具有潛在熒光材料的四苯乙烯四三唑鎘配合物及其制備方法
【專利說明】具有潛在熒光材料的四苯乙烯四三唑鎘配合物及其制備方 法
[0001]
技術(shù)領(lǐng)域
[0002] 本發(fā)明屬于有機(jī)和無機(jī)合成技術(shù)領(lǐng)域，涉及述四苯乙烯四三唑鎘配合物 {[Cd(L) ?. 5 (ipa) (H20) ] ? 2H20}n (1)(L= 1，1，2, 2-四[4-(1H-1，2, 4-三氮唑-1-基）苯 基]乙烯，ipa=間苯二甲酸）的制備方法及作為潛在的熒光材料的應(yīng)用。
【背景技術(shù)】
[0003] 1，2, 4-三唑及其衍生物兼有吡唑和咪唑的配位特點(diǎn)，是配位能力較強(qiáng)的橋連配 體，目前已合成并表征了大量的單核、多核和多維化合物。這些配體能夠以1，2位上的氮原 子與金屬離子配位形成Nl，N2-橋連模式，對(duì)于4位未取代的1，2, 4-三唑衍生物能通過2, 4 位上的氮原子形成N2,N4-橋連模式，這種N2,N4-橋連模式同金屬酶中咪唑的Nl，N3-橋連 模式類似。對(duì)于三唑類化合物的特殊用途還表現(xiàn)在分子器件化的設(shè)計(jì)上，合成具有不同維 數(shù)的金屬配合物乃是完成器件化至關(guān)重要的一步。
[0004] 本發(fā)明即是采用"溶劑熱法"，即L、ipa、Cd(N03)2 ? 6H20、水和DMF在90 °C下 反應(yīng)三天后緩慢降至室溫得到適合X-射線單晶衍射的黃色塊狀晶體{{[Cd(L)a5(ipa) (H20)] ? 2H20}n (1)(L= 1，1，2,2_ 四[4-(lH-l，2,4-三氮唑-1-基）苯基]乙烯，ipa= 間苯二甲酸）。該配合物還可作為潛在的熒光材料方面得以應(yīng)用。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005] 本發(fā)明的另一個(gè)目的在于提供一種四苯乙烯四三唑鎘配合物{[Cd(L)a5(ipa) (聊? 2H20}n (1)(L= 1，1，2,2_ 四[4-(lH-l，2,4-三氮唑-1-基）苯基]乙烯，ipa= 間苯二甲酸）單晶及其制備方法。
[0006] 為此本發(fā)明人提供了如下的技術(shù)方案： 四苯乙烯四三唑鎘配合物{[Cd(L)Q5(ipa)(H20)]*2H20}n (1)(L= 1，1，2,2_ 四 [4-(lH_l，2, 4-三氮唑-1-基）苯基]乙烯，ipa=間苯二甲酸）的結(jié)構(gòu)基元如圖1所示。
[0007] 本發(fā)明進(jìn)一步公開了四苯乙烯四三唑鎘配合物{[Cd(L)Q.5(ipa) (H20)] ? 2H20}n (1)(L= 1，1，2,2_四[4-(lH-l，2,4-三氮唑-1-基）苯基]乙烯，ipa=間苯二甲酸） 單晶，其特征在于該單晶結(jié)構(gòu)采用APEXIICCD單晶衍射儀，使用經(jīng)過石墨單色化的Moka 射線（入=0. 71073A)為入射輻射，以《-2 〃掃描方式收集衍射點(diǎn)，經(jīng)過最小二乘法修正 得到晶胞參數(shù)，從差值傅立葉電子密度圖利用SHELXL-97直接法解得單晶數(shù)據(jù)： 表1.配合物1的晶體學(xué)數(shù)據(jù)
【主權(quán)項(xiàng)】
1?四苯乙烯四三唑鎘配合物{[Cd(L)Q.5(ipa) (H2O)] *2H20}n (1)的結(jié)構(gòu)基元如圖1所 示： L= 1，1，2, 2_四[4-(lH-l，2, 4-三氮唑-1-基）苯基]乙烯，ipa=間苯二甲酸。
2.權(quán)利要求1所述四苯乙烯四三唑鎘配合物的單晶，其特征在于該單晶結(jié)構(gòu)采用APEX IIC⑶單晶衍射儀，使用經(jīng)過石墨單色化的Moka射線（入=0.71073A)為入射輻射，以 ?-2 〃掃描方式收集衍射點(diǎn)，經(jīng)過最小二乗法修正得到晶胞參數(shù)，從差值傅立葉電子密度 圖利用軟件解出單晶數(shù)據(jù)： 表1.配合物1的晶體學(xué)數(shù)據(jù)
3?權(quán)利要求1所述四苯乙烯四三唑鎘配合物{[Cd(L)Q.5(ipa) (H2O)] ? 2H20}n (I)(L=1，1，2, 2-四[4-(1H-1，2, 4-三氮唑-1-基）苯基]乙烯，ipa=間苯二甲酸）的制備方 法，其特征在于它是采用"溶劑熱法"，即L、ipa、Cd(NO3)2 ? 6H20、水和DMF在90 °C下反應(yīng) 三天后緩慢降至室溫以制備該配合物
4?權(quán)利要求1所述四苯乙烯四三唑鎘配合物{[Cd(L)Q.5(ipa) (H2O)] *2H20}n (I)(L= 1，1，2, 2-四[4-(1H-1，2, 4-三氮唑-1-基）苯基]乙烯，ipa=間苯二甲酸）作為潛在的 熒光材料方面的應(yīng)用。
【專利摘要】本發(fā)明公開了具有潛在熒光材料的四苯乙烯四三唑鎘配合物及其制備方法，其中四苯乙烯四三唑鎘配合物{[Cd(L)0.5(ipa)(H2O)]·2H2O}n (1)的結(jié)構(gòu)基元如圖1所示。同時(shí)還公開了{(lán)[Cd(L)0.5(ipa)(H2O)]·2H2O}n (1) (L = 1,1,2,2-四[4-(1H-1,2,4-三氮唑-1-基)苯基]乙烯，ipa = 間苯二甲酸)的制備方法。它是采用“溶劑熱法”，即L、ipa、Cd(NO3)2·6H2O、水和DMF在90 oC下反應(yīng)三天后緩慢降至室溫得到適合X-射線單晶衍射的黃色塊狀晶體。本發(fā)明進(jìn)一步公開了四苯乙烯四三唑鎘配合物作為潛在的熒光材料方面的應(yīng)用。
【IPC分類】C09K11-06, C07F3-08
【公開號(hào)】CN104628752
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510087998
【發(fā)明人】王英
【申請(qǐng)人】天津師范大學(xué)
【公開日】2015年5月20日
【申請(qǐng)日】2015年2月26日