取代苯甲酸化合物的制造方法
【專利摘要】提供一種能夠以高純度、高收率獲得可用作醫(yī)藥和農藥中間體的取代苯甲酸化合物的工業(yè)制造方法。使式(II)所表示的化合物(Q為含有1～2個選自氧原子和硫原子中的至少1種雜原子的5元或6元飽和雜環(huán)基(所述雜環(huán)基可以被烷基取代)或者二烷氧基甲基；T為三氟甲基；X為鹵素等；Y是氯原子、溴原子或碘原子，n為1～6的整數)、一氧化碳、和式R-OH所表示的化合物(式中，R是烷基)進行反應，接著進行水解，從而制造式(I)所表示的化合物(Q、T、X、n與前述相同)。
【專利說明】取代苯甲酸化合物的制造方法

【技術領域】
[0001] 本發(fā)明涉及可用作醫(yī)藥或農藥制造中間體的取代苯甲酸化合物的制造方法。

【背景技術】
[0002] 在專利文獻1中公開了將2, 4-取代羥基苯甲酸酯作為起始原料來制造取代苯甲 酸的方法。該制造方法存在以下問題：起始原料即二氯苯甲酸甲酯的合成困難且在工業(yè)上 難以獲得，前述起始原料的烷硫基化反應中所使用的無水甲硫醇鈉在工業(yè)上難以獲得，該 烷硫基化反應的選擇性低且收率變低等。
[0003] 現有技術文獻
[0004] 專利文獻
[0005] 專利文獻1 :日本特開2006-16389號公報


【發(fā)明內容】

[0006] 發(fā)明要解決的課題
[0007] 本發(fā)明的目的是提供一種以高純度、高收率且在工業(yè)上制造取代苯甲酸化合物的 方法。
[0008] 解決課題的手段
[0009] 為了解決上述課題進行了各種研究，結果發(fā)現了以高純度、高收率且在工業(yè)上制 造式（I)所表示的化合物的方法，
[0010]

【權利要求】
1. 一種下述式（I)所表示的化合物的制造方法，
其特征在于，使式（II)所表示的化合物、一氧化碳、和式R-OH所表示的化合物進行反 應來制造式（III)所表示的化合物，并將式（III)所表示的化合物水解，所述式R-OH中R 為燒基，
式（Π )中，Q為含有1?2個選自氧原子和硫原子中的至少1種雜原子的5元或6元 飽和雜環(huán)基、或者-燒氧基甲基，所述雜環(huán)基可以被燒基取代； T 為三氟甲基、硝基、氰基、-SOA1、-SO2A1、-PO(C)A 1) (0A2)、-COA1、-CO2A1 或-CONA1A2, A1 和A2分別獨立地為氫原子、烷基或鹵代烷基； X為齒素、燒基、齒代燒基、燒氧基、齒代燒氧基、燒硫基、齒代燒硫基、燒基亞橫醜基、齒 代烷基亞磺酰基、烷基磺?；?、齒代烷基磺?；?、二烷基氨基磺?；⒍X代烷基）氨基磺 ?；?、硝基或氰基； Y為氯原子、溴原子或碘原子，η為1?6的整數；
式（III)中，Q、R、T、X和η與前述相同； 式（I)中的Q、T、X和η與前述相同。
2. 根據權利要求1所述的制造方法，所述式（II)所表示的化合物、一氧化碳、和式 R-OH所表示的化合物之間的反應是在堿和過渡金屬催化劑的存在下進行的，根據需要可以 進一步含有溶劑而進行該反應。
3. 根據權利要求1或2所述的制造方法，所述水解在堿的存在下進行，接著用酸將反應 混合物酸性化。
4. 一種下述式（II)所表示的化合物的制造方法，
其特征在于，使式（IV)所表示的化合物與式（V)所表示的化合物進行反應，
式（IV)中，T 為三氟甲基、硝基、氰基、-SOA1、-SO2A1、-PO(C)A 1) (OA2)、-COA1、-CO2A1 或-CONA1A2, A1和A2分別獨立地為氫原子、烷基或鹵代烷基； X為齒素、燒基、齒代燒基、燒氧基、齒代燒氧基、燒硫基、齒代燒硫基、燒基亞橫醜基、齒 代烷基亞磺?；⑼榛酋；X代烷基磺?；⒍榛被酋；?、二（齒代烷基）氨基磺 酰基、硝基或氰基； Y為氯原子、溴原子或碘原子；
