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      高純硅烷氣體連續(xù)制備方法及其裝置的制作方法

      文檔序號:3563102閱讀:794來源:國知局
      專利名稱:高純硅烷氣體連續(xù)制備方法及其裝置的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明涉及化工原料的制備方法和裝置技術(shù)領(lǐng)域。
      背景技術(shù)
      硅烷,又稱單硅烷、硅甲垸、四氫化硅;英文名稱為Silane、 Mono silane、 Silicon tetrahydride、 Silicon hydride。硅烷是電子工業(yè)領(lǐng)域最重要的氣體材料 之一,是高純半導(dǎo)體芯片、多晶硅、硅外延膜、氮化硅膜等的主要原料,廣 泛應(yīng)用于多晶硅、太陽能電池、液晶顯示、光導(dǎo)纖維、有色玻璃制造等行業(yè)。 作為含硅薄膜和涂層的應(yīng)用已從傳統(tǒng)的微電子產(chǎn)業(yè)擴展到鋼鐵、機械、化工 和光學(xué)等各個領(lǐng)域。例如含硅涂層可使普通鋼的高溫耐氧化能力提高上萬 倍,也可使其它金屬的高溫化學(xué)穩(wěn)定性大大改善;使內(nèi)燃機葉片的耐蝕性明 顯增強;使各種材料和零件之間的粘結(jié)強度大幅度提高;使汽車發(fā)動機零件 的壽命延長;也可改變玻璃的反射和透射性能,從而得到顯著的節(jié)能和裝飾 效果;制造高性能陶瓷材料等。
      硅烷目前最熱點的應(yīng)用領(lǐng)域是薄膜太陽能電池。硅垸加熱到約400 °C , 開始分解成非晶態(tài)硅和氫,在60(TC以上即以晶態(tài)硅的形式分解出來。硅垸 的這一特性可用于制造非晶硅薄膜太陽能電池,其特點是原材料豐富、無毒、 無污染,能耗低、質(zhì)量輕、成本低,代表了太陽能產(chǎn)業(yè)發(fā)展的趨勢。隨著薄 膜太陽能電池行業(yè)的迅速發(fā)展,硅垸用量在以每年50%的速度增長,近期全 球年需求量己達(dá)4000噸以上,呈現(xiàn)出供不應(yīng)求的局面。
      目前硅烷的制備通常有以下幾種方法
      (l)硅化鎂法又稱小松法,A—F法。把硅和鎂的混合粉末在約500°C 的氫氣或真空中反應(yīng),把生成的硅化鎂合金粉末和氯化銨(或溴化銨)在低
      4溫液氨中反應(yīng),可得到硅烷。將其在用液氮冷卻的蒸餾裝置中精制后可得到 純硅烷。國內(nèi)小規(guī)模生產(chǎn)硅烷基本使用該方法。另外,用鹽酸處理硅鎂合金 也能得到硅垸,但由于生成的硅垸與水反應(yīng),收率較低。
      (2) 三氯氫硅歧化反應(yīng)法(UCC法)把硅粉末、四氯化硅和氫在加熱到 50(TC以上的流化床爐中反應(yīng),得到三氯氫硅。蒸餾分離三氯硅烷,在催化 劑存在下通過歧化反應(yīng)得到二氯二氫硅垸,再在催化劑的作用下進(jìn)一步得到 一氯三氫硅垸,最后轉(zhuǎn)化為四氯化硅和硅垸。所得的硅烷用低溫精餾裝置提 純。該方法目前國外已經(jīng)實現(xiàn)工業(yè)化。
      4SiHX3 ^ SiH4 + 3SiX4 X: Cl, Br, I,通常是C1。
