專利名稱：烯烴聚合方法
烯烴聚合方法本發(fā)明涉及淤漿相反應(yīng)器中的烯烴聚合，并且特別涉及該方法所產(chǎn)生的聚合物的粒度。烯烴的淤漿相聚合是公知的，其中烯烴單體和任選的烯烴共聚單體在催化劑存在下在稀釋劑中聚合，固體聚合物產(chǎn)物在稀釋劑中懸浮和輸送。執(zhí)行這種方法可以通過例如將單體和任選的共聚單體引入至含有聚烯烴和催化劑的攪拌槽或連續(xù)環(huán)管反應(yīng)器中進行
水口 ο典型地，在聚乙烯的淤漿聚合工藝中，反應(yīng)器中的淤漿將包含顆粒狀聚合物、一種或多種烴稀釋劑、一種或多種(共聚)單體、催化劑、鏈終止劑例如氫和其它反應(yīng)器添加劑。聚合典型地是在50_125°C范圍內(nèi)的溫度和在絕對壓力1-100巴范圍內(nèi)的壓力下執(zhí)行。所使用的催化劑可以是任何典型用于烯烴聚合的催化劑，例如氧化鉻、齊格勒-納塔 (Ziegler-Natta)或金屬茂型催化劑。產(chǎn)物淤漿能夠被間歇或連續(xù)地放出，任選使用濃縮裝置例如水力旋流器或沉淀柱以使與聚合物一起排出的流體的量最小化，所述產(chǎn)物淤漿包含聚合物和稀釋劑、以及大多數(shù)情況下還有催化劑、烯烴單體和共聚單體。聚合所釋放的熱經(jīng)反應(yīng)器器壁從反應(yīng)器中流失，通常是在圍繞反應(yīng)器的冷卻夾套的幫助下。已知，在工業(yè)規(guī)模的聚合中，如果聚合物粒子不溶或基本上不溶于稀釋劑，它們能粘在一起形成聚集物，或可能變?yōu)槌练e在聚合反應(yīng)器的器壁上。這種所謂的結(jié)垢導(dǎo)致反應(yīng)器主體和圍繞反應(yīng)器的冷卻劑之間的熱交換效率降低，以及由于過熱可能失去反應(yīng)器控制，或者由于被聚集物堵塞導(dǎo)致反應(yīng)器或下游的聚合物加工設(shè)備故障。這種結(jié)垢的造成部分是因為非常小的聚合物粒子(細粒)，并且也因為靜電電荷在反應(yīng)器器壁上聚積。試圖在淤漿聚合期間避免結(jié)垢通常涉及添加防垢劑至聚合介質(zhì)中。典型地，防垢劑發(fā)揮作用，例如使介質(zhì)更具有傳導(dǎo)性，從而在一定程度上防止形成靜電電荷，形成靜電電荷是聚合物在反應(yīng)器器壁上聚積的一個原因。US 41擬810公開了抗靜電劑例如Madis 450在聚合反應(yīng)器中減少結(jié)垢的應(yīng)用。部分由于關(guān)于結(jié)垢的問題，離開反應(yīng)器的聚合物粉末的性質(zhì)是非常重要的。具有高細粒含量的聚合物粉末能引起問題，例如在再循環(huán)裝置中以及在轉(zhuǎn)移和填裝粉末以及取樣期間積累細粒；在傳送裝置和儲存罐中也有積累靜電的風(fēng)險。此外，在后續(xù)加工期間，聚合物中可能存在細和粗粒子分開，導(dǎo)致工藝變化(例如擠壓機中細和粗粒子之間的進料或熔融差異)。細粒子還降低粉末轉(zhuǎn)移速率，從而使工藝減慢，以及產(chǎn)生環(huán)境或爆炸危險。因此，均勻的粒度會具有許多優(yōu)點。


附圖被結(jié)合在本說明書中并組成本說明書的一部分，其說明本發(fā)明的實施方式， 并與說明書一起用來解釋本發(fā)明的特征、優(yōu)點和原理。在附圖中圖1是顯示沒有使用抗靜電劑的聚烯烴聚合方法中細粒子體積百分比的圖。圖2是顯示本發(fā)明的沒有使用抗靜電劑的聚烯烴聚合方法中細粒子體積百分比的圖。
