18烷氧基，術(shù)語"酯基"指的是C2-C30酯基、 并且特別是C2-C18酯基，術(shù)語"酮基"指的是C2-C30酮基、并且特別是C2-C18酮基，術(shù)語 "芳基"指的是C6-C30芳基、并且特別是C6-C18芳基，和術(shù)語"烯基"指的是C2-C30烯基、 并且特別是C2-C18烯基，術(shù)語"炔基"指的是C2-C10炔基，術(shù)語"雜芳基"指的是C3-C30雜 芳基，且術(shù)語"雜環(huán)基"指的C3-C30雜環(huán)基。
[0154] 如本文中使用的，術(shù)語"聚酰亞胺-聚苯并噴、唑共聚物"和"聚（酰亞胺-苯并_藝 唑）共聚物"具有相同的含義并且可交換地使用。
[0155] 透明膜包括包含由以下化學式1表示的重復單元的聚酰亞胺-聚苯并*惡唑共聚 物：
[0156] 化學式1
[0158] 其中在化學式1中，
[0159] Ai為得自化學式2的二酐化合物的基團。
[0160] 在化學式1中，各AiS取代或未取代的四價C6-C24脂族環(huán)基團、取代或未取 代的四價C6-C24芳族環(huán)基團、或者取代或未取代的四價C4-C24雜芳族環(huán)基團。所述 脂族環(huán)基團、所述芳族環(huán)基團、或所述雜芳族環(huán)基團中的環(huán)可單獨存在。所述脂族環(huán)基 團、所述芳族環(huán)基團、或者所述雜芳族環(huán)基團的兩個或更多個環(huán)可彼此稠合以提供稠 環(huán)體系。所述脂族環(huán)基團、所述芳族環(huán)基團、或者所述雜芳族環(huán)基團的兩個或更多個 環(huán)可通過單鍵、_〇_、_S-、-C ( = 0)-CH (0H)-S ( = 0)廠、-Si (CH3) 2-、（CH2) p (其中 1彡p彡10)、（CF2)q (其中1彡q彡10)、-CR2-(其中R獨立地為氫、Cl-Cio脂族烴基（例 如，烷基或烯基）、C6-C20芳族烴基（例如，芳基）、或者C6-C20脂環(huán)族烴基（例如，環(huán)烷 基））、-C (CF3) 2_、-C (CF3) (C6H5)-、或者-C ( = 0) NH-連接。
[0161] 在一種實施方式中，Ai可選自以下化學式：
[0162]
[0163] 此處，在以上化學式中，
[0164] 各環(huán)狀殘基可為取代或未取代的；
[0165] 各L彼此相同或者不同，并且獨立地為單鍵、-〇-、-S-、_C ( = 0) -、_CH(0H) -、_S (= 0)2_、-Si(CH3)2_、（CH2) P(其中 1 彡 p 彡 10)、（CF2)q(其中 1 彡 q 彡 10)、-CR2_(其中 R 獨 立地為氫、C1-C10脂族烴基、C6-C20芳族烴基、或者C6-C20脂環(huán)族烴基）、-C(CF3)2-、或 者-C( = 0)ΝΗ-，
[0166] Z1和Z2相同或不同并且獨立地為_N=或-C(R1Q°)=，其中R 1Q°為氫或C1-C5烷 基，條件是Z1和Z2不同時為-C(R1M)=，
[0167] Z3為-0-、_S-、或-NR101-，其中 R101為氫或 C1-C5 烷基，和
[0168] *為所述殘基與相鄰原子連接的點。
[0169] 例如，六1可選自以下基團，但是不限于此。

[0172] 在化學式1中，A/可為取代或未取代的二價C6-C24脂族環(huán)基團、取代或未取 代的二價C6-C24芳族環(huán)基團、或者取代或未取代的二價C4-C24雜芳族環(huán)基團，其中在 所述脂族環(huán)基團、所述芳族環(huán)基團、或者所述雜芳族環(huán)基團中，環(huán)是單獨存在的；兩個或 更多個環(huán)彼此稠合以提供稠環(huán)體系；或者兩個或更多個環(huán)通過單鍵、-〇-、-s-、-C(= 0)-、-CH(OH)-、-S( = 0)2_、-Si(CH3)2-、（CH2) P(其中 1 彡 p 彡 10)、（CF2)q(其中 1 < q < 10)、-CR2-(其中R獨立地為氫、C1-C10脂族烴基、C6-C20芳族烴基、或者C6-C20 脂環(huán)族烴基）、-C (CF3) 2_、-C (CF3) (C6H5)-、或者-C ( = 0) NH-連接.
