本發(fā)明涉及偏光片用光學(xué)離型膜的制備方法。
背景技術(shù)：
偏光片主要用于液晶屏顯像，隨著液晶顯像技術(shù)的蓬勃發(fā)展，偏光片的發(fā)展也越來(lái)越復(fù)雜，精度要求越來(lái)越高。光學(xué)離型膜是偏光片必不可少的材料，其作用是在偏光片貼合到液晶屏之前，保護(hù)壓敏膠層不受損傷，避免產(chǎn)生貼合氣泡?？赡壳笆袌?chǎng)上偏光片所用離型膜的參數(shù)參差不齊，不能滿足制造更優(yōu)級(jí)偏光片的制程材料需求。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
本發(fā)明的目的在于提供一種偏光片用光學(xué)離型膜的制備方法，其能制備出剝離力更穩(wěn)定、殘余率更大的偏光片用光學(xué)離型膜。
為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的技術(shù)方案是設(shè)計(jì)一種偏光片用光學(xué)離型膜的制備方法，包括如下步驟：
1）將40重量份甲苯和40重量份乙醇混合，制得溶劑；在溶劑中投入10重量份聚合物，攪拌15分鐘，投入1重量份硅烷偶聯(lián)劑kh560，持續(xù)攪拌并投入7重量份輔料、2重量份固化劑，攪拌均勻，制得涂布液；所述聚合物的分子式為ch3(sihch3)m(sirch3)nch3,其中r為只含碳?xì)涞挠袡C(jī)基團(tuán)，且聚合物的分子量為2000～3000；
2）在pet膜上涂布上述涂布液；
3）將涂布后的pet膜在120～170℃烘干；
4）對(duì)烘干后的pet膜進(jìn)行光學(xué)檢測(cè)；
5）將光學(xué)檢測(cè)合格的pet膜收卷成型，制得偏光片用光學(xué)離型膜。
優(yōu)選的，所述固化劑選自pt(ⅱ)、pt(ⅳ)、cd(ⅱ)中的一種或幾種。
優(yōu)選的，所述輔料選自氣相法白炭黑、炭黑、硫碳偶聯(lián)劑中的一種或幾種。
優(yōu)選的，所述步驟3）中烘干的時(shí)間為20～30秒。
本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)和有益效果在于：提供一種偏光片用光學(xué)離型膜的制備方法，其能制備出剝離力更穩(wěn)定、殘余率更大的偏光片用光學(xué)離型膜。
本發(fā)明制備的偏光片用光學(xué)離型膜，其剝離力控制在20～24g，剝離力上下限相差小，有利于形成fpc聚酯離型膜的統(tǒng)一規(guī)則。如果剝離力過(guò)低，容易導(dǎo)致其在運(yùn)輸貯存過(guò)程中發(fā)生脫落，如果剝離力過(guò)高，在貼顯示屏的時(shí)候?qū)е缕洳蝗菀捉蚁聛?lái)。本發(fā)明的離型膜可以把剝離力控制在一個(gè)很小的范圍，使其不至于過(guò)高和過(guò)低。
本發(fā)明制備的偏光片用光學(xué)離型膜，其殘余率不小于85%。殘余率的大小代表著離型膜在剝離后的殘余粘性，關(guān)系著偏光片的性能穩(wěn)定性，殘余率的穩(wěn)定標(biāo)示著偏光片的穩(wěn)定。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明的具體實(shí)施方式作進(jìn)一步描述。以下實(shí)施例僅用于更加清楚地說(shuō)明本發(fā)明的技術(shù)方案，而不能以此來(lái)限制本發(fā)明的保護(hù)范圍。
本發(fā)明具體實(shí)施的技術(shù)方案是：
一種偏光片用光學(xué)離型膜的制備方法，包括如下步驟：
1）將40重量份甲苯和40重量份乙醇混合，制得溶劑；在溶劑中投入10重量份聚合物，攪拌15分鐘，投入1重量份硅烷偶聯(lián)劑kh560，持續(xù)攪拌并投入7重量份輔料、2重量份固化劑，攪拌均勻，制得涂布液；所述聚合物的分子式為ch3(sihch3)m(sirch3)nch3,其中r為只含碳?xì)涞挠袡C(jī)基團(tuán)，且聚合物的分子量為2000～3000；
2）在pet膜上涂布上述涂布液；
3）將涂布后的pet膜在120～170℃烘干20～30秒；
4）對(duì)烘干后的pet膜進(jìn)行光學(xué)檢測(cè)；
5）將光學(xué)檢測(cè)合格的pet膜收卷成型，制得偏光片用光學(xué)離型膜。
所述固化劑選自pt(ⅱ)、pt(ⅳ)、cd(ⅱ)中的一種或幾種。
所述輔料選自氣相法白炭黑、炭黑、硫碳偶聯(lián)劑中的一種或幾種。
本發(fā)明制備的偏光片用光學(xué)離型膜，其剝離力控制在20～24g，其殘余率不小于85%。
以上所述僅是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在不脫離本發(fā)明技術(shù)原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和潤(rùn)飾，這些改進(jìn)和潤(rùn)飾也應(yīng)視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。