用于制備立體選擇性環(huán)氧酮化合物的方法
【專利摘要】提供了一種用于制備立體選擇性環(huán)氧酮化合物的新方法。一種用于制備由通式(1)表示的環(huán)氧酮化合物的方法，如下面的示意圖所示，其中能以高產(chǎn)率和高選擇性獲得環(huán)氧酮衍生物，并提供工業(yè)上可用的制備方法以及提供它們的中間體。其中R1是氫原子,直鏈、支化或環(huán)狀烷基基團,可具有取代基的芳香族基團,或可具有取代基的雜環(huán)基團,R2是用于氨基的保護性基團。R是氫原子或C1-10烷基基團,且多個R可以相同或不同,前提是至少一個R是C1-10烷基基團。
【專利說明】用于制備立體選擇性環(huán)氧酮化合物的方法 【技術領域】 本發(fā)明涉及用于制備環(huán)氧酮化合物的方法，其可用作藥物的中間體。 【背景技術】 由結構式（Ia)和（Ib)(其中PG是保護性基團，Boc是叔丁氧基羰基，Cbz是芐氧基羰 基，在本說明書的后文中通用）表示的環(huán)氧酮衍生物是作為藥物原材料等的重要化合物 (非專利文獻1和專利文獻3)。到目前為止,它們的制備方法包括直接環(huán)氧化α，β -不飽 和的酮（2a)(非專利文獻1)的制備方法，以及環(huán)氧化可通過還原α，β -不飽和的酮（2a) 或（2b)，然后對環(huán)氧醇（4a)或（4b)進行氧化而獲得的烯丙醇（3a)或（3b)的合成方法（專 利文獻1，2和3)。
【權利要求】
1. 一種用于制備由通式（3)表示的醇化合物的方法：
其中R1是氫原子，直鏈、支化或環(huán)狀烷基基團，可具有取代基的芳香族基團，或可具 有取代基的雜環(huán)基團，R2是用于氨基的保護性基團，所述方法包括在由R3N?BH3表示的胺 硼烷絡合物的存在下，還原由通式（2)表示的化合物：
其中R1和R2如上所定義，其中R是氫原子或烷基基團，且多個R可以相同或不 同，前提是至少一個R是烷基基團。
2. 如權利要求1所述的方法，其特征在于，R1是異丙基基團。
3. 如權利要求1所述的方法，其特征在于，R1是苯基基團。
4. 如權利要求1-3中任一項所述的方法，其特征在于，R2是叔丁氧基羰基或芐氧基羰 基。
5. -種用于制備由通式（1)表示的環(huán)氧酮化合物的方法：
其中R1是氫原子，直鏈、支化或環(huán)狀烷基基團，可具有取代基的芳香族基團，或可具 有取代基的雜環(huán)基團，R2是用于氨基的保護性基團，所述方法包括用氧化劑來氧化由通式 (4)表示的醇化合物：
其中R1和R2如上所定義，且氧化時存在由通式（6)表示的N-羥基化合物：
其中Rx選自下組的至少一種取代基：鹵素原子、硝基、氰基、羥基、巰基、氨基、甲?；?、 駿基、橫基、直鏈或支化(^_12焼基基團、C3_12環(huán)焼基基團、（(^_12焼基）氧基基團、（C3_12環(huán)焼 基）氧基基團、（Ch2焼基）硫基基團、（C3_12環(huán)焼基）硫基基團、（Ch2焼基）氣基、（C3_12環(huán) 焼基）氣基、-（Ch焼基）氣基、_(C3_6環(huán)焼基）氣基、CH2焼基撰基、C3_12環(huán)焼基撰基、 (Ch2焼基）氧基撰基、（C3_12環(huán)焼基）氧基撰基、（Ch2焼基）硫代撰基、（C3_12環(huán)焼基）硫 代撰基、（(^_12焼基）氣基撰基、（C3_12環(huán)焼基）氣基撰基、_((^_6焼基）氣基撰基、_(C3_6 環(huán)焼基）氣基撰基、（CH2焼基）撰基氧基基團、（C3_12環(huán)焼基）撰基氧基基團、（CH2焼基） 