圖3是顯示本發(fā)明的具有恒定抗靜電劑水平的聚合方法期間細粒子水平的圖。圖4是顯示本發(fā)明的聚合方法在去除抗靜電劑后的期間的細粒子水平的圖。我們已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，通過向聚合方法中添加抗靜電劑，可能獲得細粒比例顯著減少的聚合物。因此，在第一個方面，本發(fā)明提供了用于在淤漿聚合工藝中產(chǎn)生烯烴聚合物的方法，所述淤漿聚合工藝在90°C至107°C的溫度操作并利用在孔隙體積為至少1. 3cm3/g的載體上的活性為至少1，OOOg聚合物/g催化劑/小時的鉻催化劑，所述方法包括將百分分之 0. 1至100重量份的抗靜電劑添加至聚合混合物中，其中所產(chǎn)生的聚合物具有的粒度分布使得少于8體積％、優(yōu)選少于5體積％的聚合物粒子的平均直徑為125 μ m以下。本發(fā)明的另一方面包括百分分之0. 1至100重量份的抗靜電劑在淤漿聚合工藝中用于控制所述方法中產(chǎn)生的聚合物的粒度分布使得少于8體積％、優(yōu)選少于5體積％的聚合物粒子的平均直徑為125 μ m以下的應(yīng)用，所述淤漿聚合工藝在90°C至107°C的溫度操作并利用在孔隙體積為至少1. 3cm3/g的載體上的活性為至少1，OOOg聚合物/g催化劑/小時的鉻催化劑。所謂“抗靜電劑”指的是能夠在介質(zhì)中分散或稀釋并能相互作用以消散電荷或降低界面張力的任何兩親性化合物。優(yōu)選的抗靜電劑包括季銨化合物和油溶性磺酸和磺酸鹽。在季銨化合物中，二烷基二甲基氯化銨是優(yōu)選的，其中烷基鏈優(yōu)選范圍從C8至C22并可以是飽和或不飽和的。一個實例是二椰油?；谆然@。已知抗靜電劑典型地降低催化劑的活性。這將表明由于每重量催化劑所生產(chǎn)的聚合物的量會減少，平均粉末粒度將降低。我們已經(jīng)觀察到，添加抗靜電劑不降低小片的平均粒度?？轨o電劑看起來促進粉末粒子的更穩(wěn)定生長或看起來減少粒子破碎。所添加的抗靜電劑的量是為了在反應(yīng)混合物中提供優(yōu)選百分分之0. 2和50總量份之間、更優(yōu)選百分分之0. 2和30總量份之間、并且最優(yōu)選百分分之0. 4和10總量份之間的濃度。優(yōu)選地，平均直徑為125μπι以下的粒子的量與不添加抗靜電劑的相同方法中的水平相比，被減少至少30體積％，更優(yōu)選至少50體積％。粉末粒度能夠通過篩分分析(如用于塑料材料粒度測量的ASTM D-1921，方法Α) 或通過激光衍射進行測量。在這個測量期間，粒子被激光束穿過。該技術(shù)利用散射光的角強度來測定粉末的粒度分布。本發(fā)明所產(chǎn)生的聚合物粉末可以是任何聚烯烴，但是本發(fā)明特別適合于聚乙烯。 聚乙烯可以是單峰或多峰聚乙烯例如雙峰聚乙烯。在后一種情況下，它優(yōu)選通過包含以下步驟的方法制造將乙烯、聚合催化劑和任選的含有3至12個碳原子的α -烯烴引入第一反應(yīng)器中，乙烯在所述第一反應(yīng)器中聚合以形成第一聚合物，接著將包含所述聚合物和催化劑的混合物轉(zhuǎn)移至進一步發(fā)生聚合并任選存在含有3至12個碳原子的另外的α -烯烴的地方，以形成第二乙烯聚合物，其中這兩種聚合物的重量比是(30至70) (70至30)。 在一個實施方式中，第一聚合物是低分子量的聚合物，并且第二聚合物是高分子量的聚合物(通過GPC測定)。