專(zhuān)利名稱(chēng)：锍衍生物及其作為潛酸的用途的制作方法
锍衍生物及其作為潛酸的用途本發(fā)明涉及帶有可聚合烯鍵式不飽和基團(tuán)的新型锍鹽，包含由所述化合物衍生的 重復(fù)單元的聚合物，包含所述化合物和/或所述聚合物的化學(xué)放大的光致抗蝕劑，以及所 述化合物和/或聚合物作為潛酸的用途，所述化合物和/或聚合物可通過(guò)用光化電磁輻射 及電子束照射而活化。在EP473547中描述了帶有不飽和雙鍵的鐺鹽，例如，4_丙烯酰氧基苯基二苯基锍 鹽，和包含所述鐺鹽的聚合物。在W02002-73308和SPIE (2001)記錄，4345，521-527中描述 了作為化學(xué)放大的抗蝕劑的可聚合锍鹽化合物，4-甲丙烯酰氧基苯基二甲基锍鹽，以及包 含所述锍鹽的聚合物。在JP2005-84365中描述了 4_(甲基)丙烯酰氧基苯基二苯基锍鹽以 及含有包含所述锍鹽的聚合物的抗蝕劑。在JP2006-259508好JP2006-259509中公開(kāi)了由 包含三芳基锍鹽重復(fù)單元(例如，10-[4-(甲基丙烯酰氧基)苯基]-9H-噻噸鐺、5-(4-甲基 丙烯酰氧基苯基)二苯并噻吩鐺，以及544-(4-乙烯基芐氧基)苯基]二苯并噻吩鐺鹽) 的聚合物和光潛酸組成的化學(xué)放大的抗蝕劑。在本領(lǐng)域，需要熱和化學(xué)穩(wěn)定且在通過(guò)光、UV-輻射、X-射線照射或電子束活化后 可用作各種酸催化反應(yīng)(例如，縮聚反應(yīng)、酸催化的解聚反應(yīng)、酸催化的親電取代反應(yīng)，或 酸催化的脫保護(hù)基)的催化劑的反應(yīng)性潛酸供體。特別需要不僅在深紫外范圍而且在寬的 波長(zhǎng)范圍(例如，g-線(436nm)、i_ 線(365nm)、KrF (248nm)、ArF(193nm)和 EUV (13. 5nm ； 極遠(yuǎn)紫外線)具有高穩(wěn)定性、高敏感性以及高分辨率的潛酸催化劑。此外，出現(xiàn)對(duì)于即使在 通過(guò)曝光分解后也具有非除氣性質(zhì)的潛酸催化劑的新需求，特別是對(duì)于EUV和EB (電子束) 光刻法，其中曝光在真空條件下進(jìn)行。令人驚訝地，現(xiàn)已發(fā)現(xiàn)如下所述的特定锍鹽及經(jīng)由發(fā)色團(tuán)結(jié)構(gòu)部分與锍鹽連接的 聚合物是穩(wěn)定的且對(duì)于寬范圍的光源具有高活性。本發(fā)明的锍鹽及經(jīng)由發(fā)色團(tuán)結(jié)構(gòu)部分與 锍鹽連接的聚合物特別適于作為化學(xué)放大的光致抗蝕劑應(yīng)用中的前述酸催化反應(yīng)的催化 劑。此外，本發(fā)明的锍鹽及經(jīng)由發(fā)色團(tuán)結(jié)構(gòu)部分與锍鹽連接的聚合物由于非除氣性質(zhì)因此 適于EUV及EB光刻術(shù)。此外，包含本發(fā)明的锍鹽經(jīng)由發(fā)色團(tuán)結(jié)構(gòu)部分與锍鹽連接的聚合物 的化學(xué)放大的光致抗蝕劑組合物提供了高光速和高分辨率。本發(fā)明的主題是一種式I化合物
權(quán)利要求
1.
