專利名稱：一種抗蝕刻組合物及涂有該組合物的基材的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種抗強氧化的抗蝕刻組合物及涂有該組合物作為抗蝕刻層的基材。
背景技術：
近年來，LED (Light Emitting Diode,發(fā)光二極管)用得越來越廣泛,而作為LED液晶顯示器蝕刻工藝中起保護作用的抗蝕刻材料的用量也越來越大。其中一種含鉻鍍層的LED板，其蝕刻工藝中的蝕刻液需要采用強氧化劑高錳酸鉀，而傳統(tǒng)的抗蝕刻組合物由于不能耐高錳酸鉀的氧化而不能滿足需要。

發(fā)明內容
為解決上述問題，本發(fā)明提供了一種抗蝕刻組合物，其含有 感光樹脂，15-80%，光敏引發(fā)劑，O. 5-15%，稀釋劑，5-60%，填料，0-40%，染料或顏料，0_20%，添加劑，0_20%，其中各百分比均基于組合物總重量計，且各組分的百分比總和為100%，且其中所述感光樹脂同時滿足兩個條件I)分子中具有至少一個羧基和至少兩個乙烯型不飽和鍵，且不含羥基，2)與苯環(huán)相連的碳原子上沒有氫原子。在一個優(yōu)選的實施方案中，上述抗蝕刻組合物含有感光樹脂，20-60%，光敏引發(fā)劑，1_10%，稀釋劑，20-60%，填料，0_40%，染料或顏料，0_10%，添加劑，0-10%，其中各百分比均基于組合物總重量計，且各組分的百分比總和為100%。 另一方面，本發(fā)明提供了一種基材，其涂有本發(fā)明的抗蝕刻組合物。本發(fā)明的抗蝕刻組合物具有優(yōu)異的抗氧化性、抗蝕刻性、密合性等特性，其在作為抗蝕刻層時，可以耐蝕刻液中強氧化劑(如高錳酸鉀)的氧化，且在蝕刻前后其附著力不改變。出人意料地，所得抗蝕刻組合物顯影后還具有優(yōu)異的直線性。
具體實施例方式本發(fā)明提供一種抗蝕刻組合物，其含有
感光樹脂，15-80%，光敏引發(fā)劑，O. 5-15%，稀釋劑，5_60%，填料，0-40%，染料或顏料，0_20%，添加劑，0_20%，
其中各百分比均基于組合物總重量計，且各組分的百分比總和為100%，且其中所述感光樹脂同時滿足兩個條件I)分子中具有至少一個羧基和至少兩個乙烯型不飽和鍵，且不含羥基(-0H)，2 )與苯環(huán)相連的碳原子上沒有氫原子。本發(fā)明抗蝕刻組合物中的感光樹脂可由以下(I) - (6)中任意一種方法得到(I)含有兩個以上環(huán)氧基的多官能團的環(huán)氧化合物(a)和不飽和單羧酸(b)進行酯化反應，得到的酯化物再與飽和或不飽和的多元酸酐(C)反應，得到的產物再與羥基保護齊U Z反應；(2)(甲基)丙烯酸和其他具有乙烯型不飽和鍵的共聚單體(d)反應形成共聚物，再部分地與(甲基)丙烯酸縮水甘油酯反應，得到的產物再與羥基保護劑Z反應；(3)(甲基)丙烯酸縮水甘油酯和其他具有乙烯型不飽和鍵的共聚單體(d)的共聚物與不飽和單羧酸(b)反應，得到的生成物再與飽和或不飽和的多元酸酐(c)反應，得到的產物再與羥基保護劑Z反應；(4)分子中具有兩個以上環(huán)氧基的多官能團的環(huán)氧化合物(a)和不飽和單羧酸(b)與分子中至少含有兩個羥基且具有可與環(huán)氧基反應的一個其他基團的化合物(f)反應，生成中間體(I)，所述中間體(I)再與飽和或不飽和的多元酸酐(C)反應；得到的產物再與羥基保護劑Z反應；(5)不飽和多元酸酐和具有乙烯基的芳香族烴(e)反應形成共聚物，再與羥基烷基(甲基)丙烯酸酯反應，得到的產物再與羥基保護劑Z反應；其中(e)為與苯環(huán)相連的碳原子上沒有氫原子的具有乙烯基的芳香族烴；(6)方法(4)所述的中間體(I)再與飽和或不飽和的多元酸酐(C)以及含有不飽和基的單異氰酸酯(g)反應，得到的產物再與羥基保護劑Z反應。