含二苯砜噻二唑硫醚的二巰基高折射率單體及合成方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明設(shè)及光學(xué)樹脂技術(shù)領(lǐng)域，具體是設(shè)及一種含二苯諷唾二挫硫離的二琉基高 折射率單體及合成方法。
【背景技術(shù)】
[0002] 由于具有高折射率的光學(xué)材料在光纖、LED封裝材料、建筑材料、觸摸屏、鏡片樹 月旨、光學(xué)濾鏡、光電器件W及減反射涂層領(lǐng)域中具有很好的的發(fā)展前景，因此高折射率光學(xué) 材料一直是人們重點(diǎn)研究的材料之一。
[0003] 傳統(tǒng)無機(jī)材料雖然具有很高的折射率，但無機(jī)材料因?yàn)槊芏却?，初性差，不易?工，不易染色，尤其是在制備減反射涂層中，由于不易做到無機(jī)材料的折射率連續(xù)可調(diào)，該 就無疑增加了加工過程的成本。
[0004] 相比較于無機(jī)材料，光學(xué)樹脂由于其質(zhì)輕、抗沖擊、易加工成型、可染色及優(yōu)異的 光學(xué)性能，越來越受到人們的青睞。但是，通常光學(xué)樹脂的折射率只能通過基團(tuán)的改變?cè)?一個(gè)相對(duì)較小的范圍內(nèi)進(jìn)行調(diào)節(jié)，較低的折射率且綜合性能不太理想限制了光學(xué)樹脂的適 用范圍，所W合成新的高性能透明樹脂成為光學(xué)塑料發(fā)展的必然趨勢(shì)，根據(jù)經(jīng)典的電磁理 論，為提高樹脂的折射率，可W通過在聚合物分子結(jié)構(gòu)中引入具有較高的摩爾折射度和較 小分子體積的基團(tuán)，如硫、苯環(huán)、面素、重金屬等。
[0005] 含硫光學(xué)樹脂具有折光指數(shù)高，色散低，比重小，環(huán)境穩(wěn)定性好，固化成膜后機(jī)械 性能優(yōu)異，耐刮擦性強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)，因此含硫樹脂的綜合性能一般優(yōu)于其它樹脂，也是近幾年研 究較為熱口的一類光學(xué)樹脂。本發(fā)明就采用引入硫離和諷基來制備一種含二苯諷唾二挫硫 離的二琉基高折射率單體。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006] 本發(fā)明要解決的技術(shù)問題為克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足指出，提供一種含二苯諷唾二 挫硫離的二琉基高折射率單體，該單體不僅自身具有較高的折射率，而且采用多種方法制 備成聚合物后，其聚合物也有著很高的折射率，同時(shí)滿足作為光學(xué)材料要求的透光率W及 較好的機(jī)械性能，拓寬了實(shí)際應(yīng)用范圍，可作為減反射涂層，LED封裝材料等多種場(chǎng)合使用。
[0007] 本發(fā)明要解決的另一個(gè)技術(shù)問題為提供上述含二苯諷唾二挫硫離的二琉基高折 射率單體的合成方法。
[000引為解決本發(fā)明的技術(shù)問題，所采用的技術(shù)方案為：一種含二苯諷唾二挫硫離的二 琉基高折射率單體，其分子結(jié)構(gòu)如式（I)所示：
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種含二苯砜噻二唑硫醚的二巰基高折射率單體，其分子結(jié)構(gòu)如式（I)所示：
2. -種如權(quán)利要求1所述含二苯砜噻二唑硫醚的二巰基高折射率單體的合成方法，包 括Wi 11 iamson合成法，其特征在于：在保護(hù)氣氛條件下，將2, 5-二巰基-1，3, 4-噻二唑、堿 以及4, 4'-二氯二苯砜于反應(yīng)容器中反應(yīng)過夜，反應(yīng)溫度為150~240°C，反應(yīng)結(jié)束后冷卻， 加入萃取劑，收集有機(jī)相，用水洗去無機(jī)物，再用醇洗去未反應(yīng)掉的反應(yīng)物，干燥產(chǎn)物，得到 式（I)所示樹脂單體。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的含二苯砜噻二唑硫醚的二巰基高折射率單體的合成方 法，其特征在于：2, 5-二巰基-1,3, 4-噻二唑與堿的摩爾比為1:0. 5~1. 1，2, 5-二巰 基-1，3, 4-噻二唑與4, 4' -二氯二苯砜的摩爾比為2~2. 6:1。
4. 根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的含二苯砜噻二唑硫醚的二巰基高折射率單體的合成方 法，其特征在于：所述堿是似0!1、1(0!1、似 20)3、1(20)3、似!10)3、腿0) 3、三乙胺和對(duì)二甲胺基吡啶 中的一種或幾種的混合物。
5. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的含二苯砜噻二唑硫醚的二巰基高折射率單體的合成方法，其 特征在于：洗去未反應(yīng)掉的反應(yīng)物所用的醇為無水乙醇或無水甲醇。
6. -種如權(quán)利要求1所述含二苯砜噻二唑硫醚的二巰基高折射率單體的應(yīng)用，其特征 在于：式（I)所示單體與環(huán)氧氯丙烷反應(yīng)制備如式（II)所示的環(huán)氧單體，
【專利摘要】本發(fā)明涉及光學(xué)樹脂技術(shù)領(lǐng)域，具體是涉及一種含二苯砜噻二唑硫醚的二巰基高折射率單體及合成方法。通過Williamson合成法將2,5-二巰基-1,3,4-噻二唑、堿以及4,4’-二氯二苯砜于反應(yīng)容器中反應(yīng)，冷卻，加入萃取劑，收集有機(jī)相，用水洗去無機(jī)物，再用醇洗去未反應(yīng)掉的反應(yīng)物，干燥產(chǎn)物，得到該含二苯砜噻二唑硫醚的二巰基高折射率單體，該單體含有硫醚鍵和砜基的對(duì)稱二巰基分子，在保證較高折射率的基礎(chǔ)上解決了后續(xù)反應(yīng)選擇反應(yīng)物的問題，兩端的巰基可以與多種官能團(tuán)反應(yīng)制備相應(yīng)的具有較高折射率的聚合物，并且具有較好的透光率、機(jī)械性能以及附著力，可作為減反射涂層以及LED封裝等多種場(chǎng)合的應(yīng)用。
【IPC分類】C07D285-125, C07D417-14
【公開號(hào)】CN104672175
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510098886
【發(fā)明人】徐衛(wèi)兵, 陳凱, 毛亞俊, 周正發(fā)
【申請(qǐng)人】合肥工業(yè)大學(xué)
【公開日】2015年6月3日
【申請(qǐng)日】2015年3月5日