一種雙肟酯類光引發(fā)劑及其制備方法和應(yīng)用
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明屬于光引發(fā)劑技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種雙巧醋類光引發(fā)劑及其制備方法和 應(yīng)用。
【背景技術(shù)】
[0002] 具有巧醋結(jié)構(gòu)的化合物在本領(lǐng)域中用作光引發(fā)劑已被廣泛知悉，如公開號為 CN99108598A、CN101508744A、CN10565472A、CN103293855A 等專利文獻公開了不同的巧哇巧 醋和麗巧醋類光引發(fā)劑，該些公開的光引發(fā)劑可在不同程度上滿足當(dāng)前顯示面板及彩色濾 光片等光固化領(lǐng)域的一般性應(yīng)用要求。
[0003] 但微電子和光電科技的發(fā)展日新月異，現(xiàn)有產(chǎn)品在一些應(yīng)用領(lǐng)域中開始顯現(xiàn)不 足，產(chǎn)品的更新?lián)Q代也對光引發(fā)劑提出了更高要求。目前應(yīng)用于液晶間隙控制材料用的光 致蝕劑大多耐熱性不佳，烘烤或封裝制程中容易塌陷使得間隙材料縮水，而在涂布、曝光顯 影等制程中如刻意加大間隙控制材料的高度會增加其成本，受熱塌陷時熱融出的小分子將 會污染液晶。在高端彩色濾光片的制作中，一方面光引發(fā)劑需滿足高溶解性、熱穩(wěn)定性良好 的基本要求，另一方面其高色彩的質(zhì)量性能要求需要大大提高色漿或顏料的濃度，需要使 用經(jīng)高度著色的抗蝕劑。隨著顏料含量的增加，色彩抗蝕劑的固化變得更加困難，其固化后 圖像的清晰度、完整度也都有較高的要求，該就需要更高感光度的引發(fā)劑來解決上述問題。
[0004] 在光固化領(lǐng)域中，具有高感光性、穩(wěn)定性高、且易于制備的光引發(fā)劑仍是該領(lǐng)域的 發(fā)展首選，而研究和開發(fā)具有更高性能的光引發(fā)劑將一直是該領(lǐng)域的一項核也工作。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005] 本發(fā)明的目的在于提供一種性能優(yōu)異的雙巧醋類光引發(fā)劑及其制備方法和應(yīng)用， 通過在化學(xué)結(jié)構(gòu)中引入雙巧醋基團，該光引發(fā)劑不僅在儲存穩(wěn)定性、感光度、顯影性和圖案 完整性等方面性能優(yōu)異，而且與同類光引發(fā)劑相比，表現(xiàn)出了明顯提高的感光度和熱穩(wěn)定 性。
[0006] 本發(fā)明實現(xiàn)目的的技術(shù)方案如下：
[0007] -種雙巧醋類光引發(fā)劑，其具有如通式（I)所示結(jié)構(gòu)：
[0008]
【主權(quán)項】
1. 一種雙肟酯類光引發(fā)劑，其特征在于：其具有如通式（I)所示結(jié)構(gòu)：
R2、R3相互獨立地表示為C1-C20的直鏈或支鏈烷基、C3-C20的環(huán)烷基、C4-C20的環(huán)烷 基烷基、C4-C20的烷基環(huán)烷基，任選地，上述基團中的氧可以被選自鹵素、硝基、羥基、竣基、 磺酸基、氨基、氰基和烷氧基的基團取代；條件是，R2和R3中至少一個是未被取代，或被一 個或多個選自鹵素、硝基、羥基、羧基、磺酸基、氨基、氰基和烷氧基的基團取代的環(huán)烷基烷 基； R4、R7表示為C1-C20的直鏈或支鏈烷基、C3-C20的環(huán)烷基、C4-C20的環(huán)烷基烷基、 C4-C20的烷基環(huán)烷基、C3-C20的雜芳基、C6-C20的芳基。 R5表示為