在備選的實施方式中，第一聚合物是高分子量的聚合物，并且第二聚合物是低分子量的聚合物。在最優(yōu)選的實施方式中，產(chǎn)生單峰聚乙烯。這可以任選在多個反應(yīng)器的方法中制造，例如級聯(lián)或兩個反應(yīng)器的方法?？梢圆僮骷壜?lián)反應(yīng)器以使得在每個反應(yīng)器中產(chǎn)生基本上相同的聚合物，或者使得在每個反應(yīng)器中使用基本上相同的反應(yīng)條件。或者，可以操作它們以使得在每個反應(yīng)器中使用不同的反應(yīng)條件并且/或者產(chǎn)生不同的聚合物性質(zhì)。所謂 “單峰”指的是該聚合物在它經(jīng)GPC所測定的分子量分布中不具有兩個以上的不同峰。任何基于鉻的烯烴聚合催化劑可被用于本發(fā)明的方法。在包含鉻催化劑的催化性固體中，鉻通常存在的比例范圍是基于所述催化性固體總重量的0. 05重量％至10重量％、 優(yōu)選0. 1重量％至5重量％、更優(yōu)選0. 25重量％至2重量％的鉻。對于本發(fā)明優(yōu)選的高活性催化劑，其活性在沒有添加任何輔助催化劑時可以令人滿意，因此添加輔助催化劑不是必需的。然而如果使用了輔助催化劑，最優(yōu)選與鉻催化劑一起使用的是鋁或硼的有機金屬化合物。最佳的結(jié)果是用有機硼化合物獲得的，因為它們有可能使催化活性提高?？梢允褂玫挠袡C硼化合物包括三烷基硼，其中烷基鏈包含最多達20 個碳原子。通常，優(yōu)選那些烷基鏈是直的并包含最多達18個碳原子、更具體是2至8個碳原子的三烷基硼。三乙基硼是優(yōu)選的。用于鉻催化劑的載體優(yōu)選具有至少100m2/g、特別是至少180m2/g的比表面積，而至少220m2/g的值是最優(yōu)選的。比表面積通常不超過800m2/g，并且典型不高于650m2/g。載體的比表面積(SQ是根據(jù)英國標準(British Standard)BS 4359/1(1984)的BET容量法測量的。載體優(yōu)選具有至少1. 3cm7g、并且更優(yōu)選至少1. 6cm3/g的孔隙體積。孔隙體積通常不大于km3/g，特別是不大于3cm7g?？紫扼w積(PV)被定義為根據(jù)英國標準BS 4359/1(1984) 中所描述的容量技術(shù)通過氮滲透法(BET)測得半徑小于或等于75A的孔隙的孔隙體積和根據(jù)比利時標準(Belgian Standard)NBN B 05-202 (1976)利用Carlo Erba公司出售的 Poro 2000型孔率計通過汞滲透法測得的孔隙體積的總和。當(dāng)載體的比表面(SQ和孔隙體積(PV)符合以下關(guān)系時，可獲得好的結(jié)果SS < (564PV-358)，其中SS和PV分別是用m2/ g表示的比表面的數(shù)值和用cm3/g表示的孔隙體積的數(shù)值。優(yōu)選地，載體是包含直徑為20至200 μ m的粒子的粉末形式。特別優(yōu)選的鉻催化劑包括在純二氧化硅載體上的鉻催化劑，所述載體通常具有至少1. 3cm3/g的孔隙體積和30至70微米范圍的粒度。這種催化劑的實例是來自Ineos Silica/PQ公司的ES370X和來自WR Grace的HA30B。其它優(yōu)選的催化劑包括在二氧化硅/ 氧化鈦共凝膠和tergel載體上的高孔隙率催化劑，例如來自WR Grace的963催化劑。