撰基硫基基團、（C3_12環(huán)焼基）撰基硫基基團、（Ch2焼基）撰基氣基、（C3_12環(huán)焼基）撰基氣 基、-（Ch2焼基撰基）氣基、(C3_12環(huán)焼基撰基）氣基、(^_6齒代焼基基團、C3_6齒代環(huán)焼 基基團、C2_6稀基、C3_6環(huán)稀基、C2_6齒代稀基、C3_6齒代環(huán)稀基、C2_6塊基、C2_6齒代塊基、可用 Ra取代的芐基、可用Ra取代的芐基氧基基團、可用Ra取代的芐基硫基基團、可用Ra取代的 芐基氨基、可用Ra取代的二芐基氨基、可用Ra取代的芐基羰基、可用Ra取代的芐氧基羰基、 可用Ra取代的芐基硫代羰基、可用Ra取代的芐基氨基羰基、可用Ra取代的二芐基氨基羰基、 可用Ra取代的芐基羰基氧基基團、可用Ra取代的芐基羰基硫基基團、可用Ra取代的芐基羰 基氨基、可用Ra取代的二（芐基羰基）氨基、可用Ra取代的芳基、可用Ra取代的芳基氧基 基團、可用Ra取代的芳基硫基基團、可用1^取代的芳基氨基、可用Ra取代的二芳基氨基、可 用Ra取代的芳基羰基、可用Ra取代的芳基氧基羰基、可用Ra取代的芳基硫代羰基、可用Ra 取代的芳基氨基羰基、可用1^取代的二芳基氨基羰基、可用Ra取代的芳基羰基氧基基團、可 用1^取代的芳基羰基硫基基團、可用Ra取代的芳基羰基氨基，以及可用1^取代的二（芳 基羰基）氨基，k是0-12的整數(shù)，且當k大于或等于2時Rx可以相同或不同， Ry和Rz各自獨立地是氫原子或Rx，或者Ry和Rz -起形成可用一個Rx或者兩個相同或 不同Rx取代的亞甲基，以及 Ra是齒素，Ci_6焼基基團，Ci_6齒代焼基基團，C3_6環(huán)焼基基團，Ci_6焼氧基基團，C^_6焼 氧基(^_6焼基基團，Ci_6焼基亞氧硫基(^_6焼基基團，Ci_6齒代焼氧基基團，Ci_6焼基亞氧硫 基，C^_6焼基亞硫酸基，(^_6焼基橫酸基，(^_6齒代焼基亞氧硫基，(^_ 6齒代焼基亞硫酸基，(^_6 齒代燒基橫醜基，C2_6稀基，C2_6齒代稀基，C2_6稀基氧基基團，C2_6齒代稀基氧基基團，C2_6 稀基亞氧硫基，C2_6稀基亞硫醜基，C2_6稀基橫醜基，C2_6齒代稀基亞氧硫基，C2_6齒代稀基 亞硫?；?，c2_6鹵代烯基磺?；?，c2_6炔基，c2_6鹵代炔基，c2_6炔基氧基基團，c2_6鹵代炔 基氧基基團，C2_6塊基亞氧硫基，C2_6塊基亞硫醜基，C2_6塊基橫醜基，C2_6齒代塊基亞氧硫 基，c2_6鹵代炔基亞硫?；琧2-c6鹵代炔基磺?；?，N02,CN，甲?；?，OH，SH，NH2,SCN，(^_6烷 氧基撰基，CV6燒基撰基，Ci_6齒代燒基撰基，Ci_6燒基撰基氧基基團，苯基基團，Ci_6燒基 氨基或二Cm烷基氨基，待取代的Ra數(shù)量是1-5,當Ra大于或等于2時，各取代基可以相同 或不同。
6. 如權利要求5所述的方法，其特征在于，所述R1是異丙基基團。
7. 如權利要求5所述的方法，其特征在于，R1是苯基基團。
8. 如權利要求5-7中任一項所述的方法，其特征在于，R2是叔丁氧基羰基或芐氧基羰 基。
9. 一種由通式（7)表示的環(huán)氧醇化合物：
其中R2是-C(0)0Rb，Rb是(^6烷基基團，Z是鹵素原子，硝基，氰基，(V6烷基基團或 (V6鹵代烷基基團，且p是整數(shù)0, 1，2, 3, 4或5。
【文檔編號】C07C269/06GK104411682SQ201380033893
【公開日】2015年3月11日 申請日期:2013年6月27日 優(yōu)先權日:2012年6月29日
【發(fā)明者】西野幸宏, 涌井和也, 村瀨翔太, 境芳郁 申請人:日產(chǎn)化學工業(yè)株式會社