專利名稱：鹽及包含該鹽的光致抗蝕劑組合物的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種鹽及包含該鹽的光致抗蝕劑組合物。
背景技術(shù)：
用于采用光刻工藝的半導(dǎo)體微細(xì)加工(microfabrication)的化學(xué)增幅正性抗蝕 劑組合物含有產(chǎn)酸劑，該產(chǎn)酸劑包含可通過輻射產(chǎn)生酸的化合物。美國專利申請(qǐng)US 2006/0194982A1公開了三苯基锍1-(3_羥基金剛烷基)甲氧羰 基二氟甲烷磺酸鹽以及包含樹脂和作為產(chǎn)酸劑的三苯基锍1-(3_羥基金剛烷基)甲氧羰基 二氟甲烷的光致抗蝕劑組合物。美國專利申請(qǐng)US 2004/0018445A1公開了三苯基锍三異丙基苯磺酸鹽和N-(乙基 磺酰氧基)琥珀酰亞胺的組合物以及包含樹脂和作為產(chǎn)酸劑的三苯基锍三異丙基苯磺酸 鹽和N-(乙基磺酰氧基)琥珀酰亞胺的組合物的光致抗蝕劑組合物。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種新穎的鹽、由該鹽衍生的新穎的聚合物以及包含該鹽 的光致抗蝕劑組合物。本發(fā)明涉及下述內(nèi)容<1> 一種如式(I-Pa)所示的鹽
權(quán)利要求
一種如式(I Pa)所示的鹽其中XPa代表單鍵或C1 C4亞烷基，RPa代表單鍵、C4 C36二價(jià)脂環(huán)烴基或C6 C36二價(jià)芳香烴基，其中所述二價(jià)脂環(huán)烴基中的一個(gè)以上的亞甲基可用 O 或 CO 替代，YPa代表可聚合的基團(tuán)，以及ZPa+代表有機(jī)陽離子。FSA00000202254600011.tif
2.如權(quán)利要求1所述的鹽，其特征在于，所述可聚合的基團(tuán)為乙烯基、丙烯?；⒓谆?丙烯?；⒈Ｑ趸蚣谆Ｑ趸?，并且所述乙烯基、丙烯?；?、甲基丙烯?；?、丙烯 酰氧基以及甲基丙烯酰氧基可具有一個(gè)以上的取代基。
3.如權(quán)利要求1所述的鹽，其特征在于，所述Zpa+是如式(IXa)所示的陽離子
4.如權(quán)利要求1所述的鹽，其特征在于，Rpa為單鍵或金剛烷基二基基團(tuán)。
5.一種包含由權(quán)利要求1所述的鹽衍生的結(jié)構(gòu)單元的聚合物。
6.一種包含產(chǎn)酸劑和如權(quán)利要求5所述的聚合物的光致抗蝕劑組合物。
7.一種包含如權(quán)利要求1所述的鹽、產(chǎn)酸劑以及樹脂的光致抗蝕劑組合物，其中所述 樹脂包含具有酸不穩(wěn)定性基團(tuán)的結(jié)構(gòu)單元，并且所述樹脂不溶于或微溶于堿性水溶液，但 在酸的作用下變得可溶于堿性水溶液。
8.如權(quán)利要求6或7所述的光致抗蝕劑組合物，其特征在于，所述光致抗蝕劑組合物還 包含堿性化合物。
9.一種用于形成光致抗蝕圖案的方法，包括如下步驟(1)至(5)(1)將如權(quán)利要求6、7或8所述的光致抗蝕劑組合物施用在基材上，(2)通過進(jìn)行干燥形成光致抗蝕劑膜，(3)使光致抗蝕劑膜曝露在輻射下，(4)焙烤經(jīng)曝露的光致抗蝕劑膜，以及(5)用堿性顯影劑顯影經(jīng)焙烤的光致抗蝕劑膜，從而形成光致抗蝕圖案。
全文摘要
一種如式(I-Pa)所示的鹽其中XPa代表單鍵或C1-C4亞烷基，RPa代表單鍵、C4-C36二價(jià)脂環(huán)烴基或C6-C36二價(jià)芳香烴基，其中所述二價(jià)脂環(huán)烴基中的一個(gè)以上亞甲基可用-O-或-CO-替代，YPa代表可聚合的基團(tuán)，以及ZPa+代表有機(jī)陽離子。
文檔編號(hào)C07C57/04GK101955454SQ20101023402
公開日2011年1月26日 申請(qǐng)日期2010年7月12日 優(yōu)先權(quán)日2009年7月14日
發(fā)明者山下裕子, 市川幸司, 杉原昌子 申請(qǐng)人:住友化學(xué)株式會(huì)社