2.根據(jù)權(quán)利要求1的式I化合物，其中， R1^R2和民彼此獨(dú)立地是氫或C1-C18烷基； Y是0或S ；D2、D3和D4彼此獨(dú)立地是0、0 (CO)、C1-C18亞烷基或Ar1 ； Ar1是亞苯基， Ar2和Ar3是亞苯基； Ar是苯基； χ 是
3.包含至少一種由根據(jù)權(quán)利要求1的式I化合物衍生的重復(fù)單元的聚合物。
4.根據(jù)權(quán)利要求3的聚合物，除至少一種由根據(jù)權(quán)利要求1的式I化合物衍生的重復(fù) 單元外還包含一種或多種相同或不同的由式II的烯鍵式不飽和化合物衍生的重復(fù)單元
5.一種化學(xué)放大的光致抗蝕劑組合物，其包含(a)在酸作用下固化的化合物或溶解性在酸作用下增加的化合物；和/或(b)作為光敏酸供體和任選地作為溶解性在酸作用下增加的化合物的至少一種根據(jù)權(quán) 利要求1的式I化合物；和/或包含至少一種由根據(jù)權(quán)利要求1的式I化合物衍生的重復(fù) 單元和任選地由根據(jù)權(quán)利要求4的式II的烯鍵式不飽和化合物衍生的重復(fù)單元的聚合物。
6.根據(jù)權(quán)利要求5的化學(xué)放大的光致抗蝕劑組合物，其是正型抗蝕劑。
7.根據(jù)權(quán)利要求5的化學(xué)放大的光致抗蝕劑組合物，其是負(fù)型抗蝕劑。
8.根據(jù)權(quán)利要求5-7中任一項(xiàng)的化學(xué)放大的光致抗蝕劑組合物，除組份(b)或組份 (a)和(b)外，還包含另外的添加劑(c)、另外的光敏酸供體化合物(bl)、另外的光敏引發(fā)劑 (d)，和/或敏化劑(e)。
9.一種制備光致抗蝕劑的方法，其包括(1)將根據(jù)權(quán)利要求5的組合物施加于基材上；(2)將該組合物于60°C至160°C之間的溫度下進(jìn)行施加后烘烤；(3)以波長(zhǎng)在IOnm至1500nm之間的光進(jìn)行圖像式照射；(4)任選地，于60°C至160°C之間的溫度對(duì)該組合物進(jìn)行曝光后烘烤；以及(5)以溶劑或水性堿性顯像劑顯像。
10.一種組合物，其包含(b)作為光敏酸供體和作為溶解性在酸作用下增加的化合物的至少一種根據(jù)權(quán)利要求 1的式I化合物；和/或包含至少一種由根據(jù)權(quán)利要求1的式I化合物衍生的重復(fù)單元和 由根據(jù)權(quán)利要求4的式II的烯鍵式不飽和化合物衍生的重復(fù)單元的聚合物。
11.一種組合物，其包含(a)在酸作用下固化的化合物或溶解性在酸作用下增加的化合物；和(b)作為光敏酸供體和任選地作為溶解性在酸作用下增加的化合物的至少一種根據(jù)權(quán) 利要求1的式I化合物；和/或包含至少一種由根據(jù)權(quán)利要求1的式I化合物衍生的重復(fù) 單元和任選地由根據(jù)權(quán)利要求4的式II的烯鍵式不飽和化合物衍生的重復(fù)單元的聚合物。
12.根據(jù)權(quán)利要求1的式I化合物或包含至少一種由根據(jù)權(quán)利要求1的式I化合物衍 生的重復(fù)單元和任選地由根據(jù)權(quán)利要求4的式II的烯鍵式不飽和化合物衍生的重復(fù)單元 的聚合物的用途，作為在酸作用下可被交聯(lián)的組合物中的光敏酸供體和/或作為溶解性在 酸作用下增加的組合物中的溶解增強(qiáng)劑。
13.根據(jù)權(quán)利要求1的式I化合物或包含至少一種由根據(jù)權(quán)利要求1的式I化合物衍 生的重復(fù)單元和任選地由根據(jù)權(quán)利要求4的式II的烯鍵式不飽和化合物衍生的重復(fù)單元 的聚合物的用途，在表面涂料、印刷墨、印刷板、齒科組合物、濾色器、抗蝕劑或圖像記錄材 料，或用于記錄全息圖像的圖像記錄材料的制備中作為光敏酸供體。
14.根據(jù)權(quán)利要求1的式I化合物或包含至少一種由根據(jù)權(quán)利要求1的式I化合物衍 生的重復(fù)單元和任選地由選自根據(jù)權(quán)利要求4的式II的烯鍵式不飽和化合物衍生的重復(fù) 單元的聚合物的用途，在濾色器或化學(xué)放大的抗蝕劑的制備中作為光敏酸供體。
15.一種濾色器，其通過(guò)如下步驟制備提供紅色、綠色和藍(lán)色象元以及黑色基底，它 們都包含在透明基材上的光敏樹(shù)脂和顏料和/或染料；并且在基材的表面上或在濾色器層 的表面上提供透明電極，其中所述光敏樹(shù)脂包含用作光敏酸供體的聚合物，該聚合物包含 至少一種由根據(jù)權(quán)利要求1的式I化合物衍生的重復(fù)單元和任選地由根據(jù)權(quán)利要求4的式 II的烯鍵式不飽和化合物衍生的重復(fù)單元。
全文摘要
式(I)化合物可用作可聚合光潛酸，其中，R1、R2和R3例如是氫、鹵素、CN、C1-C18烷基、C1-C10鹵代烷基、(CO)R8、(CO)OR4，或(CO)NR5R6；Y是O、S或CO；D2、D3和D4例如是直接鍵、O、S、NR7、CO、O(CO)、(CO)O、S(CO)、(CO)S、NR7(CO)、(CO)NR7、SO、SO2或OSO2、C1-C18亞烷基、C3-C30亞環(huán)烷基、C2-C12亞烯基、C4-C30亞環(huán)烯基、Ar1；Ar1、Ar2和Ar3例如是亞苯基；R4、R5、R6、R7和R8例如是氫、C3-C30環(huán)烷基、C1-C18烷基、C1-C10鹵代烷基、C2-C12鏈烯基、C4-C30環(huán)烯基、苯基-C1-C3-烷基；X-是式(IA)、(IB)或(IC)；R10例如是C1-C18烷基、C1-C10鹵代烷基、樟腦基、苯基-C1-C3烷基、C3-C30環(huán)烷基；且R11、R12、R13、R14和R15例如是C1-C10鹵代烷基。
文檔編號(hào)C07D327/08GK102056913SQ200980121819
公開(kāi)日2011年5月11日 申請(qǐng)日期2009年6月2日 優(yōu)先權(quán)日2008年6月12日
發(fā)明者山戶(hù)斉, 朝倉(cāng)敏景, 西前祐一 申請(qǐng)人:巴斯夫歐洲公司