[0173] 例如，A/可選自以下化學式：
[0174]
[0175] 其中在以上化學式中，
[0176] 各殘基為取代或未取代的，
[0177] 各L彼此相同或者不同，并且獨立地為單鍵、-〇-、-S-、_C ( = 0) -、_CH(0H) -、_S (= 0)2-、-Si(CH3)2-、（CH2) P (其中 1 彡p 彡 10)、（CF2)q (其中 1 彡 q彡 10)、-CR2_(其中 R 獨立 地為氫、C1-C10脂族烴基、C6-C20芳族烴基、或者C6-C20脂環(huán)族烴基）、-C(CF3)2-、-C(CF 3) (〇^5)-、或者-(：(=0)順-，
[0178] Z1和Z2相同或不同并且獨立地為_N=或-C(R1Q°)=，其中R·為氫或C1-C5烷 基，條件是Z1和Z2不同時為-C(R1M)=，
[0179] Z3為-0-、_S-、或-NR101-，其中 R101為氫或 C1-C5 烷基，和
[0180] *為所述殘基與相鄰原子連接的點。
[0181] 在化學式1中，A2為得自將稍后描述的化學式4的羥基二胺的殘基。A 2可選自以 下化學式：
[0183] 其中在以上化學式中，各殘基可為取代或未取代的，
[0184] 各L相同或不同，并且獨立地為單鍵、-0_、-S-、-C( = 0)_、-CH(OH)-、-S(= 0)2-、-Si(CH3)2-、（CH2) P (其中 1 彡p 彡 10)、（CF2)q (其中 1 彡 q彡 10)、-CR2_(其中 R 獨立 地為氫、C1-C10脂族烴基、C6-C20芳族烴基、或者C6-C20脂環(huán)族烴基）、-C(CF3)2-、-C(CF 3) (〇*)-、或者-(：(=〇)順-，和
[0185] *為所述殘基與相鄰原子連接的點。
[0186] 例如，^可選自以下基團，但是不限于此：
[0187]

[0189] 其中在化學式1中，
[0190] A3為得自將稍后描述的化學式3表示的二胺化合物的殘基，其中
[0191] 六3為取代或未取代的二價C6-C24脂族環(huán)基團、取代或未取代的二價C6-C24芳 族環(huán)基團、或者取代或未取代的二價C4-C24雜芳族環(huán)基團，其中在所述脂族環(huán)基團、所 述芳族環(huán)基團、或者所述雜芳族環(huán)基團中，環(huán)是單獨存在的；兩個或更多個環(huán)彼此稠合以 提供稠環(huán)體系；或者兩個或更多個環(huán)通過單鍵、-〇_、-S-、_C( = 0)-、-CH(OH)-、-S(= 0)2-、-Si(CH3)2-、（CH2) P (其中 1 彡p 彡 10)、（CF2)q (其中 1 彡 q彡 10)、-CR2_(其中 R 獨立 地為氫、C1-C10脂族烴基、C6-C20芳族烴基、或者C6-C20脂環(huán)族烴基）、-C(CF3)2-、-C(CF 3) (C6H5)-、或者-C ( = 0) NH-連接。
[0192] A3可選自以下化學式：
[0193]
[0194] 其中在以上化學式中，
[0195] 各殘基為取代或未取代的，