其中R6為硝基、C1-C20的直鏈或支鏈烷基、C3-C20的環(huán)烷基、C4-C20的環(huán)烷基烷基、 C4-C20的烷基環(huán)烷基、C3-C20的雜芳基、C6-C20的芳基，任選地，上述基團中的氫可以被選 自鹵素、苯基、硝基、羥基、竣基、橫酸基、氣基、氛基和烷氧基的基團所取代。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙肟酯類光引發(fā)劑，其特征在于：所述R2、R3、R4、R6、R7基 團中的氫被選自鹵素、苯基、硝基、羥基、羧基、磺酸基、氨基、氰基和烷氧基的基團所取代。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙肟酯類光引發(fā)劑，其特征在于：所述R2、R3相互獨立地表 示為C1-C5的直鏈或支鏈烷基、C4-C15的環(huán)烷基烷基，任選地，上述基團中的氫可以被選自 鹵素、硝基、氰基和烷氧基的基團取代；條件是，R2和R3中至少一個是未被取代或被一個 或多個選自鹵素、硝基、氰基和烷氧基的基團取代的環(huán)烷基烷基，所述環(huán)烷基烷基的結(jié)構(gòu)為
其中η為1-5的整數(shù)，m為1-6的整數(shù)。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙肟酯類光引發(fā)劑，其特征在于：所述R4優(yōu)選代表C1-C5的 直鏈或支鏈烷基、C3-C8的環(huán)烷基、C4-C8的環(huán)烷基烷基、C4-C8的烷基環(huán)烷基、C3-C5的雜 芳基、C6-C10的芳基，任選地，上述基團中的氫可以被選自鹵素、硝基和烷氧基的團所取代。
5. 如權(quán)利要求1所述的雙肟酯類光引發(fā)劑的制備方法，包括以下步驟：
(1) 中間體1的合成：以 為起始原料，與含有R5基團的酰鹵化合物，在三氯化 鋁或氯化鋅等路易斯酸的催化作用下，通過傅克反應(yīng)，合成中間體1，反應(yīng)式如下所示：
式中X代表鹵素； (2) 中間體2的合成：以中間體1為原料，與含有R2和R3基團的酰鹵化合物，在三氯 化鋁或氯化鋅等路易斯酸的催化作用下，通過傅克反應(yīng)，合成中間體2,反應(yīng)式如下所示：
(3) 中間體2的合成：以中間體2為原料，在氯化氫、醇鈉或醇鉀的作用下與鹽酸羥胺 進行肟化反應(yīng)，生成中間體3,反應(yīng)式如下所示：
(4) 雙肟酯類光引發(fā)劑的合成：將中間體3與含有R4, R7基團的酰鹵化合物或酸酐進 行酯化反應(yīng)，合成雙肟酯類光引發(fā)劑產(chǎn)品。所述X選自F、Cl、Br或I。
所述R4、R7代表C1-C5的直鏈或支鏈烷基、C3-C8的環(huán)烷基、C4-C8的環(huán)烷基烷基、 C4-C8的烷基環(huán)烷基、C3-C5的雜芳基、C6-C10的芳基，任選地，上述基團中的氫可以被選自 鹵素、硝基和烷氧基的團所取代。
6.權(quán)利要求1所述的雙肟酯類光引發(fā)劑作為光引發(fā)劑的應(yīng)用。
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種雙肟酯類光引發(fā)劑及其制備方法和應(yīng)用，通過在化學(xué)結(jié)構(gòu)中引入雙肟酯基團，本光引發(fā)劑不僅在儲存穩(wěn)定性、感光度、顯影性和圖案完整性等方面性能優(yōu)異，而且與同類光引發(fā)劑相比，產(chǎn)品表現(xiàn)出了明顯提高的感光度和熱穩(wěn)定性。
【IPC分類】G03F7-004, C07C251-68, C07C249-12, C08F2-48, C07C251-66
【公開號】CN104672354
【申請?zhí)枴緾N201510059078
【發(fā)明人】孫建, 鄭康健
【申請人】天津墨森科技有限公司
【公開日】2015年6月3日
【申請日】2015年2月4日