專利名稱：制備異氰酸酯的方法
制備異氰酸酯的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種通過使胺，優(yōu)選二胺和/或多胺優(yōu)選在液相中光氣化來 制備異氰酸酯，優(yōu)選二異氰酸酯和/或多異氰酸酯的優(yōu)選連續(xù)方法，其中使
光氣和胺在至少2個，優(yōu)選至少10個，特別優(yōu)選至少100個，非常特別優(yōu) 選100-100 000個，尤其是100-20 000個平行連接的混合室中接觸。
用于聚氨酯生產(chǎn)的重要基礎(chǔ)產(chǎn)品-異氰酸酯的合成在工業(yè)上通過使相 應(yīng)胺光氣化而進行。在這里產(chǎn)率基于所用胺超過90%。這種反應(yīng)通常已知 并已多次描述。
尤其是在MDI制備中所討論的液相中光氣化描述于DE-A 17 68 439、 DE-A 198 04 915和EP-A 1 073 628中。解決在液相光氣化中因胺鹽酸鹽、 脲、^J^曱酰氯的形成所出現(xiàn)的固體問題的方法描述于EP-A 792 263、 WO 01/91898和WO 03/99770中。
代替液相中光氣化的氣相光氣化(例如用于制備HDI和TDI)已描述于 EP-A 570799、 EP-A 699657和EP-A 593334中。氣相中反應(yīng)的一個問題為 需要高溫，高溫導(dǎo)致不希望的副產(chǎn)物并且尤其是在工業(yè)設(shè)備中在顯著通過 量下的放熱反應(yīng)情況下僅可費力地保持恒定。此外，氣相光氣化不能用于 由進一步包含高級同系物的粗MDA制備MDI。
因此，均基于任選多級單個料流工藝的已知方法的缺點為因副產(chǎn)物而 產(chǎn)生的固體問題。
因此，本發(fā)明目的為開發(fā)一種制備異氰酸酯，尤其是MDI的方法，其 中尤其可盡可能地避免固體副產(chǎn)物。雖然這些問題可通過增加光氣過量而 在一定程度上得到解決，但另一目的為使設(shè)備中的光氣滯留量，即設(shè)備中 存在的光氣量最少。此外，可獲得的異氰酸酯應(yīng)具有非常良好的性能特征。
這些目的已經(jīng)能夠通過一種通過使胺，優(yōu)選二胺和/或多胺，特別優(yōu)選 MDA和TDA光氣化來制備異氰酸酯，優(yōu)選二異氰酸酯和/或多異氰酸酯， 特別優(yōu)選MDI和TDI的方法實現(xiàn)，其中使光氣和胺在至少2個，優(yōu)選至少10個，特別優(yōu)選至少100個，非常特別優(yōu)選100-100 000個，尤其是100-20
000個平行連接的優(yōu)選物理分隔的混合室中接觸。
在本發(fā)明方法中，原料的混合在多個平行連接的物理分隔室中進行并 且優(yōu)選將料流在后面位置合并以優(yōu)選進一步后處理。這種優(yōu)選具有許多平 行料流并且乍看復(fù)雜的安排具有因反應(yīng)器的較大表面積而可以很好地控制 和設(shè)置甚至較高反應(yīng)溫度的優(yōu)點。由于在工業(yè)上可由此使用的較高溫度， 不希望的副產(chǎn)物如胺鹽酸鹽、脲、氨基甲酰氯可得以抑制或避免。此外， 可能的較高溫度能夠使停留時間更短并能夠由此實現(xiàn)在相應(yīng)較低光氣滯留 量下反應(yīng)器體積的減小。
與液相中已知光氣化相比，本發(fā)明可能的較高反應(yīng)溫度使液相光氣化 的已知缺點即尤其是固體形成和長的后期反應(yīng)時間得以避免。
在本發(fā)明方法中，也由此降低了在反應(yīng)區(qū)中的停留時間。更低的停留 時間導(dǎo)致更好的產(chǎn)品質(zhì)量并且因裝置尺寸而與現(xiàn)有技術(shù)相比允許更低的光 氣和溶劑滯留量。