式（V)中，Q為含有1?2個選自氧原子和硫原子中的至少1種雜原子的5元或6元 飽和雜環(huán)基、或者-燒氧基甲基，所述雜環(huán)基可以被燒基取代； η為1?6的整數，L為氯原子、溴原子或碘原子； 式（Π )中的Q、T、X、Y和η與前述相同。
5. 根據權利要求4所述的制造方法，所述式（IV)所表示的化合物與式（V)所表示的化 合物之間的反應是在溶劑和堿的存在下進行的。
6. -種下述式（II)所表示的化合物的制造方法，
其特征在于，使式（VI)所表示的化合物與式M-OH所表示的化合物進行反應來制造式 (IV)所表示的化合物，使式（IV)所表示的化合物與式（V)所表示的化合物進行反應，所述 式M-OH中M為鋰、鈉或鉀，
式（VI)中，T 為三氟甲基、硝基、氰基、-SOA1、-SO2A1、-PO(C)A 1) (0Α2)、-COA1、-CO2A1 或-CONA1A2, A1和A2分別獨立地為氫原子、烷基或鹵代烷基； X為齒素、燒基、齒代燒基、燒氧基、齒代燒氧基、燒硫基、齒代燒硫基、燒基亞橫醜基、齒 代烷基亞磺?；?、烷基磺?；?、齒代烷基磺酰基、二烷基氨基磺?；?、二（齒代烷基）氨基磺 ?；?、硝基或氰基； Y和Z分別獨立地為氯原子、溴原子或碘原子；
式（IV)中，T、X和Y與前述相同；
式（V)中，Q為含有1?2個選自氧原子和硫原子中的至少1種雜原子的5元或6元 飽和雜環(huán)基、或者-燒氧基甲基，所述雜環(huán)基可以被燒基取代； η為1?6的整數，L為氯原子、溴原子或碘原子； 式（Π )中的Q、T、X、Y和η與前述相同。
7. -種下述式（II)所表示的化合物的制造方法，
其特征在于，使式（VI)所表示的化合物與式G-OH所表示的化合物在堿的存在下進行 反應來制造式（IV)所表示的化合物，使式（IV)所表示的化合物與式（V)所表示的化合物 進行反應，所述式G-OH中G為氫原子或烷基，
式（VI)中，T 為三氟甲基、硝基、氰基、-SOA1、-SO2A1、-PO(C)A 1) (0Α2)、-COA1、-CO2A1 或-CONA1A2, A1和A2分別獨立地為氫原子、烷基或鹵代烷基； X為齒素、燒基、齒代燒基、燒氧基、齒代燒氧基、燒硫基、齒代燒硫基、燒基亞橫醜基、齒 代烷基亞磺酰基、烷基磺?；X代烷基磺?；?、二烷基氨基磺酰基、二（齒代烷基）氨基磺 ?；?、硝基或氰基； Y和Z分別獨立地為氯原子、溴原子或碘原子；
式（IV)中，Τ、Χ和Y與前述相同；
式（V)中，Q為含有1?2個選自氧原子和硫原子中的至少1種雜原子的5元或6元 飽和雜環(huán)基、或者-燒氧基甲基，所述雜環(huán)基可以被燒基取代； η為1?6的整數，L為氯原子、溴原子或碘原子； 式（Π )中的Q、T、X、Y和η與前述相同。
8. -種下述式（II)所表示的化合物的制造方法，
其特征在于，使式（VI)所表示的化合物與式（VII)所表示的化合物進行反應，
式（VI)中，T 為三氟甲基、硝基、氰基、-SOA1、-SO2A1、-PO(C)A 1) (OA2)、-COA1、-CO2A1 或-CONA1A2, A1和A2分別獨立地為氫原子、烷基或鹵代烷基； X為齒素、燒基、齒代燒基、燒氧基、齒代燒氧基、燒硫基、齒代燒硫基、燒基亞橫醜基、齒 代烷基亞磺?；⑼榛酋；?、齒代烷基磺酰基、二烷基氨基磺酰基、二（齒代烷基）氨基磺 ?；?、硝基或氰基； Y和Z分別獨立地為氯原子、溴原子或碘原子；
式（VII)中，Q為含有1?2個選自氧原子和硫原子中的至少1種雜原子的5元或6元 飽和雜環(huán)基、或者-燒氧基甲基，所述雜環(huán)基可以被燒基取代； η為1?6的整數； 式（Π )中的Q、T、X、Y和η與前述相同。
9. 一種下述式（IV)所表示的化合物的制造方法，
