一種紫外納米壓印的減反射膜的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種紫外納米壓印的減反射膜，包括如下質(zhì)量份數(shù)的組分：高密度聚乙烯25?35份，一氟二氯乙烷10?20份，二甲基硅氧烷35?55份，纖維20?25份，環(huán)氧大豆油15?30份，亞油酸10?20份，聚酯樹脂5?10份，分子篩1?7份，石蠟10?20份，氯化石蠟3?10份，石油磺酸鈣13?25份，硫酸45?65份，癸二酸二丁酯3?10份，十七烷基三甲基氯5?15份等。本發(fā)明通過對聚氨酯及聚乙烯進行改性而得到納米改性材料，該改性材料具有彈性好、吸音、隔熱、耐油、耐高溫、耐寒、耐磨及減震特性，本發(fā)明還具有納米抗菌。
【專利說明】
一種紫外納米壓印的減反射膜
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明屬于納米材料生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種紫外納米壓印的減反射膜。
【背景技術(shù)】
[0002]納米材料是指材料的特征尺寸在100納米(nm)以下的材料。其中碳納米材料包括碳納米管、碳納米角、富勒烯、碳洋蔥球、石墨烯、不定型碳等等由單層或多層碳原子組成的納米結(jié)構(gòu)。微小的物理尺度賦予了納米材料超越傳統(tǒng)材料的許多優(yōu)異性能和廣泛的應(yīng)用。
[0003]聚氨酯和聚乙烯的優(yōu)缺點來看，可結(jié)合其優(yōu)點而克服其缺點來對聚氨酯和聚乙烯進行改性而得到納米改性材料。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]發(fā)明目的:本發(fā)明針對現(xiàn)有技術(shù)中的不足，提出一種紫外納米壓印的減反射膜。
[0005]技術(shù)方案:本發(fā)明所述的一種紫外納米壓印的減反射膜，包括如下質(zhì)量份數(shù)的組分:
[0006]高密度聚乙烯25-35份，一氟二氯乙烷10-20份，二甲基硅氧烷35_55份，纖維20-25份，環(huán)氧大豆油15-30份，亞油酸10-20份，聚酯樹脂5-10份，分子篩1-7份，石蠟10-20份，氯化石蠟3-10份，石油磺酸鈣13-25份，硫酸45-65份，癸二酸二丁酯3-10份，十七烷基三甲基氯5-15份，聚氨酯35-40份，鄰苯二甲酸二辛酯5-10份，活性鎂鈉米功能材料5-24份，秸桿10-15份，添加劑1-3份，抗氧劑0.5-1份，去離子水20-25份。
[0007]進一步的，包括如下質(zhì)量份數(shù)的組分:
[0008]高密度聚乙烯25-30份，一氟二氯乙烷10-15份，二甲基硅氧烷35_45份，纖維20-23份，環(huán)氧大豆油15-25份，亞油酸10-15份，聚酯樹脂5-8份，分子篩1-5份，石蠟10-15份，氯化石蠟3-8份，石油磺酸鈣13-20份，硫酸45-55份，癸二酸二丁酯3_8份，十七烷基三甲基氯5-10份，聚氨酯35-38份，鄰苯二甲酸二辛酯5-8份，活性鎂鈉米功能材料5_20份，秸桿10-12份，添加劑1-2份，抗氧劑0.5-1份，去離子水20-22份。
[0009]進一步的，包括如下質(zhì)量份數(shù)的組分:
[0010]高密度聚乙烯28份，一氟二氯乙烷12份，二甲基硅氧烷40份，纖維22份，環(huán)氧大豆油20份，亞油酸12份，聚酯樹脂6份，分子篩3份，石蠟12份，氯化石蠟5份，石油磺酸鈣15份，硫酸47份，癸二酸二丁酯5份，十七烷基三甲基氯7份，聚氨酯36份，鄰苯二甲酸二辛酯6份，活性鎂鈉米功能材料10份，秸桿11份，添加劑1.5份，抗氧劑0.7份，去離子水21份。
[0011]進一步的，所述纖維包括石棉纖維、植物纖維和動物纖維。
[0012]進一步的，所述添加劑由納米二氧化娃和納米二氧化鈦組成，所述納米二氧化娃與納米二氧化鈦之間的重量百分比為1:1-3。
[0013]有益效果:本發(fā)明通過對聚氨酯及聚乙烯進行改性而得到納米改性材料，該改性材料具有彈性好、吸音、隔熱、耐油、耐高溫、耐寒、耐磨及減震特性，本發(fā)明還具有納米抗菌。
【具體實施方式】