在本發(fā)明方法中，混合室主要為胺與光氣接觸的位置。然而，混合室 優(yōu)選不僅為單純的混合裝置，還為部分反應(yīng)空間或代表其中光氣化主要發(fā) 生的反應(yīng)空間。對于本目的，術(shù)語反應(yīng)空間優(yōu)選是指其中反應(yīng)混合物具有 優(yōu)選反應(yīng)溫度的空間?？稍诜磻?yīng)空間內(nèi)將各混合室的平行料流合并而形成 單個料流?；蛘撸部梢栽诹狭骱喜⒅袄鋮s反應(yīng)混合物，隨后合并及后 處理單個料流。
根據(jù)本發(fā)明，由此使光氣和胺在多個混合室中接觸。優(yōu)選將光氣和胺 通過分開入口供入各混合室中。這意味著各混合室具有至少一個光氣入口 和至少一個胺入口 ?？赏ㄟ^光氣或胺的單個進料線向各混合室的各個入口 供料。這意味著光氣供料線和胺供料線裂分成各混合室的單個進料線，將 其料流在后面位置再合并及一起后處理。因此，光氣料流和胺料流可各自 優(yōu)選裂分成多個子料流并且可將子料流供入混合室，其中各混合室具有至
少一個光氣入口和至少一個胺入口 。
各混合室體積為0.01cn^至1 1，優(yōu)選0.01-10cm3，特別優(yōu)選O.Ol-lcm3。 對于本目的，混合室體積為各混合室具有的在胺和光氣合并位置與這種料流和來自平行連接的另 一混合室的料流合并位置之間的體積。這里包括其 中胺與光氣合并的空間的體積。
如開頭所述，與具有單個料流的相同容量的設(shè)備相比，多個混合室平 行排列具有各平行料流更小并且由此可更好地控制溫度的優(yōu)點。優(yōu)選將微 結(jié)構(gòu)化混合室用作混合室。微結(jié)構(gòu)化混合室通常已知并已多次描述。微結(jié)
構(gòu)化混合室的概拾沈明可在Chemical Micro Process Engineering(化學(xué)微 工藝工程)，V. Hessel等，2004， 200-214中找到。
這些微結(jié)構(gòu)化混合室在特定程度上提供了因混合室或反應(yīng)空間表面積 與體積比大而可以實現(xiàn)特別好且可靠的溫度控制的優(yōu)點。
優(yōu)選將層狀擴散混合器、多層混合器、具有結(jié)構(gòu)化壁的微混合器、裂 分-重組混合器(split-recombine mixer)、自由噴射混合器和/或噴嘴用作混 合室；特別優(yōu)選使用T-或Y-混合器。
在層狀擴散混合器中，已在微結(jié)構(gòu)上分成許多厚度為10-2000pm或 20-1000|Lim或40-500nm的微小流動薄層的流體子料流的混合僅通過垂直 于主要流動方向的分子擴散而進行。混合器的近似設(shè)計可經(jīng)由傅立葉準數(shù)
F0巧/TD實現(xiàn)。如果停留時間T對于橫向混合至少為擴散時間Td的數(shù)量級，
即傅立葉準數(shù)至少為1，則實際上在混合器出口實現(xiàn)完全的分子混合。
層狀擴散混合器可構(gòu)造成簡單的T-或Y-混合器或多層混合器。在T-或Y-混合器中，將待混合的兩子料流經(jīng)由T-或Y-形排列供入單個通道中。 通道寬度Se對橫向擴散位移S擴散是關(guān)鍵的。在100nm至lmm的一般通道 寬度下，對于氣體獲得小于100毫秒的極短混合時間，而在液體情況下混 合時間在分鐘范圍內(nèi)。如果按照本方法情況下混合液體或超臨界流體，則 混合工藝有利地例如借助流動誘導(dǎo)橫向混合而得到額外的幫助。
在多層混合器中，將待混合的子料流在分離器中幾何分成多個流動線， 然后交替供入分離器出口處混合段的薄層中。在液體情況下，使用經(jīng)典多 層混合器實現(xiàn)了秒范圍內(nèi)的混合時間。因為這對于一些應(yīng)用來說不夠(例如 在快速反應(yīng)情況下)，所以已進一步開發(fā)出基本原理使得流動薄層額外幾何 或流體動力匯集。在幾何匯集的情況下，這通過在混合段中收縮實現(xiàn)，而 在流體動力匯集的情況下，它借助垂直于主料流流動并由此進一步壓縮流動薄層的兩個側(cè)料流實現(xiàn)。所述匯集使幾微米的流動薄層側(cè)向尺寸得以實 現(xiàn)，從而使得甚至液體可在數(shù)十微秒內(nèi)混合。
在具有結(jié)構(gòu)化壁的微混合器情況下，使次級結(jié)構(gòu)如凹槽或翅片在與主
