混有紅外反射物，使得其防火性能強(qiáng)，更穩(wěn)定可靠。
[0022]在另一個實(shí)施例中，所述的控制機(jī)柜7上設(shè)置有控制面板8。
[0023]在另一個實(shí)施例中，所述的除塵裝置6、空氣加熱管5與控制面板8電連接。
[0024]本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡單，采用加熱、保溫、隔熱三重的保溫結(jié)構(gòu)，能夠?qū)庸t內(nèi)的藍(lán)寶石進(jìn)行很好的聚溫隔熱，且加工爐內(nèi)設(shè)置有除塵裝置，能有效的對爐內(nèi)氣流進(jìn)行除塵處理，保證加工爐內(nèi)氣流潔凈，避免在保溫過程中，藍(lán)寶石晶體受到粉塵顆粒的二次污染。
[0025]以上所述僅為本實(shí)用新型的實(shí)施例，并非因此限制本實(shí)用新型的專利范圍，凡是利用本實(shí)用新型說明書內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運(yùn)用在其它相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本實(shí)用新型的專利保護(hù)范圍內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種藍(lán)寶石加工爐的除塵保溫裝置，其特征在于，包括:加工爐以及連接在加工爐上端的保溫爐蓋，所述的加工爐內(nèi)壁設(shè)置有一隔熱層，所述的隔熱層內(nèi)壁連接一保溫層，所述的加工爐內(nèi)的底部以及環(huán)形側(cè)壁上設(shè)置有若干個空氣加熱管，所述的加工爐內(nèi)部的頂端設(shè)置有一除塵裝置，所述的加工爐表面連接有一控制機(jī)柜。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的藍(lán)寶石加工爐的除塵保溫裝置，其特征在于，所述的加工爐為柱體結(jié)構(gòu)。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的藍(lán)寶石加工爐的除塵保溫裝置，其特征在于，所述的保溫爐蓋與所述的保溫層材質(zhì)為高純度氧化鋯纖維磚。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的藍(lán)寶石加工爐的除塵保溫裝置，其特征在于，所述的隔熱層為石墨聚苯板。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的藍(lán)寶石加工爐的除塵保溫裝置，其特征在于，所述的控制機(jī)柜上設(shè)置有控制面板。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的藍(lán)寶石加工爐的除塵保溫裝置，其特征在于，所述的除塵裝置、空氣加熱管與控制面板電連接。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種藍(lán)寶石加工爐的除塵保溫裝置，包括加工爐以及連接在加工爐上端的保溫爐蓋，所述的加工爐內(nèi)壁設(shè)置有一隔熱層，所述的隔熱層內(nèi)壁連接一保溫層，所述的加工爐內(nèi)的底部以及環(huán)形側(cè)壁上設(shè)置有若干個空氣加熱管，所述的加工爐內(nèi)部的頂端設(shè)置有一除塵裝置，所述的加工爐表面連接有一控制機(jī)柜。通過上述方式，本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡單，采用加熱、保溫、隔熱三重的保溫結(jié)構(gòu)，能夠?qū)庸t內(nèi)的藍(lán)寶石進(jìn)行很好的聚溫隔熱，且加工爐內(nèi)設(shè)置有除塵裝置，能有效的對爐內(nèi)氣流進(jìn)行除塵處理，保證加工爐內(nèi)氣流潔凈，避免在保溫過程中，藍(lán)寶石晶體受到粉塵顆粒的二次污染。
【IPC分類】C30B35/00, C30B29/20
【公開號】CN205347627
【申請?zhí)枴緾N201520918310
【發(fā)明人】黃根友
【申請人】無錫科諾達(dá)電子有限公司
【公開日】2016年6月29日
【申請日】2015年11月18日