與較早的催化劑相比，優(yōu)選的催化劑由于存在高孔隙體積和精細的微結(jié)構(gòu)而具有相對高的活性。用于這種聚合的優(yōu)選的反應(yīng)器類型是環(huán)管反應(yīng)器，這是包含至少2個例如4個垂直段和至少2個例如4個水平段的連續(xù)管狀結(jié)構(gòu)。典型利用與圍繞至少部分管狀環(huán)管反應(yīng)器的夾套中的冷卻介質(zhì)、優(yōu)選水的間接交換而去除聚合熱。反應(yīng)器的體積能變化，但典型地是在10-200m3范圍內(nèi)。在優(yōu)選的操作方式中，這種環(huán)管反應(yīng)器中所采用的壓力足以保持反應(yīng)系統(tǒng)“充滿液體”，即稀釋劑和試劑(即單體和鏈終止劑)基本上在液相中而沒有上面的氣體空間。通常，所使用的壓力在絕對壓力1-100巴之間，優(yōu)選在絕對壓力30-50巴之間。在乙烯聚合中，乙烯分壓最常選自0. IMPa至5MPa，優(yōu)選0. 2MPa至2MPa，更特別是0. 4MPa至1. 5MPa。 所選擇的溫度使得產(chǎn)生的基本上所有聚合物基本上是(i)非粘性和非聚集的固體粒子，并且(ii)不溶于稀釋劑。聚合溫度取決于所選擇的烴稀釋劑和將產(chǎn)生的聚合物。在乙烯聚合中，它通常低于130°C，典型地在50°C和125°C之間，優(yōu)選在75°C和115°C之間。例如在異丁烷稀釋劑中的乙烯聚合中，環(huán)管中所采用的壓力優(yōu)選在絕對壓力30-50巴的范圍內(nèi)，乙烯分壓優(yōu)選在0. 2-2MPa范圍內(nèi)，并且聚合溫度在75-115°C范圍內(nèi)。氫可以被添加至聚合反應(yīng)器中，在稀釋劑中的水平最高達5摩爾％。氫作為聚合的鏈終止劑并從而能降低聚合物鏈平均長度。當(dāng)聚合是采用鉻催化劑執(zhí)行時，典型優(yōu)選低于2摩爾％的水平。具有高聚合活性的催化劑是有利的，因為相應(yīng)的聚合物將典型有較低的殘留，并且需要較少的催化劑用量。在典型的反應(yīng)器操作下，催化劑產(chǎn)率在每克催化劑2000克至 20000克聚合物的范圍內(nèi)，并且更典型地在每克催化劑3000克和15000克聚合物之間。聚合停留時間典型地在40分鐘和3小時之間。反應(yīng)器中反應(yīng)混合物的固體含量典型地在30重量％和60重量％之間，并且更通常在35重量％和50重量％之間。抗靜電劑能被直接引入反應(yīng)器中或在引入前進行稀釋。例如，稀釋的抗靜電溶液能通過抗靜電劑與溶劑例如異丁烷或己烷或其他烴類進行混合而得以制備。該溶液通常儲存在容器中，然后通過泵被引入反應(yīng)器中。計量系統(tǒng)能用于測量操作期間的流量。在一個實施方式中，使用單個反應(yīng)器，抗靜電劑然后被單獨地或與稀釋劑或反應(yīng)物之一一起被引入這個反應(yīng)器中。優(yōu)選連續(xù)地添加，但也可分批添加。對于制造單峰聚合物，能使用一個反應(yīng)器或兩個以上的串聯(lián)反應(yīng)器。單個或串聯(lián)的第一個反應(yīng)器裝有催化劑或預(yù)聚物和任選的輔助催化劑以及稀釋劑和單體，并且后續(xù)的每個反應(yīng)器至少裝有單體、特別是乙烯，和從所述串聯(lián)的前一個反應(yīng)器中產(chǎn)生的淤漿，該混合物包含催化劑和在所述串聯(lián)的前一個反應(yīng)器中產(chǎn)生的聚合物混合物。