要流動方向呈特定角度，優(yōu)選45。或90。下排列于通道壁上。
裂分-重組混合器具有使料流再發(fā)生分離及合并的段。在各自的這些段 中，薄層數(shù)依次加倍并且薄層厚度和擴散位移由此減半。
在噴嘴情況下，原料的混合在混合區(qū)中進行而無需通過利用存在或產(chǎn) 生的湍流來移動內(nèi)件。為了避免副產(chǎn)物，混合應(yīng)在小于l秒，優(yōu)選小于O.l 秒的時間內(nèi)進行。將兩種進料流光氣和胺(用惰性溶劑稀釋的胺是適合的) 分開供入混合區(qū)中。進料流可在每種情況下經(jīng)由一個或多個任何形狀的入 口橫截面進入混合區(qū)。優(yōu)選圓形、橢圓形、環(huán)形和矩形橫截面。混合區(qū)中 的主要流動方向可為與入口橫截面中所引入進料流的主要流動方向呈 0。(平行引入)至180。(逆流排列)范圍內(nèi)的任何角度?？墒沽魅氲倪M料流在進 入混合區(qū)之前加速?；旌蠀^(qū)可為具有任何幾何形狀的空間。它優(yōu)選為通過 除流入和流出橫截面外的實心壁界定的旋轉(zhuǎn)對稱或鏡面對稱體積。在一個 實施方案(同軸噴嘴)中，將胺料流經(jīng)由圓形橫截面供入，而將光氣經(jīng)由環(huán) 隙供入。入口橫截面的排列與圓柱形混合區(qū)的軸同軸。胺入口橫截面的法 線與圓柱體的軸成0°角。光氣料流入口橫截面的法線與圓柱體的軸成0-卯° 角。在另一替代實施方案(環(huán)形噴嘴)中，將胺料流，合適的話用惰性溶劑 稀釋的胺料流經(jīng)由環(huán)隙供入。這與同樣的環(huán)形或圓形混合區(qū)同軸。將光氣 料流經(jīng)由與混合區(qū)的軸同樣同軸排列并圍繞引入胺的環(huán)隙的兩個環(huán)隙供 入。在又一替代實施方案中，將胺料流在中央并同軸供入旋轉(zhuǎn)對稱混合區(qū) 中。將光氣料流經(jīng)由一個或多個圍繞混合區(qū)外圓周分布并且其法線與混合 區(qū)的軸成60-90°角的橫截面供入。
混合室可由通常已知用于該目的并耐反應(yīng)混合物腐蝕的材料如哈氏合 金(HC4、 HB2)、鈦、鉭、玻璃、陶瓷制得?；旌鲜铱商貏e優(yōu)選基于哈氏 合金和/或玻璃。
混合區(qū)與其中混合組分反應(yīng)發(fā)生的反應(yīng)空間相鄰。反應(yīng)空間可具有任 何幾何形狀。優(yōu)選旋轉(zhuǎn)對稱和鏡面對稱體積。反應(yīng)空間的橫截面(垂直于主要流動方向)可保持恒定、在長度上加寬或變窄。
如開頭所述，術(shù)語"混合室"包括以一個平行混合室將胺與光氣接觸 直到合并之間的平行料流。因此，在混合室中將光氣與胺混合之后，優(yōu)選 將來自各混合室的料流合并優(yōu)選一起后處理。
胺與光氣的反應(yīng)優(yōu)選在大于180。C，優(yōu)選220-300。C，尤其是230-270。C 的溫度下進行。反應(yīng)溫度因此優(yōu)選接近或高于所用胺鹽酸鹽解離開始的溫 度。該優(yōu)選反應(yīng)溫度也將術(shù)語"反應(yīng)空間，，在本文限定為其中反應(yīng)混合物 具有該溫度的空間。反應(yīng)混合物的加熱/冷卻例如可通過借助靠近(例如面 對)反應(yīng)區(qū)并且使傳熱介質(zhì)通過的結(jié)構(gòu)體如通道引入或除去熱來進行。熱特 別優(yōu)選經(jīng)由通過反應(yīng)裝置材料的熱傳導(dǎo)而除去；由此，例如熱可通過熱傳 導(dǎo)由反應(yīng)空間傳導(dǎo)到原料入口區(qū)域并可傳導(dǎo)到這些原料上。為此，原料優(yōu) 選具有適當(dāng)入口溫度。在高放熱反應(yīng)的情況下，熱除去可通過通常已知的 手段支持。
優(yōu)選將胺在大于180°C，優(yōu)選大于230。C，特別優(yōu)選230-300。C，尤其 是230-270。C的溫度下引入混合室中?？商貏e優(yōu)選將胺以與通常已知用于 該目的的惰性有機溶劑，優(yōu)選苯、曱苯、二甲苯、二氯苯、 一氯苯混合， 優(yōu)選以基于胺和溶劑總重量為5-卯重量％的重量比例引入混合室中。
