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      一種索氟布韋的晶型及其應(yīng)用

      文檔序號:8482968閱讀:221來源:國知局
      一種索氟布韋的晶型及其應(yīng)用
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001] 本發(fā)明屬于醫(yī)藥技術(shù)領(lǐng)域,更具體地說,涉及一種新穎的索氟布韋晶型及制備方 法和其在醫(yī)藥研發(fā)和生產(chǎn)中的應(yīng)用。
      【背景技術(shù)】
      [0002] 索氟布韋(sofosbuvir),化學(xué)名為異丙基(2S)-2-[[[(2R,3R,4R,5R)-5-(2,4-二 氧嘧啶-1-基)-4-氟-3-羥基-4-甲基-四氫呋喃-2-基]-甲氧基-苯氧基-磷酰基] 氨基]丙酸酯,CAS編號為1190307-88-0,化學(xué)結(jié)構(gòu)式如下:
      【主權(quán)項】
      1. 一種索氟布韋的晶型H7,其特征在于,使用Cu-Ka射線,晶型的粉末X射線衍射 圖譜中的衍射角2 9在4.9。、6.8。、8.7。、15.8。、16.4。、16.8。、20.8。、22.1。、 24. 9°、25. 1°處具有特征峰。
      2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的索氟布韋的晶型H7,其特征在于,其具有基本如附圖1所示 的粉末X射線衍射圖譜。
      3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的索氟布韋的晶型H7,其特征在于,其晶胞參數(shù)如下所示: a= 12.94~12.96 A,b= 6.2卜6_24人,c=17.95~ 17.98 A; a = 90. 0°,0 = 93. 8 ~94. 1。,y = 90. 0° ; 空間群為P21,Z= 2,單斜晶系。
      4. 用于獲得如權(quán)利要求1至4中任一項所述的索氟布韋的晶型H7的制備方法,其特征 在于,包括下列步驟: (1) 將索氟布韋溶于溶劑中得到索氟布韋溶液,其中,所述溶劑為含二氯甲烷的有機(jī)溶 劑混合物; (2) 將所述索氟布韋溶液進(jìn)行析晶; (3) 將析晶所得到的固體過濾、淋洗后進(jìn)行干燥處理。
      5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備方法,其特征在于,所述含二氯甲烷的有機(jī)溶劑混合物 中二氯甲烷的體積百分比為5%~70%。
      6. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備方法,其特征在于,所述的有機(jī)溶劑混合物含有醚類溶 劑或烷烴類溶劑的任意一種或多種。
      7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的制備方法,其特征在于,所述的醚類溶劑為環(huán)戊基甲醚、苯甲 醚、異丙醚、正丁醚或二芐醚中的任意一種或多種的混合物;所述的烷烴類溶劑為C5~C7 的直鏈、支鏈或環(huán)烷烴中的任意一種或多種的混合物。
      8. 索氟布韋晶型H7在制備索氟布韋晶型1上的應(yīng)用,其特征在于,將所述的索氟布韋 晶型H7加熱制備得到索氟布韋晶型1。
      9. 索氟布韋晶型H7在制備索氟布韋晶型6上的應(yīng)用,其特征在于,將索氟布韋晶型H7 在水中攪拌制備得到索氟布韋晶型6。
      10. 索氟布韋晶型H7在制備索氟布韋晶型A上的應(yīng)用,其特征在于,將索氟布韋晶型 H7在水中靜置制備得到索氟布韋晶型A。
      11. 索氟布韋晶型H7在制備索氟布韋晶型A上的應(yīng)用,其特征在于,將索氟布韋晶型 H7在非極性有機(jī)溶劑中靜置或攪拌制備得到索氟布韋晶型A。
      12. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的應(yīng)用,其特征在于,所述的非極性有機(jī)溶劑為異丙醚、正丁 醚、甲苯、二甲苯或三甲苯中的任意一種或多種的混合物。
      【專利摘要】本發(fā)明公開了一種新的索氟布韋的晶型H7,該晶型從含有二氯甲烷的有機(jī)溶劑中冷卻析晶得到。該晶型H7的X射線粉末衍射角為2θ時,在4.9°、6.8°、8.7°、15.8°、16.4°、16.8°、20.8°、22.1°、24.9°、25.1°等處具有特征峰。本發(fā)明晶型的制備方法簡單,穩(wěn)定性好,且其作為制藥中間體易于轉(zhuǎn)化為多種其他索氟布韋晶型,如晶型1、晶型6和晶型A,可以在制藥研究和工藝開發(fā)中獲得廣泛應(yīng)用。
      【IPC分類】C07H1-06, C07H19-10
      【公開號】CN104804054
      【申請?zhí)枴緾N201510185335
      【發(fā)明人】胡詠波
      【申請人】南京旗昌醫(yī)藥科技有限公司
      【公開日】2015年7月29日
      【申請日】2015年4月17日
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