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      一種新型電磁屏蔽復合材料的制作方法

      文檔序號:9211625閱讀:319來源:國知局
      一種新型電磁屏蔽復合材料的制作方法
      【技術領域】
      [0001]本發(fā)明涉及一種新型電磁屏蔽復合材料。
      【背景技術】
      [0002]隨著科學技術的發(fā)展,人類已進入信息社會,在生產中使用的電子電氣設備越來越多,生存環(huán)境已具有濃厚的電磁環(huán)境內涵。隨著城市人口的迅速增長,汽車、電子、通信、計算機及電器設備大量進入家庭,電磁波向外輻射的電磁能量正以每年7%?14%的速度遞增,電磁環(huán)境污染日益嚴重。電磁屏蔽是抑制電磁干擾的主要技術,屏蔽材料市場競爭日趨激烈,屏蔽復合材料作為一種新型屏蔽材料,日益受到研宄者們的高度重視。用于電磁屏蔽的電磁屏蔽材料的性能參數(shù)是決定電磁屏蔽效果的關鍵。目前市場上的電磁屏蔽材料還有許多不足,加工性差、易受環(huán)境腐蝕、力學性能差,所以有待進一步改進。

      【發(fā)明內容】

      [0003]針對現(xiàn)有技術的不足,本發(fā)明要解決的問題是,提供一種新型電磁屏蔽復合材料,具有良好的加工性能,而且具備穩(wěn)定的摩擦磨損性能和良好的耐熱性,制造成本較低。
      [0004]為解決現(xiàn)有技術問題,本發(fā)明提供的技術方案是,一種新型電磁屏蔽復合材料,其由以下重量份數(shù)的原料制成:
      碳黑4-8份,氣相二氧化硅0.6-0.8份,摩擦性能調節(jié)劑7-18份,軟磁性材料10-19份,納米磁性材料12-16份,四氧化三鈷3-6份,聚氯乙烯7-11份,聚乙烯蠟3_5份,偶聯(lián)劑2_4份,環(huán)氧樹脂15-23份,還原鐵粉13-16份,石墨6-15份,磁性膠體2_6份,3301樹脂3_5份。
      [0005]本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明的新型電磁屏蔽復合材料,具有良好的加工性能,而且具備穩(wěn)定的摩擦磨損性能和良好的耐熱性,制造成本較低。
      【具體實施方式】
      [0006]實施例1
      一種新型電磁屏蔽復合材料,其由以下重量份數(shù)的原料制成:
      碳黑4份,氣相二氧化娃0.6份,摩擦性能調節(jié)劑7份,軟磁性材料10份,納米磁性材料12份,四氧化三鈷3份,聚氯乙烯7份,聚乙烯蠟3份,偶聯(lián)劑2份,環(huán)氧樹脂15份,還原鐵粉13份,石墨6份,磁性膠體2份,3301樹脂3份。
      [0007]實施例2
      一種新型電磁屏蔽復合材料,其由以下重量份數(shù)的原料制成:
      碳黑8份,氣相二氧化娃0.8份,摩擦性能調節(jié)劑18份,軟磁性材料19份,納米磁性材料16份,四氧化三鈷6份,聚氯乙烯11份,聚乙烯蠟5份,偶聯(lián)劑4份,環(huán)氧樹脂23份,還原鐵粉16份,石墨15份,磁性膠體6份,3301樹脂5份。
      【主權項】
      1.一種新型電磁屏蔽復合材料,其特征在于:其由以下重量份數(shù)的原料制成: 碳黑4-8份,氣相二氧化硅0.6-0.8份,摩擦性能調節(jié)劑7-18份,軟磁性材料10-19份,納米磁性材料12-16份,四氧化三鈷3-6份,聚氯乙烯7-11份,聚乙烯蠟3_5份,偶聯(lián)劑2_4份,環(huán)氧樹脂15-23份,還原鐵粉13-16份,石墨6-15份,磁性膠體2_6份,3301樹脂3_5份。
      【專利摘要】一種新型電磁屏蔽復合材料,其由以下重量份數(shù)的原料制成:碳黑4-8份,氣相二氧化硅0.6-0.8份,摩擦性能調節(jié)劑7-18份,軟磁性材料10-19份,納米磁性材料12-16份,四氧化三鈷3-6份,聚氯乙烯7-11份,聚乙烯蠟3-5份,偶聯(lián)劑2-4份,環(huán)氧樹脂15-23份,還原鐵粉13-16份,石墨6-15份,磁性膠體2-6份,3301樹脂3-5份。本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明的新型電磁屏蔽復合材料,具有良好的加工性能,而且具備穩(wěn)定的摩擦磨損性能和良好的耐熱性,制造成本較低。
      【IPC分類】C08L27/06, C08K3/22, C08L101/00, C08L23/06, C08L63/00, C08K13/02, C08K3/04, C08K3/08, C08K3/36
      【公開號】CN104927305
      【申請?zhí)枴緾N201510367747
      【發(fā)明人】白小波
      【申請人】青島精石通精密機械制造有限公司
      【公開日】2015年9月23日
      【申請日】2015年6月29日
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