優(yōu)選將胺和光氣以1:2-1:20，特別優(yōu)選1:4-1:13的胺與光氣摩爾比供 入混合室中，即反應(yīng)在光氣對胺的適當(dāng)過量下進行。
可優(yōu)選將光氣在大于180°C,特別優(yōu)選220-300。C,尤其是240-270。C 的溫度下引入混合室中。
由于反應(yīng)混合物中高溫與高光氣濃度的結(jié)合，異氰酸酯的制備周期大 大縮短，副產(chǎn)物(例如胺鹽酸鹽和取代脲)的形成被抑制并且次級副產(chǎn)物的 產(chǎn)率降低。這使得可在單個溫度段和單程通過反應(yīng)器下由胺和光氣以高產(chǎn) 率制備各種單異氰酸酯、二異氰酸酯和多異氰酸酯。
胺與光氣的反應(yīng)優(yōu)選在20-100巴，特別優(yōu)選30-60巴的壓力下進行。 壓力由此優(yōu)選根據(jù)所用溶劑的性能來選擇并優(yōu)選等于或高于使反應(yīng)混合物 所有成分維持在液相中所需的壓力。
在優(yōu)選的實施方案中，原料在熱反應(yīng)區(qū)中停留的時間通常不超過5-60秒，停留時間取決于胺的性質(zhì)。反應(yīng)混合物在大于180。C，優(yōu)選220-300。C， 尤其是230-270°C溫度下的停留時間特別優(yōu)選小于60秒，優(yōu)選0.01-30秒， 特別優(yōu)選0.1-2秒。停留時間可如DE-A 17 68 439中所述而測定。
為了避免形成次級和后續(xù)組分，優(yōu)選在反應(yīng)之后，例如通過佳反應(yīng)料 流減壓而迅速冷卻反應(yīng)混合物。在一個可能的實施方案中，這種冷卻可通 過迅速除去反應(yīng)性組分如HC1來進行。由于壓力降低，低沸點組分首先蒸 發(fā)并因蒸發(fā)熱而使混合物冷卻，然后通過氣體體積膨脹而使混合物進一步 冷卻。在其他實施方案中，冷卻可通過在冷卻劑料流中混合(驟冷)或通過 經(jīng)由邊界壁撤熱而進行。上述實施方案的組合也是可以的。因此，優(yōu)選使 反應(yīng)混合物冷卻到180-40。C的溫度；特別優(yōu)選偵反應(yīng)混合物在大于180。C, 優(yōu)選220-300。C，尤其是230-270。C的溫度下停留小于60秒，優(yōu)選0.01-30 秒，特別優(yōu)選0.1-2秒的時間之后冷卻到180°C-40。C。特別優(yōu)選^^應(yīng)混 合物在大于180°C，優(yōu)選220-300。C，尤其是230-270。C的溫度下停留小于 60秒，優(yōu)選0.05-30秒，特別優(yōu)選0.1-2秒的時間之后通過使反應(yīng)混合物減 壓至少20巴而在小于1秒內(nèi)冷卻至少50。C。
本發(fā)明方法因分開的混合室和反應(yīng)空間而提供了可4艮好地控制反應(yīng)溫 度的優(yōu)于已知方法的優(yōu)點。這使得甚至可在非常高的反應(yīng)溫度下安全控制 反應(yīng)并避免過熱及由此的減壓和不希望副產(chǎn)物的形成。在優(yōu)選大于180°C， 更優(yōu)選220-300°C,尤其是230-270°C的溫度下停留小于60秒，優(yōu)選0.05-30 秒，特別優(yōu)選0.1-2秒的時間過程中反應(yīng)混合物溫度的改變優(yōu)選小于20。C， 即反應(yīng)混合物溫度在反應(yīng)空間內(nèi)基本保持恒定。
為制備異氰酸酯，可以使用常用于該目的的通常已知的胺。所述胺可 單獨使用或以與其他常規(guī)等級和純度的胺混合使用?？赡艿陌诽貏e為已知 的伯胺、二胺或多胺。優(yōu)選將2,2，-、 2，4，-和/或4，4，-二氨基二苯甲烷(MDA)， 2，4-和/或2，6-甲苯二胺(TDA)， l-氨基-3,3，5-三曱基-5-氨基曱基環(huán)己烷(異佛 爾酮二胺，IPDA)和/或六亞甲基二胺(HDA)，特別優(yōu)選2,2，-、 2，4，-和/或 4，4，-二氨基二苯曱烷(MDA)和/或2，4-和/或2，6-曱苯二胺(TDA)用作胺。