      (3) 以氫化鋁鋰、硼氫化鋰等作為還原劑,在乙醚或四氫呋喃溶劑中還 原四氯化硅或三氯硅烷。由于該方法原料成本高,反應(yīng)過于激烈,所以只適 合實驗室合成硅烷。四氟化硅與四氫鋁鈉反應(yīng)制備硅垸也有報道。
      (4) 烷氧基硅烷歧化法。該方法是由日本、俄羅斯等國報道的新的硅烷 合成方法。三甲氧基硅垸(或三乙氧基硅烷)在催化劑存在下發(fā)生歧化反應(yīng), 生成硅烷和四甲氧基硅烷(四乙氧基硅烷)。該方法反應(yīng)條件溫和,機理與 UCC法相似,但原料基本沒有腐蝕性。該方法目前還沒有大規(guī)模生產(chǎn)的報 道。
      4SiH (OR) 3 SiHt + 3Si (OR) 4
      R:甲基、乙基及其它烷基。通常是甲基和乙基。
      (5) 其它方法。有文獻(xiàn)報道了使用氫化鋰(LiH)與四氯化硅或三氯硅烷 反應(yīng),制備硅烷,但反應(yīng)溫度高達(dá)300(TC。電解LiCl-KCl-LiF熔鹽體系制 備硅烷也有報道。這些方法均停留在實驗室階段,沒有實現(xiàn)工業(yè)化。

      發(fā)明內(nèi)容
      本發(fā)明目的在于提供易于控制和連續(xù)化生產(chǎn),使生產(chǎn)過程更加安全的高純硅垸氣體連續(xù)制備方法。
      本發(fā)明無氧條件下,在催化劑作用下,將烷氧基硅烷歧化反應(yīng)生成硅烷
      氣體,經(jīng)-90 -100。C的低溫精餾,再經(jīng)-110 -130。C的深低溫液化精餾出高 純硅烷氣體。
      或者無氧條件下,在催化劑作用下,將三氯氫硅歧化反應(yīng)生成硅烷氣 體,經(jīng)-90 -100。C的低溫精餾,再經(jīng)-110 -13(TC的深低溫液化精餾出高純 硅烷氣體。
      本發(fā)明具有如下優(yōu)點
      1、 原料易于合成,也能方便地購買,比生產(chǎn)硅化鎂方便。
      2、 投料是液體投料,易于控制和連續(xù)化生產(chǎn),使生產(chǎn)過程更加安全。
      3、 原料沒有腐蝕性,同時副產(chǎn)物的后處理相對簡單,加入醇即可終止 反應(yīng),副產(chǎn)物可作為產(chǎn)品銷售,也可水解,回收醇和硅膠。
      4、 產(chǎn)品收率可達(dá)90 100%。
      本發(fā)明所述催化劑為苯酚鈉、苯酚鉀、甲醇鈉、甲醇鉀、乙醇鈉、乙醇 鉀、三甲氧基硅鈉、四丁基醋酸銨、3A分子篩、活性氧化鋁、沸石或季胺 型陰離子交換樹脂。
      所述催化劑濃度為《50克/升,優(yōu)選為0.3 20克/升,最好為0.5 10
      克/升。
      本發(fā)明歧化反應(yīng)溫度為0 100°C。
      歧化反應(yīng)時,溶劑可以是與原料和產(chǎn)物沒有反應(yīng)的任何溶劑,也可以不
      使用溶劑,常用溶劑包括N-甲基吡咯垸酮、DMSO、乙腈、DMF、甲苯 或六甲基二硅氧烷等。加入溶劑目的是使催化劑溶解,利于促進(jìn)反應(yīng)。采用 溶劑使催化劑充分分散,加快反應(yīng)進(jìn)程。
      本發(fā)明還提供了高純硅烷氣體連續(xù)制備裝置