其特征在于，使式（VI)所表示的化合物與式M-OH所表示的化合物進行反應，所述式 M-OH中M為鋰、鈉或鉀，
式（VI)中，T 為三氟甲基、硝基、氰基、-SOA1、-SO2A1、-PO(C)A 1) (OA2)、-COA1、-CO2A1 或-CONA1A2, A1和A2分別獨立地為氫原子、烷基或鹵代烷基； X為齒素、燒基、齒代燒基、燒氧基、齒代燒氧基、燒硫基、齒代燒硫基、燒基亞橫醜基、齒 代烷基亞磺?；?、烷基磺?；?、齒代烷基磺?；⒍榛被酋；⒍X代烷基）氨基磺 ?；⑾趸蚯杌?； Y和Z分別獨立地為氯原子、溴原子或碘原子； 式（IV)中的T、X和Y與前述相同。
10. -種下述式（IV)所表示的化合物的制造方法，
其特征在于，使式（VI)所表示的化合物與式G-OH所表示的化合物在堿的存在下進行 反應，所述式G-OH中G為氫原子或者燒基，
式（VI)中，T 為三氟甲基、硝基、氰基、-SOA1、-SO2A1、-PO(C)A 1) (0Α2)、-COA1、-CO2A1 或-CONA1A2, A1和A2分別獨立地為氫原子、烷基或鹵代烷基； X為齒素、燒基、齒代燒基、燒氧基、齒代燒氧基、燒硫基、齒代燒硫基、燒基亞橫醜基、齒 代烷基亞磺?；⑼榛酋；?、齒代烷基磺?；?、二烷基氨基磺?；?、二（齒代烷基）氨基磺 酰基、硝基或氰基； Y和Z分別獨立地為氯原子、溴原子或碘原子； 式（IV)中的Τ、Χ和Y與前述相同。
11. 式（II)表不的化合物，
式（Π )中，Q為含有1?2個選自氧原子和硫原子中的至少1種雜原子的5元或6元 飽和雜環(huán)基、或者-燒氧基甲基，所述雜環(huán)基可以被燒基取代； T 為三氟甲基、硝基、氰基、-SOA1、-SO2A1、-PO(C)A 1) (0Α2)、-COA1、-CO2A1 或-CONA1A2, A1 和A2分別獨立地為氫原子、烷基或鹵代烷基； X為齒素、燒基、齒代燒基、燒氧基、齒代燒氧基、燒硫基、齒代燒硫基、燒基亞橫醜基、齒 代烷基亞磺?；⑼榛酋；?、齒代烷基磺?；⒍榛被酋；⒍X代烷基）氨基磺 ?；?、硝基或氰基； Y為氯原子、溴原子或碘原子，η為1?6的整數。
12. 根據權利要求11所述的化合物，所述Q為二氧戊環(huán)-2-基，T為甲磺酰基，X為氯 原子，Y為溴原子，η為2。
13. 式（IV)所表示的化合物.
式（IV)中，T 為三氟甲基、硝基、氰基、-SOA1、-SO2A1、-PO(C)A 1) (OA2)、-COA1、-CO2A1 或-CONA1A2, A1和A2分別獨立地為氫原子、烷基或鹵代烷基； X為齒素、燒基、齒代燒基、燒氧基、齒代燒氧基、燒硫基、齒代燒硫基、燒基亞橫醜基、齒 代烷基亞磺?；⑼榛酋；X代烷基磺?；⒍榛被酋；?、二（齒代烷基）氨基磺 ?；⑾趸蚯杌?； Y為氯原子、溴原子或碘原子。
14. 根據權利要求13所述的化合物，所述T為甲磺?；?，X為氯原子，Y為溴原子。
15. -種下述式（I)所表示的化合物的制造方法，
其特征在于，使式（VI)所表示的化合物與式M-OH所表示的化合物進行反應來制造式 (IV)所表示的化合物，使式（IV)所表示的化合物與式（V)所表示的化合物進行反應來制造 式（II)所表示的化合物，使式（II)所表示的化合物、一氧化碳、和式R-OH所表示的化合物 進行反應來制造式（III)所表示的化合物，并將式（III)所表示的化合物水解，所述式M-OH 中M為鋰、鈉或鉀，所述式R-OH中R為烷基，
式（VI)中，T 為三氟甲基、硝基、氰基、-SOA1、-SO2A1、-PO(C)A 1) (0A2)、-COA1、-CO2A1 或-CONA1A2, A1和A2分別獨立地為氫原子、烷基或鹵代烷基； X為齒素、燒基、齒代燒基、燒氧基、齒代燒氧基、燒硫基、齒代燒硫基、燒基亞橫醜基、齒 代烷基亞磺?；?、烷基磺?；X代烷基磺?；⒍榛被酋；⒍X代烷基）氨基磺 ?；?、硝基或氰基； Y和Z分別獨立地為氯原子、溴原子或碘原子；