如開頭所述，光氣化優(yōu)選在液相中進行，即胺在光氣化過程中優(yōu)選在 液相中存在。通過光氣化制備的異氰酸酯可通過常規(guī)方法如蒸餾提純。可優(yōu)選在第
特別優(yōu)選完全除去。該提純步驟可優(yōu)選借助汽提工藝進行。在這種汽提工 藝中，可將異氰酸酯引入內(nèi)表面積大的裝置中并分布于其表面以釋放出揮 發(fā)性組分。所述裝置可例如并優(yōu)選為降膜蒸發(fā)器或薄膜蒸發(fā)器或適當(dāng)設(shè)計 的填充柱。可將惰性氣體作為汽提介質(zhì)供入和/或可向裝置施加減壓。該汽
提工藝過程中的溫度優(yōu)選低于200。C，特別優(yōu)選50-190。C。所需異氰酸酯 可優(yōu)選在已知條件下，優(yōu)選在2-50毫巴壓力和150-250。C溫度下蒸出。
異氰酸酯的提純特別優(yōu)選通過例如在上述汽提工藝中在〈150。C，優(yōu)選 50-149°C的溫度下，合適的話在減壓或引入惰性氣體下從異氰酸酯中除去 光氣、HC1以及合適的話溶劑，并且優(yōu)選在完全除去光氣之后例如在上述 汽提工藝中在《190。C，優(yōu)選150-l卯。C的溫度下從異氰酸酯中分離出溶劑 (其中提純步驟能夠使用上述裝置進行)，隨后通過在2-50毫巴，優(yōu)選2-20 毫巴壓力及150-250°C，優(yōu)選180-230。C溫度下蒸餾分離出異氰酸酯而進 行。
這些提純工藝提供了從異氰酸酯中除去導(dǎo)致所需異氰酸酯中不利性能 的含氯化合物的優(yōu)點。
優(yōu)選將未反應(yīng)的過量光氣和溶劑在與反應(yīng)產(chǎn)物分離之后再循環(huán)到物料 循環(huán)中。 實施例 制備MDI
在245°C溫度和55巴下，將180ml/h濃度為22.8%的MDA在MCB 中的溶液和195ml/h液體光氣以1/12的MDA/光氣摩爾比通過裂分-重組微 混合器。使原料在混合之前各自通過600mm長的1/16，，管并預(yù)熱。在該 0.02ml反應(yīng)器中混合之后，將反應(yīng)料流連續(xù)減壓并引入分離器中。在分離 器中，借助氮氣汽提除去產(chǎn)物中的光氣和HC1。隨后在70毫巴和50-60°C 下蒸餾產(chǎn)物而除去其中的溶劑。
制備TDI
在245°C溫度和55巴下，將210ml/h濃度為17.2%的TDA在MCB中的溶液和195ml/h液體光氣以1〃的TDA/光氣摩爾比通過體積為0.27ml 的T-形層狀擴散混合器。使原料在混合之前各自通過600mm長的1/16" 管并預(yù)熱。在該反應(yīng)器中混合之后，將反應(yīng)料流連續(xù)減壓并引入分離器中。 在分離器中，借助氮氣汽提除去產(chǎn)物中的光氣和HC1。隨后在70毫巴和 50-60°C下蒸餾產(chǎn)物而除去其中的溶劑。
根據(jù)本發(fā)明，可使這些實施例中所述的許多反應(yīng)器平行連接，其中使 胺與光氣混合之后來自各反應(yīng)器的料流合并及一起后處理。
權(quán)利要求
1.一種通過使胺光氣化來制備異氰酸酯的方法，其中使光氣和胺在至少2個平行連接的混合室中接觸。
2. 根據(jù)權(quán)利要求l的方法，其中將所述光氣和所述胺通過分開的入口 供入各混合室中。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中各混合室的體積為0.010 3至1 1。
4. 根據(jù)權(quán)利要求l的方法，其中將微結(jié)構(gòu)化混合室用作混合室。
5. 根據(jù)權(quán)利要求l的方法，其中將層狀擴散混合器、多層混合器、具 有結(jié)構(gòu)化壁的微混合器、裂分-重組混合器、自由噴射混合器和/或噴嘴用 作混合室。
6. 根據(jù)權(quán)利要求4或5的方法，其中所述混合室基于哈氏合金和/或玻璃。