對于制造多峰聚合物，通常使用兩個以上的串聯(lián)反應(yīng)器。串聯(lián)的第一個反應(yīng)器裝有催化劑或預(yù)聚物和任選的輔助催化劑以及稀釋劑和單體，并且后續(xù)的每個反應(yīng)器至少裝有單體、特別是乙烯，和從所述串聯(lián)的前一個反應(yīng)器中產(chǎn)生的淤漿，該混合物包含催化劑和所述串聯(lián)的前一個反應(yīng)器中產(chǎn)生的聚合物混合物。任選可能給第二個反應(yīng)器和/或如果合適的話、至少一個后面反應(yīng)器提供新鮮的催化劑和/或輔助催化劑。然而，優(yōu)選將催化劑和輔助催化劑僅僅弓I入第一個反應(yīng)器中?？轨o電劑優(yōu)選被引入每個反應(yīng)器中，但可以只被引入第一個反應(yīng)器中，因為一定量的抗靜電劑將隨產(chǎn)物和稀釋劑被轉(zhuǎn)移至第二個反應(yīng)器中。
具體實施例方式實施例1這個實施例中的反應(yīng)器是聚乙烯淤漿環(huán)管反應(yīng)器，其產(chǎn)生約4100kg/hr的聚乙烯，具有約3小時的停留時間。反應(yīng)進料為乙烯、己烯、異丁烷稀釋劑和可得自Ineos Silica/PQ公司的ES370X鉻催化劑。ES370X催化劑具有最低1. 3cm3/g的水孔隙體積和經(jīng) BET測得300m2/g的表面積，并具有經(jīng)Malvern測得接近50 μ m的平均粒度(d50)。所述催化劑在引入至反應(yīng)器前通過在空氣中在760°C下干燥和氧化8小時進行準備。含有聚乙烯以及異丁烷、未反應(yīng)的乙烯和未反應(yīng)的己烯的流被連續(xù)地從反應(yīng)器中排出。反應(yīng)器在101°c的溫度、490至510psig的壓力、和約4摩爾％的乙烯濃度下操作。催化劑產(chǎn)率在每克催化劑3000克和12500克聚合物之間，并且固體濃度被保持在35重量％ 和46重量％之間。目標產(chǎn)物的性質(zhì)是MI21.6為5g/10min，并且密度為954. 5kg/m3。粒度分布是利用具有4-2000 μ m透鏡的Malvern Mastersizer粒度分析儀進行激光散射而測量的。圖1顯示125 μ m和更小的粒子、通常被稱為細粒的體積百分比的趨勢。沒有使用抗靜電劑，并且圖1顯示細粒的量在聚合期間基本上保持恒定。對于客戶，這個細粒量將是不可接受的量。 圖1也顯示了大小在125 μ m和250 μ m之間(表示為“< 250”)的粒子的量。在此生產(chǎn)期間的平均粒度被以D (50)報告，并接近400 μ m。實施例2圖2顯示在基本相同的條件下在相同的反應(yīng)器中執(zhí)行的另外的聚合反應(yīng)。使用與實施例1中相同的ES370X鉻催化劑。大部分聚合是沒有應(yīng)用抗靜電劑而執(zhí)行的。在臨近運行結(jié)束時(在圖2中所指出的點處)，抗靜電劑被添加至反應(yīng)器中?？轨o電劑是以Arquad 2C-75商品名得自Akzo的二烷基二甲基氯化銨。在運行期間，反應(yīng)器條件受到控制，以試圖控制將產(chǎn)生的細粒的量。 溫度從98°C下降至96°C，乙烯濃度從5摩爾％逐漸增加至7摩爾％，并且壓力從490psig 逐漸增加至510psig。這種變化用36小時以上的時間段發(fā)生，并且沒有顯著降低所產(chǎn)生的細粒的水平。