      包括兩個原料儲罐、 一個反應(yīng)器、兩級分餾裝置,所述兩個原料儲罐分
      6別通過閥門和計量泵連接在反應(yīng)器的進(jìn)料口上,反應(yīng)器的氣體出口通過閥門 連接至第一級分餾裝置,第一級分鎦裝置的出氣口通過閥門與第二級分餾裝 置連接,第二級分餾裝置的出液口通過閥門連接高純硅烷氣化罐,兩級分餾 裝置分別各自連接冷卻循環(huán)系統(tǒng),反應(yīng)器通過閥門還連接有吹掃氣體進(jìn)氣管 路,反應(yīng)器的液體出口通過閥門連接副產(chǎn)物儲罐。
      由于硅烷是一種極其易燃易爆的氣體,做到安全生產(chǎn)是極為重要的。同 時硅烷的存儲、運輸都存在一定的危險性,盡管制定了嚴(yán)格的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn),但 仍然是一個危險源。實現(xiàn)硅烷的按需即時制備,避免存儲和運輸,是硅烷使 用單位長期以來所追求的目標(biāo),但因為硅烷的制備和純化技術(shù)長期僅為少數(shù) 企業(yè)掌握,絕大多數(shù)硅烷用戶不能自行制備硅烷。本發(fā)明提供了一種集成化 的制備、純化硅烷裝置,產(chǎn)出量可根據(jù)用戶的用氣量進(jìn)行調(diào)節(jié),隨時給用戶 供應(yīng)高純硅烷,無需罐裝和運輸、存儲,操作簡便,安全性大為提高,也大 幅度節(jié)約了成本。


      圖1為本發(fā)明的一種結(jié)構(gòu)示意圖。
      具體實施例方式
      1、 原料
      選用三甲氧基硅烷或三乙氧基硅烷或三氯氫硅。
      催化劑苯酚鈉、苯酚鉀、甲醇鈉、甲醇鉀、乙醇鈉、乙醇鉀、三甲氧 基硅鈉、四丁基醋酸銨、3A分子篩、活性氧化鋁、沸石或季胺型陰離子交
      換樹脂。濃度為《50克/升,優(yōu)選為0.3 20克/升,最好為0.5 10克/升。 溶齊U: N-甲基吡咯垸酮、DMSO、乙腈、DMF、甲苯或六甲基二硅氧烷。
      2、 反應(yīng)方程式如下
      4SiHxA(4—& "~ xSiH4 + (4-x) SiA4
      其中,A為鹵素C1, Br, I,或者是垸氧基,特別是甲氧基、乙氧基。X4或2或3。 3、設(shè)備
      制備高純硅烷的裝置分為三個單元氣體發(fā)生、低溫精餾、深低溫液化。
      主要由兩個原料儲罐、 一個反應(yīng)器和兩級分餾裝置組成,兩個原料儲罐 分別通過閥門和計量泵連接在反應(yīng)器的進(jìn)料口上,反應(yīng)器的氣體出口通過閥 門連接至第一級分餾裝置,第一級分餾裝置的出氣口通過閥門與第二級分餾 裝置連接,第二級分餾裝置的出液口通過閥門連接高純硅烷氣化罐,兩級分 餾裝置分別各自連接冷卻循環(huán)系統(tǒng),反應(yīng)器通過閥門還連接有吹掃氣體進(jìn)氣 管路,反應(yīng)器的液體出口通過閥門連接副產(chǎn)物儲罐。
      圖中,TI01 04為溫度測量;P01 P03為計量泵;PI01為壓力測量;
      V01 V14為閥門;C01 C05為物料容器。