式（IV)中，T、X及Y與前述相同；
式（V)中，Q為含有1?2個選自氧原子和硫原子中的至少1種雜原子的5元或6元 飽和雜環(huán)基、或者-燒氧基甲基，所述雜環(huán)基可以被燒基取代； η為1?6的整數，L為氯原子、溴原子或碘原子；
式（II)中，Q、T、X、Y和η與前述相同；
式（III)中，Q、R、T、X和η與前述相同； 式（I)中的Q、T、X和η與前述相同。
16. -種下述式（I)所表示的化合物的制造方法，
其特征在于，使式（VI)所表示的化合物與式G-OH所表示的化合物在堿存在下進行反 應來制造式（IV)所表示的化合物，使式（IV)所表示的化合物與式（V)所表示的化合物進 行反應來制造式（II)所表示的化合物，使式（II)所表示的化合物、一氧化碳、和式R-OH所 表示的化合物進行反應來制造式（ΠΙ)所表示的化合物，并將式（III)所表示的化合物水 解，所述式G-OH中G為氫原子或烷基，所述式R-OH中R為烷基，
式（VI)中，T 為三氟甲基、硝基、氰基、-SOA1、-SO2A1、-PO(C)A 1) (OA2)、-COA1、-CO2A1 或-CONA1A2, A1和A2分別獨立地為氫原子、烷基或鹵代烷基； X為齒素、燒基、齒代燒基、燒氧基、齒代燒氧基、燒硫基、齒代燒硫基、燒基亞橫醜基、齒 代烷基亞磺?；?、烷基磺?；?、齒代烷基磺?；⒍榛被酋；?、二（齒代烷基）氨基磺 ?；?、硝基或氰基； Y和Z分別獨立地為氯原子、溴原子或碘原子；
式（IV)中，T、X和Y與前述相同；
式（V)中，Q為含有1?2個選自氧原子和硫原子中的至少1種雜原子的5元或6元 飽和雜環(huán)基、或者-燒氧基甲基，所述雜環(huán)基可以被燒基取代； η為1?6的整數，L為氯原子、溴原子或碘原子；
式（II)中，Q、T、X、Y和η與前述相同；
式（III)中，Q、R、T、X和η與前述相同； 式（I)中的Q、T、X和η與前述相同。
17. -種下述式（I)所表示的化合物的制造方法，
其特征在于，使式（VI)所表示的化合物與式（VII)所表示的化合物進行反應來制造式 (II)所表示的化合物，使式（II)所表示的化合物、一氧化碳、和式R-OH所表示的化合物進 行反應來制造式（III)所表示的化合物，并將式（III)所表示的化合物水解，所述式R-OH 中R為烷基，
式（VI)中，T 為三氟甲基、硝基、氰基、-SOA1、-SO2A1、-PO(C)A 1) (0A2)、-COA1、-CO2A1 或-CONA1A2, A1和A2分別獨立地為氫原子、烷基或鹵代烷基； X為齒素、燒基、齒代燒基、燒氧基、齒代燒氧基、燒硫基、齒代燒硫基、燒基亞橫醜基、齒 代烷基亞磺?；?、烷基磺?；?、齒代烷基磺?；?、二烷基氨基磺酰基、二（齒代烷基）氨基磺 酰基、硝基或氰基； Y和Z分別獨立地為氯原子、溴原子或碘原子；
式（VII)中，Q為含有1?2個選自氧原子和硫原子中的至少1種雜原子的5元或6元 飽和雜環(huán)基、或者-燒氧基甲基，所述雜環(huán)基可以被燒基取代； η為1?6的整數；
式（II)中，Q、T、X、Y和η與前述相同；
式（III)中，Q、R、T、X和η與前述相同； 式（I)中的Q、T、X和η與前述相同。
【文檔編號】C07D319/06GK104271560SQ201380023855
【公開日】2015年1月7日 申請日期:2013年4月30日 優(yōu)先權日:2012年5月8日
【發(fā)明者】上西久善, 岡本智裕, 安達規(guī)生, 磯貝章彥, 重黑木達也, 小西秀明, 福井文浩 申請人:石原產業(yè)株式會社