[0196] 各L相同或不同，并且獨立地為單鍵、-0_、-S-、-C( = 0)_、-CH(OH)-、-S(= 0)2-、-Si(CH3)2-、（CH2) P (其中 1 彡p 彡 10)、（CF2)q (其中 1 彡 q彡 10)、-CR2_(其中 R 獨立 地為氫、C1-C10脂族烴基、C6-C20芳族烴基、或者C6-C20脂環(huán)族烴基）、-C(CF3)2-、-C(CF 3) (〇*)-、或者-(：(=〇)順-，和
[0197] *為所述殘基與相鄰原子連接的點。
[0198] 例如，A3可選自以下化學式，但是不限于此：


[0202] 其中在以上化學式中，
[0203] m和η為表示酰亞胺結(jié)構(gòu)單元和苯并場唑結(jié)構(gòu)單元的摩爾比率的實數(shù)，條件是η 與m之比（n/m)大于約0且小于約0. 01，例如，為約0. 0001-約0. 009、大于0. 0005且小于 或等于約0. 005、或者為約0. 001-約0. 005。當所述聚（酰亞胺-苯并"惡唑）共聚物具有 在所述范圍內(nèi)的n/m時，包括其的膜可如下所述顯示出改善的光學性質(zhì)、優(yōu)異的熱穩(wěn)定性、 和優(yōu)異的表面特性。
[0204] 例如，所述膜當用UV光譜儀在其約10微米（μπι)的厚度下測量時具有在約 300-約800納米（nm)的波長范圍中平均大于或等于約85%例如大于或等于約86%、大于 或等于約87 %、或者大于或等于約87. 5 %的全波長平均透射率。所述膜在約430nm的波長 處可具有大于或等于約80. 5%例如大于或等于約81. 0%、或者大于或等于約81. 1 %的透 射率。所述膜可具有小于或等于約5. 2例如小于或等于約5. 0、小于或等于約4. 9、小于或 等于約4. 8、小于或等于約4. 7、小于或等于約4. 6、或者小于或等于約4. 5的黃色指數(shù)。所 述膜可具有小于或等于約12百萬分率/攝氏度（ppm/°C )例如小于或等于約8. 5ppm/°C、 小于或等于約8. 4ppm/°C、小于或等于約8. 2ppm/°C、小于或等于約8. 0ppm/°C、小于或等于 約7. 0ppm/°C、或者小于或等于約6. 9ppm/°C的在約50-約300°C的溫度下的熱膨脹系數(shù) (CTE)〇
[0205] 因此，所述膜可令人滿意地用于要求優(yōu)異的機械性質(zhì)、熱穩(wěn)定性、和光學性質(zhì)的柔 性基底、柔性保護膜等中。
[0206] 沉積膜可形成于所述膜的表面上。所述沉積膜可包括氧化硅、聚硅酸、堿金屬硅酸 鹽、堿土金屬硅酸鹽、硅鋁酸鹽、氮化硅、氧氮化硅、碳化硅、鋁氧氮化硅、或其組合。
[0207] 在一種實施方式中，該沉積膜可用作柔性基底等中的阻隔性無機層。當將金屬或 者半金屬氧化物/氮化物例如SiN作為膜沉積在包含聚酰亞胺的膜上時，不能避免表面皺 褶（例如，粗糙表面）。表面皺褶對于柔性基底或保護膜的應(yīng)用可為嚴重的阻礙。相反，在 根據(jù)實施方式的由通過將極少量的聚苯并#寒唑結(jié)構(gòu)單元引入到聚酰亞胺中而獲得的共聚 物形成的膜上，可沉積金屬或半金屬氧化物/氮化物膜而沒有表面皺褶。
[0208] 在另一實施方式中，制造所述透明膜的方法可包括以下步驟：