      氣體發(fā)生利用反應(yīng)器ROl產(chǎn)生硅垸粗品,C01為原料儲罐,C02為 催化劑和溶劑原料儲罐,VOl, V02為對應(yīng)的閥門,P01和P02為對應(yīng)的計 量泵,V03為吹掃氣體入口閥,V04為硅烷氣體出口閥,V05為副產(chǎn)物液體 出口閥,C03為副產(chǎn)物儲罐。圍繞反應(yīng)器ROl,使用計量泵投料出料,通過 變頻器控制投料量;對溫度、壓力進(jìn)行實時監(jiān)控,當(dāng)反應(yīng)器內(nèi)壓力升高到一 定限額或升高速度快于設(shè)定值時,將自動調(diào)節(jié)投料量,甚至停止投料。產(chǎn)氣 量取決于投料量(投料速度)和反應(yīng)器大小。對于一定尺寸的反應(yīng)器而言, 產(chǎn)氣量可在一定范圍內(nèi)通過調(diào)節(jié)投料速度進(jìn)行調(diào)節(jié)。
      低溫精餾在第一級分餾裝置EOl中,采用低溫冷媒,使裝有不銹鋼 填料的第一級分餾裝置EOl溫度控制在-90 -100。C,不可低于硅烷的沸點。 粗品硅烷氣體經(jīng)過第一級分餾裝置E01時,沸點高于-10(TC的氣體得到冷 凝,經(jīng)V06進(jìn)入雜質(zhì)氣體儲罐C04,硅烷和更低沸點氣體經(jīng)柱頂進(jìn)入下一 單元。VlO和Vll為低溫冷媒的進(jìn)出閥門。深低溫液化在第二級分餾裝置E02中,溫度控制在-110 -13(TC,切 不可低于硅烷的凝固點。從設(shè)備成本與能耗角度考慮, 一般采用液氮作為冷 源,與冷媒進(jìn)行熱交換,V12和V13分別是深低溫冷媒的進(jìn)出閥門。冷媒 溫度在一定范圍內(nèi)可調(diào)。此時硅烷氣體被冷凝,經(jīng)V08進(jìn)入高純硅烷氣化 罐C05,其它不凝氣體經(jīng)V09被抽走排空,或者被收集后循環(huán)使用。冷凝 后的液態(tài)硅烷在C05氣化,供直接使用或罐裝。V14為高純硅烷供氣閥門。
      由于硅烷的安全特性,整個制備裝置都采用計算機集中控制,溫度、壓 力等參數(shù)可進(jìn)行遠(yuǎn)程監(jiān)控,泵、閥均為計算機自動控制,無需人工操作,最 大限度地保證了生產(chǎn)過程的安全性。設(shè)備與管道、閥門均由耐腐蝕、耐低溫 材料制成,R01可以帶攪拌裝置,也可不帶攪拌裝置。
      4、操作過程
      (1) 準(zhǔn)備工作使用真空抽去系統(tǒng)內(nèi)氣體,注意抽出的氣體排空前經(jīng)過 一個水液封,以免殘余的硅垸直接排入大氣引起爆燃。然后用高純惰性氣體 或氫氣進(jìn)行置換和吹掃,至少置換三次。同時,冷阱溫度要達(dá)到預(yù)設(shè)的工作溫度。
      (2) 通過VOl和V02用計量泵P01和P02向反應(yīng)器R01內(nèi)打入反應(yīng)原 料(如三甲氧基硅垸)和事先加入催化劑的溶劑,反應(yīng)器達(dá)到預(yù)設(shè)的反應(yīng)溫 度。此時反應(yīng)開始。當(dāng)R01內(nèi)部壓力達(dá)到預(yù)設(shè)值(如0.3Mpa)時,開啟閥 門V04使氣體進(jìn)入低溫精餾柱。在停止投料,基本不再產(chǎn)生氣體后,可以 將反應(yīng)器內(nèi)的副產(chǎn)物經(jīng)V05放入C03。進(jìn)入C03的副產(chǎn)物中會有少量未消 耗的反應(yīng)原料,仍可能繼續(xù)反應(yīng),產(chǎn)生硅垸氣體,因此需要對其進(jìn)行淬滅, 可以加醇終止反應(yīng)。C03所產(chǎn)生的氣體必須安全排放。