在本發(fā)明中，隨其上下文而定，“(甲基)丙烯酸”指丙烯酸、甲基丙烯酸、或丙烯酸和甲基丙烯酸的混合物。上述方法中可使用的環(huán)氧化合物(a)的實例包括雙酚A型環(huán)氧樹脂、氫化雙酚A型環(huán)氧樹脂、雙酚F型環(huán)氧樹脂、雙酚S型環(huán)氧樹脂、酚醛環(huán)氧樹脂、甲酚環(huán)氧樹脂、雙酚A的環(huán)氧樹脂、聯(lián)苯酚型環(huán)氧樹脂、聯(lián)二甲苯酚型環(huán)氧樹脂、三酚基甲烷型環(huán)氧樹脂和N-縮水甘油型環(huán)氧樹脂。上述環(huán)氧化合物可以單獨使用，也可以兩種以上混合使用。上述方法中可使用的不飽和單羧酸(b)的實例包括丙烯酸、丙烯酸的二聚物、甲基丙烯酸、苯乙烯基丙烯酸、糠基丙烯酸、丁烯酸、α-氰基肉桂酸、肉桂酸，以及飽和或不飽和二元酸酐與分子中含有一個羥基的(甲基)丙烯酸酯類的反應物或者飽和或不飽和二元酸與不飽和單縮水甘油化合物的反應物半酯類。在這些不飽和單羧酸中優(yōu)選使用丙烯酸或甲基丙烯酸。它們可以單獨使用，也可以兩種以上混合使用。
上述方法中可使用的飽和或不飽和的多元酸酐(C)的實例包括馬來酸酐、琥珀酸酐、衣康酸酐、鄰苯二甲酸酐、四氫鄰苯二甲酸酐、六氫鄰苯二甲酸酐、甲基六氫鄰苯二甲酸酐、甲橋-內-四氫鄰苯二甲酸酐、甲基甲橋-內-四氫鄰苯二甲酸酐、甲基四氫鄰苯二甲酸酐等二元酸酐；偏苯三酸酐、均苯四甲酸酐、二苯甲酮四羧酸二酸酐等芳香族多元羧酸酐；以及5-(2，5- 二氧四氫化呋喃基)-3-甲基-3-環(huán)己烯-1，2- 二羧酸酐，以及類似的多元羧酸酐衍生物。這些飽和或不飽和的多元酸酐可以單獨或兩種以上混合使用。優(yōu)選使用四氫鄰苯二甲酸酐、六氫鄰苯二甲酸酐以及琥珀酸酐。上述方法中可使用的其他具有乙烯型不飽和鍵的共聚單體(d)的實例包括苯乙烯、氯苯乙烯、α-甲基苯乙烯；由甲基、乙基、丙基、異丙基、正丁基、異丁基、叔丁基、氨基、2-乙基己基、辛基、癸酰、壬基、癸基、十二烷基、十六烷基、十八烷基、環(huán)己基、異冰片基、甲氧基乙基、丁氧基乙基、2-羥基乙基、2-羥基丙基和3-氯-2-羥基丙基取代的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯；聚乙二醇的單丙烯酸酯或單甲基丙烯酸酯、或者聚丙二醇的單丙烯酸酯或單甲基丙烯酸酯；乙酸乙烯酯、丁酸乙烯酯或苯甲酸乙烯酯；丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、N-羥基甲基丙烯酰胺、N-甲氧基甲基丙烯酰胺、N-乙氧基甲基丙烯酰胺、N- 丁氧基甲基丙烯酰胺、丙烯腈或馬來酸酐等。這些共聚單體(d)可以單獨使用，也可以兩種以上混合使用?！ど鲜龇椒ㄖ械?e)為與苯環(huán)相連的碳原子上沒有氫原子的具有乙烯基的芳香族烴，例如α -甲基苯乙烯、α -乙基苯乙烯等，其結構通式如下
權利要求
