專利名稱：鹽以及含有該鹽的光致抗蝕劑組合物的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種鹽和含有該鹽的光致抗蝕劑組合物。
背景技術(shù)：
用于采用光刻法的半導(dǎo)體微型制造的化學(xué)放大型正性光致抗蝕劑組合物含有酸 生成劑，該酸生成劑包含通過輻照產(chǎn)生酸的化合物。US 2002/0102491 Al公開了一種由下式表示的鹽
權(quán)利要求
1.一種由式⑴表示的鹽
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鹽，其中L1表示*-C0-0-La-。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鹽，其中Z1s是三芳基锍陽離子。
4.一種酸生成劑，所述酸生成劑包含根據(jù)權(quán)利要求1所述的鹽。
5.一種光致抗蝕劑組合物，所述光致抗蝕劑組合物包含根據(jù)權(quán)利要求4所述的酸生成 劑以及樹脂。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光致抗蝕劑組合物，其中所述樹脂包含具有酸不穩(wěn)定基團(tuán)的 結(jié)構(gòu)單元，其不溶或難溶于堿性水溶液，但通過酸的作用變得可溶于堿性水溶液。
7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的光致抗蝕劑組合物，所述光致抗蝕劑組合物還含有堿性 化合物。
8.一種用于制造光致抗蝕劑圖案的方法，所述方法包括以下步驟(1)至(5)(1)將根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的光致抗蝕劑組合物涂覆在基底上的步驟，(2)通過進(jìn)行干燥以形成光致抗蝕劑膜的步驟，(3)將所述光致抗蝕劑膜對(duì)輻射曝光的步驟，(4)將已曝光的光致抗蝕劑膜進(jìn)行烘焙的步驟，和(5)用堿性顯影液使已烘焙的光致抗蝕劑膜顯影，從而形成光致抗蝕劑圖案的步驟。
全文摘要
本發(fā)明提供鹽以及含有該鹽的光致抗蝕劑組合物。所述鹽由式(I)表示，其中Q1和Q2各自獨(dú)立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基，L1表示*-CO-O-La-或*-CH2-O-Lb-，*表示與-C(Q1)(Q2)-的結(jié)合位置，La和Lb獨(dú)立地表示C1-C15二價(jià)飽和烴基，在所述C1-C15二價(jià)飽和烴基中，一個(gè)或多個(gè)-CH2-可以被-O-或-CO-代替，環(huán)W1表示C2-C36含氮雜環(huán)基，在所述C2-C36含氮雜環(huán)基中，一個(gè)或多個(gè)-CH2-可以被-O-代替，并且Z1⊕表示有機(jī)抗衡離子。
文檔編號(hào)C07D295/088GK102146064SQ20111000694
公開日2011年8月10日 申請(qǐng)日期2011年1月10日 優(yōu)先權(quán)日2010年1月14日
發(fā)明者山口訓(xùn)史, 市川幸司 申請(qǐng)人:住友化學(xué)株式會(huì)社