從抗靜電劑溶液以1加侖/h(3. 79升/h)添加的時點起，在添加抗靜電劑的整個時期內(nèi)，反應(yīng)器條件被保持在96°C、510psig和7摩爾％乙烯不變。按異丁烷稀釋劑的重量計，反應(yīng)器中抗靜電劑的相對濃度接近20ppm。實施例1&2期間的催化劑產(chǎn)率在每克催化劑 3，000克和12，500克聚合物之間。固體濃度被保持在35重量％和46重量％之間。圖2顯示反應(yīng)器的幾個停留時間內(nèi)小粒子的量顯著減少的顯著效應(yīng)。添加抗靜電劑后平均粒度接近1000 μ m。實施例3在這個實施例中，約11000kg/hr的聚乙烯在充滿液體的淤漿環(huán)管方法中產(chǎn)生，該方法在99°C的溫度、490至510psig的壓力、約7摩爾％的乙烯濃度、低于0. 1摩爾％的氫濃度下操作，并具有約2小時的總停留時間。反應(yīng)進料為乙烯、己烯、異丁烷稀釋劑、氫和可得自INEOS Silica/PQ公司的EP311鉻催化劑。EP311催化劑具有最低1. 45cc/g的水孔隙體積和經(jīng)BET測得345m2/g至435m2/g的表面積。所述催化劑在引入至反應(yīng)器前通過在空氣中在760°C下干燥和氧化8小時進行準備。該催化劑具有經(jīng)Malvern測得的90 μ m至 130 μ m的平均粒度(d50)。目標產(chǎn)物的性質(zhì)是肌21.6為13.58/10!^11，并且密度為950.證8/ m3。向反應(yīng)提供抗靜電劑進料M小時以上的時間?？轨o電劑是以Arquad 2C_75商品名得自Akzo的二烷基二甲基氯化銨?？轨o電劑作為在異丁烷中的溶液被引入。反應(yīng)中抗靜電劑的終濃度為在異丁烷稀釋劑中約百萬分之5重量份。在這些條件下所產(chǎn)生的聚合物用具有4-2000 μ m透鏡的Malvern Mastersizer粒度分析儀來測試粒度分布，并且測量小于 125 μ m的粒子的比例。在這部分反應(yīng)期間，小于125 μ m的粒子的水平平均約2體積％。圖 3顯示該聚合期間聚合物粒度的測量結(jié)果。低于125 μ m的細粒的水平是穩(wěn)定的，并處于低水平。
實施例4這個實施例描述了實施例3中所描述的聚合反應(yīng)的延續(xù)。繼續(xù)聚合，但在反應(yīng)開始后34小時停止添加抗靜電劑。因此，反應(yīng)淤漿中抗靜電劑的濃度隨時間降低，因為淤漿被新鮮的反應(yīng)物和更多的異丁烷稀釋。數(shù)小時后，反應(yīng)區(qū)中抗靜電劑的濃度是低的，并且不再觀察到它的效應(yīng)。在這部分反應(yīng)期間，反應(yīng)器條件受到控制，以產(chǎn)生具有相同熔融指數(shù)和密度的聚乙烯。在停止添加抗靜電劑后，反應(yīng)器條件和所產(chǎn)生的聚合物被監(jiān)測M小時以上。溫度為98°C，乙烯濃度為7摩爾％，并且壓力為490至510psig。氫濃度低于0.1摩爾％。催化劑產(chǎn)率在每克催化劑3500克和7000克聚合物之間。小粒子(細粒)的水平開始處于添加抗靜電劑期間的初始條件起的低值，并隨時間增加。在停止抗靜電進料后分別約沈、30小時和34小時，測得小于125 μ m的粒子的比例為6. 4體積％、13. 2體積％和11. 7體積%。反應(yīng)期間的細粒水平如圖4所示，從中可以看出，在停止添加抗靜電劑后，該水平最終顯著增加。