1.一種抗蝕刻組合物，其含有 感光樹脂，15-80%， 光敏引發(fā)劑，O. 5-15%, 稀釋劑，5-60%， 填料，0-40%， 染料或顏料，0-20%， 添加劑，0-20%， 其中各百分比均基于組合物總重量計，且各組分的百分比總和為100%，且 其中所述感光樹脂同時滿足兩個條件 I)分子中具有至少一個羧基和至少兩個乙烯型不飽和鍵，且不含羥基，2)與苯環(huán)相連的碳原子上沒有氫原子。
2.權利要求I的組合物，其中所述組合物含有 感光樹脂，20-60%， 光敏引發(fā)劑，1-10%， 稀釋劑，20-60%， 填料，0-40%， 染料或顏料，0-10%， 添加劑，0-10%， 其中各百分比均基于組合物總重量計，且各組分的百分比總和為100%。
3.權利要求I的組合物，其中所述感光樹脂由以下任一種方法制得 (1)含有兩個以上環(huán)氧基的多官能團的環(huán)氧化合物(a)和不飽和單羧酸(b)進行酯化反應，得到的酯化物再與飽和或不飽和的多元酸酐(C)反應，得到的產物再與羥基保護劑反應; (2)(甲基)丙烯酸和其他具有乙烯型不飽和鍵的共聚單體(d)反應形成共聚物，再部分地與(甲基)丙烯酸縮水甘油酯反應，得到的產物再與羥基保護劑反應； (3)(甲基)丙烯酸縮水甘油酯和其他具有乙烯型不飽和鍵的共聚單體(d)的共聚物與不飽和單羧酸(b)反應，得到的生成物再與飽和或不飽和的多元酸酐(C)反應，得到的產物再與羥基保護劑反應； (4)分子中具有兩個以上環(huán)氧基的多官能團的環(huán)氧化合物(a)和不飽和單羧酸(b)與分子中至少含有兩個羥基且具有可與環(huán)氧基反應的一個其他基團的化合物(f)反應，生成中間體(I)，所述中間體再與飽和或不飽和的多元酸酐(C)反應，得到的產物再與羥基保護劑反應； (5)不飽和多元酸酐和具有乙烯基的芳香族烴(e)反應形成共聚物，再與羥基烷基(甲基)丙烯酸酯反應，得到的產物再與羥基保護劑Z反應；其中(e)為與苯環(huán)相連的碳原子上沒有氫原子的具有乙烯基的芳香族烴； (6)方法(4)所述的中間體(I)再與飽和或不飽和的多元酸酐(C)以及含有不飽和基的單異氰酸酯(g)反應，得到的產物再與羥基保護劑反應。
4.權利要求3的組合物，其中所述(e)的結構通式如下
5.權利要求3的組合物，其中所述(a)為雙酚A型環(huán)氧樹脂、氫化雙酚A型環(huán)氧樹脂、雙酚F型環(huán)氧樹脂、雙酚S型環(huán)氧樹脂、酚醛環(huán)氧樹脂、甲酚環(huán)氧樹脂、雙酚A的環(huán)氧樹脂、聯(lián)苯酚型環(huán)氧樹脂、聯(lián)二甲苯酚型環(huán)氧樹脂、三酚基甲烷型環(huán)氧樹脂和N-縮水甘油型環(huán)氧樹脂中的一種或多種；(b)為丙烯酸、丙烯酸的二聚物、甲基丙烯酸、苯乙烯基丙烯酸、β -糠基丙烯酸、丁烯酸、α -氰基肉桂酸、肉桂酸，以及飽和或不飽和二元酸酐與分子中含有一個羥基的(甲基)丙烯酸酯類的反應物或者飽和或不飽和二元酸與不飽和單縮水甘油化合物的反應物半酯類中的一種或多種，優(yōu)選丙烯酸或甲基丙烯酸；(C)為馬來酸酐、琥珀酸酐、衣康酸酐、鄰苯二甲酸酐、四氫鄰苯二甲酸酐、六氫鄰苯二甲酸酐、甲基六氫鄰苯二甲酸酐、甲橋-內-四氫鄰苯二甲酸酐、甲基甲橋-內-四氫鄰苯二甲酸酐、甲基四氫鄰苯二甲酸酐等二元酸酐；偏苯三酸酐、均苯四甲酸酐、二苯甲酮四羧酸二酸酐等芳香族多元羧酸酐；5-(2，5_二氧四氫化呋喃基)-3-甲基-3-環(huán)己烯-1，2-二羧酸酐；及其混合物；優(yōu)選四氫鄰苯二甲酸酐、六氫鄰苯二甲酸酐以及琥珀酸酐；(d)為苯乙烯、氯苯乙烯、α -甲基苯乙烯；由甲基、乙基、丙基、異丙基、正丁基、異丁基、叔丁基、氨基、2-乙基己基、辛基、癸酰、壬基、癸基、十~■燒基、十TK燒基、十八燒基、環(huán)己基、異冰片基、甲氧基乙基、丁氧基乙基、2-輕基乙基、2-羥基丙基和3-氯-2-羥基丙基取代的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯；聚乙二醇的單丙烯酸酯或單甲基丙烯酸酯、或者聚丙二醇的單丙烯酸酯或單甲基丙烯酸酯；乙酸乙烯酯、丁酸乙烯酯或苯甲酸乙烯酯；丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、N-羥基甲基丙烯酰胺、N-甲氧基甲基丙烯酰胺、N-乙氧基甲基丙烯酰胺、N-丁氧基甲基丙烯酰胺、丙烯腈或馬來酸酐；或其混合物；(e)為α -甲基苯乙烯或α -乙基苯乙烯；(f)為含有多羥基的單酸、二烷醇胺、或其混合物；(g)為甲基丙烯酰氧乙基異氰酸酯或有機二異氰酸酯與分子中具有一個羥基的(甲基)丙烯酸類以等摩爾的比例進行反應得到的產物。
6.權利要求I的組合物，其中所述感光樹脂用以下通式所代表的重復單元表示
7.權利要求I的組合物，其中所述光敏引發(fā)劑為苯偶因及苯偶因烷基醚、苯乙酮類、胺基苯乙酮類、蒽醌類、噻噸酮類、縮酮類、有機過氧化物類、硫醇化合物類、有機齒化物類、二苯酮類、噻噸酮類、或2，4，6_三甲基苯甲?；交⒀趸?；其中所述光敏引發(fā)劑中包含選自N，N- 二甲基胺基安息香酸乙基酯、N，N- 二甲基胺基安息香酸異戊基酯、戊基-4- 二甲基胺基苯甲酸酯、三乙基胺、三乙醇胺叔的胺類光引發(fā)助劑。
8.權利要求I的組合物，其中所述稀釋劑為有機溶劑和/或光聚合性單體中的一種或多種；所述填料為無機填料，例如硫酸鋇、鈦酸鋇、二氧化鈣、滑石粉、氣相白炭黑、二氧化硅、粘土、碳酸鎂、碳酸鈣、氧化鋁、云母粉、高嶺土，填料的顆粒直徑為< 15 ym，優(yōu)選< 5pm;所述染料或顏料選自酞菁綠、酞菁藍、結晶紫、二氧化鈦、炭黑、或其混合物；所述添加劑為環(huán)氧樹脂固化促進劑、熱聚合阻聚劑、觸變增粘劑、分散劑、流平劑以及消泡劑中的一種或多種。
9.一種基材，其涂有本發(fā)明的抗蝕刻組合物。
10.權利要求9的基材，其底物為金屬或塑料，例如氧化銦錫膜、鉻材、銅材、鋁材、玻璃、聚對苯二甲酸乙二醇酯或聚丙烯。
全文摘要
本發(fā)明提供一種抗強氧化的抗蝕刻組合物，其含有15-80％感光樹脂、0.5-15％光敏引發(fā)劑、5-60％稀釋劑、0-40％填料、0-20％染料或顏料、0-20％添加劑，其中各百分比均基于組合物總重量計，且各組分的百分比總和為100％，其中所述感光樹脂同時滿足兩個條件1)分子中具有至少一個羧基和至少兩個乙烯型不飽和鍵，且不含羥基，2)與苯環(huán)相連的碳原子上沒有氫原子。該組合物具有很強的抗強氧化性，特別適于在含強氧化劑(如高錳酸鉀)的蝕刻液條件下進行的蝕刻保護。本發(fā)明還提供了涂有本發(fā)明抗蝕刻組合物的基材。
文檔編號C08F220/32GK102819190SQ201210305189
公開日2012年12月12日 申請日期2012年8月24日 優(yōu)先權日2012年8月24日
發(fā)明者李長春, 楊遇春, 張華 , 蔡宣海 申請人:深圳市容大感光科技股份有限公司