      (3) 產(chǎn)生的硅烷氣體經(jīng)過-100'C的裝有不銹鋼填料的第一級分餾裝置 EOl,沸點高于此溫度的雜質(zhì)氣體冷凝成液體進(jìn)入容器C04;沸點低于此溫 度的硅烷氣體和吹掃氣體從柱頂進(jìn)入深低溫(-13(TC )第二級分餾裝置E02。
      9如果對硅烷的純度要求低于太陽能級,或?qū)Υ祾邭怏w的含量沒有限制要求,
      此時的硅烷氣體可以不經(jīng)第二級分餾裝置E02直接使用,接入用戶的生產(chǎn) 線或罐裝。
      (4) 硅垸與其它低沸點氣體進(jìn)入第二級分餾裝置E02,此時硅垸氣體 被冷凝,其它氣體被抽走排空,注意排空時的安全,也可以將吹掃氣體收集 后循環(huán)使用。
      (5) 冷凝的硅烷液體進(jìn)入高純硅烷氣化罐C05,立即氣化,成為最終 的高純硅烷,可以直接使用或罐裝。
      實施例l:
      向5升不銹鋼原料儲罐COl內(nèi)加入三甲氧基硅垸2440g (20mol),加熱 到40土5。C,并保持該溫度,稱此為溶液A。向5升不銹鋼原料儲罐C02內(nèi) 加入20克甲醇鈉和2升N-甲基吡咯烷酮攪拌溶解配制成10克/升的催化劑 溶液,加熱到40土5。C,并保持該溫度,稱此為溶液B。
      帶不銹鋼攪拌的5升不銹鋼反應(yīng)器R01為主反應(yīng)器,整個系統(tǒng)和操作 過程均在計算機控制下自動完成。首先開啟氮氣置換程序,通過閥門V03將 整個系統(tǒng)用高純氮氣(^ 5N)充分置換,然后再用高純氫氣(^ 5N)充分置換。 其次再開啟加熱程序,使反應(yīng)器ROl加熱到50士5。C,維持5分鐘后開啟加 料程序,POl、 P02泵被同時啟動并開始加料,溶液A以l升/小時、溶液B 以1.35升/小時的速度同時勻速加入R01反應(yīng)器內(nèi),R01內(nèi)壓力迅速上升, 產(chǎn)生硅烷氣體,保持反應(yīng)溫度為0 10(TC。壓力達(dá)到0.3MPa時,打開閥門 V04,進(jìn)入低溫精餾程序,打開V07, V08,硅垸被冷凝為液體進(jìn)入高純硅 烷氣化罐C05,氫氣等雜質(zhì)排放。硅烷進(jìn)入高純硅烷氣化罐C05的同時啟動 罐裝程序,硅烷隨即氣化罐入鋼瓶。產(chǎn)生硅烷氣體158.3g,收率98.9%。經(jīng) 檢測,硅烷各項指標(biāo)達(dá)到《電子工業(yè)用氣體硅烷國家標(biāo)準(zhǔn)GB/T15909-1995》的要求。
      實施例2:
      各項參數(shù)與流程同例l,溶液A改為三乙氧基硅烷3280g (20mol),催 化劑為20g甲醇鉀和2升DMF配制成的催化劑溶液。在2小時內(nèi)得到硅烷 氣體155.5g,收率97.2%,經(jīng)檢測,硅烷各項指標(biāo)達(dá)到《電子工業(yè)用氣體硅 烷國家標(biāo)準(zhǔn)GB/T15909-1995》的要求。
      *偷制1.