權(quán)利要求
1.用于在淤漿聚合工藝中產(chǎn)生烯烴聚合物的方法，所述淤漿聚合工藝在90°c至107°C 的溫度操作并利用在孔隙體積為至少1. 3cm3/g的載體上的活性為至少1，OOOg聚合物/g催化劑/小時的鉻催化劑，所述方法包括將基于淤漿中的稀釋劑為百萬分之0. 1至100重量份的量的抗靜電劑添加至聚合混合物中，其中所產(chǎn)生的聚合物具有的粒度分布使得少于8 體積％、優(yōu)選少于5體積％的聚合物粒子的平均直徑為125 μ m以下。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中百萬分之0.2至30重量份的、優(yōu)選百萬分之0. 4至10 重量份的所述抗靜電劑被添加至聚合混合物中。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2的方法，其中所述抗靜電劑是季銨化合物或油溶性磺酸或磺酸鹽。
4.根據(jù)權(quán)利要求3的方法，其中所述抗靜電劑是二烷基二甲基氯化銨。
5.根據(jù)權(quán)利要求4的方法，其中所述二烷基二甲基氯化銨的兩個烷基鏈均在C8至C22 之間。
6.根據(jù)權(quán)利要求5的方法，其中所述二烷基二甲基氯化銨是二椰油?；谆然@。
7.根據(jù)前面任一項權(quán)利要求的方法，其中所述鉻催化劑載體具有至少1.3cm7g、以及更優(yōu)選至少1. 6cm3/g的孔隙體積。
8.根據(jù)前面任一項權(quán)利要求的方法，其中所述鉻催化劑載體具有不高于800m2/g、以及優(yōu)選不高于650m2/g的比表面積。
9.根據(jù)前面任一項權(quán)利要求的方法，其中所述鉻催化劑載體是包含直徑為20μπι至 200 μ m的粒子的粉末形式。
10.百萬分之0.1至100重量份的抗靜電劑在淤漿聚合工藝中用于控制所述方法中產(chǎn)生的聚合物的粒度分布使得少于8體積％、優(yōu)選少于5體積％的聚合物粒子的平均直徑為 125 μ m以下的應(yīng)用，所述淤漿聚合工藝在90°C至107°C的溫度操作并利用在孔隙體積為至少1. 3cm3/g的載體上的活性為至少1，OOOg聚合物/g催化劑/小時的鉻催化劑。
11.根據(jù)前面任一項權(quán)利要求的方法或應(yīng)用，其中所述平均直徑為125μπι以下的粒子的量與不添加抗靜電劑的相同方法中的水平相比，被減少至少30體積％，優(yōu)選被減少至少 50體積％。
全文摘要
本發(fā)明公開了用于在淤漿聚合工藝中產(chǎn)生烯烴聚合物的方法，其中所述淤漿聚合工藝在90℃至107℃的溫度操作并利用在孔隙體積為至少1.3cm3/g的載體上活性為至少1,000g聚合物/g催化劑/小時的鉻催化劑，所述方法包括將百萬分之0.1至100重量份的抗靜電劑添加至聚合混合物中，其中所產(chǎn)生的聚合物具有的粒度分布使得少于8體積％、優(yōu)選少于5體積％以下的聚合物粒子的平均直徑為125μm以下。
文檔編號C08F2/14GK102574945SQ201080048229
公開日2012年7月11日 申請日期2010年9月8日 優(yōu)先權(quán)日2009年9月11日
發(fā)明者威廉·斯泰納, 艾貝爾·格羅讓, 詹姆斯·M·基洛, 雪莉·W·謝里爾 申請人:伊內(nèi)奧斯美國公司