[0209] 獲得包括由以下化學式5表示的聚酰胺酸共聚物的組合物，所述聚酰胺酸共聚物 為如下的縮聚產(chǎn)物：由以下化學式2表示的四羧酸二酐化合物，由以下化學式3表示的二胺 化合物，和包括位于胺基團的鄰位的羥基的由以下化學式4表示的羥基二胺化合物；
[0210] 將包括所述聚酰胺酸共聚物的所述組合物涂布在基底上并且將其酰亞胺化以獲 得包括由以下化學式6表示的聚酰亞胺共聚物的膜；和
[0211] 對所述膜進行熱處理以獲得包括包含由以上化學式1表示的重復單元的聚酰亞 胺-聚苯并喝唑共聚物的透明膜：
[0214] 化學式3
[0215] NH2_A3_NH2
[0216] 化學式4
[0217] NH2_A2, _NH2
[0218] 化學式5
[0219]
[0222] 其中在以上化學式中，
[0223] 各&相同或不同，并且獨立地為取代或未取代的四價C6-C24脂族環(huán)基團、取代 或未取代的四價C6-C24芳族環(huán)基團、或者取代或未取代的四價C4-C24雜芳族環(huán)基團，其 中在所述脂族環(huán)基團、所述芳族環(huán)基團、或者所述雜芳族環(huán)基團中，環(huán)是單獨存在的；兩個 或更多個環(huán)彼此稠合以提供稠環(huán)體系；或者兩個或更多個環(huán)通過單鍵、-〇-、-s-、-c(= 0)-、-CH(OH)-、-S( = 0)2_、-Si(CH3)2-、（CH2) P(其中 1 彡 p 彡 10)、（CF2)q(其中 1 < q < 10)、-CR2-(其中R獨立地為氫、C1-C10脂族烴基、C6-C20芳族烴基、或者C6-C20 脂環(huán)族烴基）、-C (CF3) 2_、-C (CF3) (C6H5)-、或者-C ( = 0) NH-連接，
[0224] A2'為選自以下化學式的含羥基的基團，
[0226] 其中在所述化學式中，
[0227] 各L相同或不同，并且獨立地為單鍵、-0_、-S-、-C( = 0)_、-CH(OH)-、-S(= 0)2-、-Si(CH3)2_、（CH2) p (其中 1 彡p 彡 10)、（CF2)q (其中 1 彡 q彡 10)、-CR2_(其中 R 獨立 地為氫、C1-C10脂族烴基、C6-C20芳族烴基、或者C6-C20脂環(huán)族烴基）、-C(CF3)2-、-C(CF 3) (〇^5)-、或者-(：(=0)順-，
[0228] *為所述殘基與相鄰原子連接的點，并且羥基（-OH)位于所述殘基與相鄰原子連 接的點的鄰位，
[0229] 六3為取代或未取代的二價C6-C24脂族環(huán)基團、取代或未取代的二價C6-C24芳 族環(huán)基團、或者取代或未取代的二價C4-C24雜芳族環(huán)基團，其中在所述脂族環(huán)基團、所 述芳族環(huán)基團、或者所述雜芳族環(huán)基團中，環(huán)是單獨存在的；兩個或更多個環(huán)彼此稠合以 提供稠環(huán)體系；或者兩個或更多個環(huán)通過單鍵、-〇_、-S-、_C( = 0)-、-CH(OH)-、-S(= 0)2-、-Si(CH3)2-、（CH2) P (其中 1 彡p 彡 10)、（CF2)q (其中 1 彡 q彡 10)、-CR2_(其中 R 獨立 地為氫、C1-C10脂族烴基、C6-C20芳族烴基、或者C6-C20脂環(huán)族烴基）、-C(CF3)2-、-C(CF 3) (C6H5)-、或者-C ( = 0) NH-連接，
