本發(fā)明涉及磁性材料，尤其涉及一種用于ka波段吸波膜及其制備方法。

背景技術(shù)：

1、近年來(lái)，隨著無(wú)線通訊系統(tǒng)的發(fā)展和物聯(lián)網(wǎng)設(shè)備的普及，數(shù)字設(shè)備被大量使用。其中ka波段成為高速、高寬帶通訊首選工作頻段；但其設(shè)備器件尺寸小，最容易產(chǎn)生電磁波向外輻射超標(biāo)問(wèn)題，容易被外界干擾或截獲。因此為了通訊安全性，必須嚴(yán)苛控制其輻射功率；同時(shí)在6g設(shè)備開始大量使用在ka波段工作，容易導(dǎo)致設(shè)備相互之間干擾產(chǎn)生出現(xiàn)錯(cuò)誤信息。

2、綜上所述，提出一種防止設(shè)備相互之間干擾產(chǎn)生出現(xiàn)錯(cuò)誤信息，確保信號(hào)的完整性的用于ka波段吸波膜及其制備方法是十分有必要的。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本發(fā)明的目的在于提供一種用于ka波段吸波膜及其制備方法，實(shí)現(xiàn)防止設(shè)備相互之間干擾產(chǎn)生出現(xiàn)錯(cuò)誤信息，確保信號(hào)的完整性。

2、為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用的一種用于ka波段吸波膜，聚酯60～70％、分散劑1～4％、吸收劑20～40％、抗氧化劑5～15％、流動(dòng)改善劑1～2％和加工潤(rùn)滑劑1～2％。

3、其中，所述吸收劑為鐵系合金粉末和色素炭黑混合而成；其中鐵系合金粉末為fesi、feni中的一種或多種組成。

4、其中，所述聚酯為pbt粉末。

5、其中，所述抗氧化劑為高分子受阻酚1098和亞磷酸酯輔助抗氧劑618混合而成。

6、其中，所述流動(dòng)改善劑為硅酮母粒。

7、其中，所述分散劑為鈦酸酯。

8、其中，所述加工潤(rùn)滑劑為硬脂酸鎂。

9、本發(fā)明還提供一種用于ka波段吸波膜的制備方法，包括如下步驟：

10、混合原料，將各組分均勻混合，得到混合粉末；

11、將所述混合粉末進(jìn)行流延處理，得到流延膜；其中所述流延膜的厚度為0.7～1mm；

12、裁剪所述流延膜，得到吸波膜。

13、本發(fā)明的一種用于ka波段吸波膜及其制備方法，通過(guò)混合原料，將聚酯60～70％、分散劑1～4％、吸收劑20～40％、抗氧化劑5～15％、流動(dòng)改善劑1～2％和加工潤(rùn)滑劑1～2％均勻混合，得到所述混合粉末；將所述混合粉末進(jìn)行流延處理，得到所述流延膜；其中所述流延膜的厚度為0.7～1mm；將所述流延膜貼在金屬板上，用拱形反射測(cè)試法對(duì)膜樣品在ka波段反射率測(cè)量，反射率≤-7db；裁剪所述流延膜，得到所述吸波膜，所述吸波膜能夠用于ka波段，18～26ghz頻段膜的反射率≤-7db；通過(guò)上述方式，實(shí)現(xiàn)防止設(shè)備相互之間干擾產(chǎn)生出現(xiàn)錯(cuò)誤信息，確保信號(hào)的完整性。

技術(shù)特征：

1.一種用于ka波段吸波膜，其特征在于，包括以下質(zhì)量百分比的原料制備而成：

2.如權(quán)利要求1所述的用于ka波段吸波膜，其特征在于，

3.如權(quán)利要求1所述的用于ka波段吸波膜，其特征在于，

4.如權(quán)利要求1所述的用于ka波段吸波膜，其特征在于，

5.如權(quán)利要求1所述的用于ka波段吸波膜，其特征在于，

6.如權(quán)利要求1所述的用于ka波段吸波膜，其特征在于，

7.如權(quán)利要求1所述的用于ka波段吸波膜，其特征在于，

8.一種用于ka波段吸波膜的制備方法，制備如權(quán)利要求1所述的用于ka波段吸波膜，其特征在于，包括如下步驟：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及磁性材料技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種用于Ka波段吸波膜及其制備方法；包括聚酯60～70％、分散劑1～4％、吸收劑20～40％、抗氧化劑5～15％、流動(dòng)改善劑1～2％和加工潤(rùn)滑劑1～2％；制備方法為：混合原料，將各組分均勻混合，得到混合粉末；將混合粉末進(jìn)行流延處理，得到流延膜；其中流延膜的厚度為0.7～1mm；裁剪流延膜，得到吸波膜；吸波膜能夠用于Ka波段，18～26GHz頻段膜的反射率≤?7dB；通過(guò)上述方式，實(shí)現(xiàn)防止設(shè)備相互之間干擾產(chǎn)生出現(xiàn)錯(cuò)誤信息，確保信號(hào)的完整性。

技術(shù)研發(fā)人員：楊夢(mèng)杰,馮春鵬,吳兆君,陳誠(chéng)
受保護(hù)的技術(shù)使用者：南京航天波平電子科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/12/19