7. 根據(jù)權(quán)利要求l的方法，其中使光氣料流和胺料流各自裂分成多個 子料流并將子料流供入混合室，其中各混合室具有至少 一個光氣入口和至 少一個胺入口 。
8. 根據(jù)權(quán)利要求l的方法，其中在混合室中將光氣與胺混合之后，將 來自各混合室的料流合并。
9. 根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中所述胺與所述光氣的反應(yīng)在大于 180°C的溫度下進行。
10. 根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中將所述胺在大于180°C的溫度下引 入混合室中。
11. 根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中將所述胺以與惰性有機溶劑的混合 物，以基于胺和溶劑總重量為5-90重量％的重量比例引入混合室中。
12. 根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中將胺和光氣以1:2-1:20的胺與光氣 摩爾比供入混合室中。
13. 根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中將所述光氣在大于180°C的溫度下 引入混合室中。
14. 根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中所述胺與所述光氣的反應(yīng)在20-100巴的壓力下進行。
15. 根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中反應(yīng)混合物在大于180°C溫度下的 4f留時間小于60秒。
16. 根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中佳反應(yīng)混合物在大于180°C溫度下 停留小于60秒的時間之后冷卻到40-180°C的溫度。
17. 根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中使反應(yīng)混合物在大于180°C溫度下 停留小于60秒的時間之后通過4吏反應(yīng)混合物減壓至少20巴而在小于1秒 內(nèi)冷卻至少50°C。
18. 根據(jù)權(quán)利要求16或17的方法，其中在小于60秒的停留時間過程 中反應(yīng)混合物溫度的改變小于20。C。
19. 根據(jù)權(quán)利要求l的方法，其中將2，2，-、 2，4，-和/或4,4，-二氨基二苯 甲烷(MDA), 2,4-和/或2,6-甲苯二胺(TDA), l-氨基-3，3，5-三甲基-5-氨基甲 基環(huán)己烷(異佛爾酮二胺，1PDA)和/或六亞曱基二胺(HDA)用作胺。
20. 根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中所述胺在光氣化過程中在液相中存在。
21. 根據(jù)權(quán)利要求l的方法，其中通過在〈150。C溫度下從異氰酸酯中 除去光氣、HC1以及合適的話溶劑，并在除去光氣之后在《190。C溫度下 從異氰酸酯中分離出溶劑，隨后通過在2-50毫巴壓力及150-250°C溫度下 蒸餾分離出異氰酸酯而提純反應(yīng)產(chǎn)物，即異氰酸酯。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種通過使胺光氣化來制備異氰酸酯的方法，其中使光氣和胺在至少2個平行連接的混合室中接觸。
文檔編號C07C263/10GK101528678SQ200780039706
公開日2009年9月9日 申請日期2007年10月18日 優(yōu)先權(quán)日2006年10月26日
發(fā)明者E·施特勒費爾, G·克魯格, J·亨克爾曼, R·伯林, S·屈布爾, S·邁克斯納, W·波爾茨 申請人:巴斯夫歐洲公司