[0230] m和η為表示酰亞胺結(jié)構(gòu)單元和苯并喝唑結(jié)構(gòu)單元的摩爾比率的實數(shù)，條件是η 與m之比（n/m)大于約0且小于約0. 01。
[0231] 由化學式2表示的四羧酸二酐化合物可包括選自如下的一種或多種： 3, 3'，4, 4' -聯(lián)苯四羧酸二酐（BPDA)、雙環(huán)[2. 2. 2]辛-7-烯-2, 3, 5, 6-四羧酸二酐 出丁0厶)、3,3'，4,4'-二苯基砜四羧酸二酐（050厶)、4,4'-(六氟異丙叉）二鄰苯二甲酸 酐（6FDA)、4,4'_氧基二鄰苯二甲酸酐（0DPA)、均苯四甲酸二酐$10^)、4-(2,5-二氧代 四氫呋喃-3-基）-1，2,3,4_四氫萘-1，2-二羧酸酐（DTDA)、1，2,4,5-苯四羧酸二酐； 1，2, 3, 4-苯四羧酸二酐；1，4_二（2, 3-二羧基苯氧基）苯二酐；1，3_二（3, 4-二羧基苯氧 基）苯二酐；1，2, 4, 5-萘四羧酸二酐；1，2, 5, 6-萘四羧酸二酐；1，4, 5, 8-萘四羧酸二酐； 2, 3, 6, 7-萘四羧酸二酐；2, 6-二氯萘-1，4, 5, 8-四羧酸二酐；2, 7-二氯萘-1，4, 5, 8-四 羧酸二酐；2,3,6,7_四氯萘-1，4,5,8-四羧酸二酐；3,3'，4，f -聯(lián)苯四羧酸二酐； 2,2'，3,3'-聯(lián)苯四羧酸二酐；4,4'-二（3, 4-二羧基苯氧基）聯(lián)苯二酐；二（2, 3-二 羧基苯基）醚二酐；4, 4二（2, 3-二羧基苯氧基）二苯基醚二酐；4, 4二（3, 4-二羧 基苯氧基）二苯基醚二酐；二（3, 4-二羧基苯基）硫醚二酐；4, V -二（2, 3-二羧基苯氧 基）二苯基硫醚二酐；4, V -二（3, 4-二羧基苯氧基）二苯基硫醚二酐；二（3, 4-二羧基 苯基）砜二酐；4, 4'-二（2, 3-二羧基苯氧基）二苯基砜二酐；4, 4'-二（3, 4-二羧基 苯氧基）二苯基砜二酐；3, 3'，4, 4'-二苯甲酮四羧酸二酐；2, 2'，3, 3'-二苯甲酮四 羧酸二酐；2, 3,3' V -二苯甲酮四羧酸二酐；4, V -二（3, 4-二羧基苯氧基）二苯甲酮 二酐；二（2, 3-二羧基苯基）甲烷二酐；二（3, 4-二羧基苯基）甲烷二酐；1，1-二（2, 3-二 羧基苯基）乙烷二酐；1，1-二（3, 4-二羧基苯基）乙烷二酐；1，2-二（3, 4-二羧基苯基） 乙烷二酐；2, 2-二（2, 3-二羧基苯基）丙烷二酐；2, 2-二（3, 4-二羧基苯基）丙烷二酐； 2, 2-二[4-(2, 3-二羧基苯氧基）苯基]丙烷二酐；2, 2-二[4-(3, 4-二羧基苯氧基）苯 基]丙烷二酐；2, 2-[4-(2, 3-二駿基苯氧基）-f -(3, 4-二駿基苯氧基）二苯基]-丙烷 二酐；2, 2-二[4-(3, 4-二羧基苯氧基-3, 5-二甲基）苯基]丙烷二酐；2, 3, 4, 5-噻吩四 羧酸二酐；2, 3, 5, 6-吡嗪四羧酸二酐；1，8, 9, 10-菲四羧酸二酐；3, 4, 9, 10-茈四羧酸二 酐；2, 2-二（3, 4-