      各項參數(shù)與流程同例l,溶液A仍為三甲氧基硅烷2440g (20mol),催 化劑為20g甲醇鈉,無溶劑。在2小時內(nèi)得到硅烷氣體156.2g,收率97.6%, 經(jīng)檢測,硅烷各項指標(biāo)達(dá)到《電子工業(yè)用氣體硅垸國家標(biāo)準(zhǔn) GB/T15909-1995》的要求。
      實施例4:
      各項參數(shù)與流程同例l,溶液A改為三氯氫硅2710g (20mol),在2小 時內(nèi)得到硅烷氣體155.0g,收率96.9%,經(jīng)檢測,硅垸各項指標(biāo)達(dá)到《電子 工業(yè)用氣體硅烷國家標(biāo)準(zhǔn)GB/T15909-1995》的要求。
      權(quán)利要求
      1、一種高純硅烷氣體連續(xù)制備方法,其特征在于無氧條件下,在催化劑作用下,將烷氧基硅烷歧化反應(yīng)生成硅烷氣體,經(jīng)-90~-100℃的低溫精餾,再經(jīng)-110~-130℃的深低溫液化精餾出高純硅烷氣體。
      2、 一種高純硅垸氣體連續(xù)制備方法,其特征在于無氧條件下,在催 化劑作用下,將三氯氫硅歧化反應(yīng)生成硅烷氣體,經(jīng)-90 -10(TC的低溫精 餾,再經(jīng)-110 -130'C的深低溫液化精餾出高純硅垸氣體。
      3、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述高純硅垸氣體連續(xù)制備方法,其特征在于 所述催化劑為苯酚鈉、苯酚鉀、甲醇鈉、甲醇鉀、乙醇鈉、乙醇鉀、三甲氧 基硅鈉、四丁基醋酸銨、3A分子篩、活性氧化鋁、沸石或季胺型陰離子交 換樹脂。
      4、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述高純硅烷氣體連續(xù)制備方法,其特征在于 所述催化劑濃度為《50克/升。
      5、 根據(jù)權(quán)利要求4所述高純硅垸氣體連續(xù)制備方法,其特征在于所 述催化劑濃度為0.3 20克/升。
      6、 根據(jù)權(quán)利要求5所述高純硅烷氣體連續(xù)制備方法,其特征在于所 述催化劑濃度為0.5 10克/升。
      7、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述高純硅烷氣體連續(xù)制備方法,其特征在于 歧化反應(yīng)溫度為0 100°C。
      8、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述高純硅烷氣體連續(xù)制備方法,其特征在于 歧化反應(yīng)時,加入溶劑N-甲基吡咯烷酮或DMSO或乙腈或DMF或甲苯或 六甲基二硅氧烷。
      9、 一種高純硅烷氣體連續(xù)制備裝置,其特征在于包括兩個原料儲罐、 一個反應(yīng)器、兩級分餾裝置,所述兩個原料儲罐分別通過閥門和計量泵連接在反應(yīng)器的進(jìn)料口上,反應(yīng)器的氣體出口通過閥門連接至第一級分餾裝置, 第一級分餾裝置的出氣口通過閥門與第二級分餾裝置連接,第二級分餾裝置 的出液口通過閥門連接高純硅垸氣化罐,兩級分餾裝置分別各自連接冷卻循 環(huán)系統(tǒng),反應(yīng)器通過閥門還連接有吹掃氣體進(jìn)氣管路,反應(yīng)器的液體出口通 過閥門連接副產(chǎn)物儲罐。
      全文摘要
      高純硅烷氣體連續(xù)制備方法及其裝置,涉及化工原料的制備方法和裝置技術(shù)領(lǐng)域。通過氣體發(fā)生、低溫精餾、深低溫液化三個單元,在無氧條件下,在催化劑作用下,將烷氧基硅烷或三氯氫硅歧化反應(yīng)生成硅烷氣體,經(jīng)過兩級低溫精餾后,純度可達(dá)到電子級要求。該裝置將硅烷的發(fā)生、兩級純化、液化和再氣化集成在一個系統(tǒng)之中,產(chǎn)生的硅烷可以直接接入生產(chǎn)線(制備多晶硅或薄膜太陽能電池以及其它應(yīng)用)或進(jìn)行罐裝。
      文檔編號C07F7/08GK101486727SQ20091000891
      公開日2009年7月22日 申請日期2009年2月13日 優(yōu)先權(quán)日2009年2月13日
      發(fā)明者揚 張, 張眾笑, 李明成, 許向陽 申請人:李明成;張 揚;許向陽;張眾笑
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