[0014]下面結(jié)合具體實施例對本發(fā)明作進一步說明:
[0015]實施例1
[0016]—種紫外納米壓印的減反射膜，包括如下質(zhì)量份數(shù)的組分:
[0017]高密度聚乙烯25份，一氟二氯乙烷10份，二甲基硅氧烷35份，纖維20份，環(huán)氧大豆油15份，亞油酸10份，聚酯樹脂5份，分子篩I份，石蠟10份，氯化石蠟3份，石油磺酸鈣13份，硫酸45份，癸二酸二丁酯3份，十七烷基三甲基氯5份，聚氨酯35份，鄰苯二甲酸二辛酯5份，活性鎂鈉米功能材料5份，秸桿10份，添加劑I份，抗氧劑0.5份，去離子水20份。
[0018]進一步的，所述纖維包括石棉纖維、植物纖維和動物纖維。
[0019]進一步的，所述添加劑由納米二氧化娃和納米二氧化鈦組成，所述納米二氧化娃與納米二氧化鈦之間的重量百分比為I: I。
[0020]實施例2
[0021]—種紫外納米壓印的減反射膜，包括如下質(zhì)量份數(shù)的組分:
[0022]高密度聚乙烯35份，一氟二氯乙烷20份，二甲基硅氧烷55份，纖維25份，環(huán)氧大豆油30份，亞油酸20份，聚酯樹脂10份，分子篩7份，石蠟20份，氯化石蠟10份，石油磺酸鈣25份，硫酸65份，癸二酸二丁酯10份，十七烷基三甲基氯15份，聚氨酯40份，鄰苯二甲酸二辛酯10份，活性鎂鈉米功能材料24份，稻桿15份，添加劑3份，抗氧劑I份，去離子水25份。
[0023]進一步的，所述纖維包括石棉纖維、植物纖維和動物纖維。
[0024]進一步的，所述添加劑由納米二氧化娃和納米二氧化鈦組成，所述納米二氧化娃與納米二氧化鈦之間的重量百分比為1:3。
[0025]實施例3
[0026]—種紫外納米壓印的減反射膜，包括如下質(zhì)量份數(shù)的組分:
[0027]高密度聚乙烯28份，一氟二氯乙烷12份，二甲基硅氧烷40份，纖維22份，環(huán)氧大豆油20份，亞油酸12份，聚酯樹脂6份，分子篩3份，石蠟12份，氯化石蠟5份，石油磺酸鈣15份，硫酸47份，癸二酸二丁酯5份，十七烷基三甲基氯7份，聚氨酯36份，鄰苯二甲酸二辛酯6份，活性鎂鈉米功能材料10份，秸桿11份，添加劑1.5份，抗氧劑0.7份，去離子水21份。
[0028]進一步的，所述纖維包括石棉纖維、植物纖維和動物纖維。
[0029]進一步的，所述添加劑由納米二氧化娃和納米二氧化鈦組成，所述納米二氧化娃與納米二氧化鈦之間的重量百分比為1:2。
[0030]以上所述，僅是本發(fā)明的較佳實施例而已，并非對本發(fā)明作任何形式上的限制，雖然本發(fā)明已以較佳實施例揭露如上，然而并非用以限定本發(fā)明，任何熟悉本專業(yè)的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明技術(shù)方案范圍內(nèi)，當(dāng)可利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容作出些許更動或修飾為等同變化的等效實施例，但凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實質(zhì)對以上實施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案的范圍內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種紫外納米壓印的減反射膜，其特征在于:包括如下質(zhì)量份數(shù)的組分: 高密度聚乙烯25-35份，一氟二氯乙烷10-20份，二甲基硅氧烷35-55份，纖維20-25份，環(huán)氧大豆油15-30份，亞油酸10-20份，聚酯樹脂5-10份，分子篩1-7份，石蠟10-20份，氯化石蠟3-10份，石油磺酸鈣13-25份，硫酸45-65份，癸二酸二丁酯3-10份，十七烷基三甲基氯5-15份，聚氨酯35-40份，鄰苯二甲酸二辛酯5-10份，活性鎂鈉米功能材料5_24份，秸桿10-15份，添加劑1-3份，抗氧劑0.5-1份，去離子水20-25份。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種紫外納米壓印的減反射膜，其特征在于:包括如下質(zhì)量份數(shù)的組分: 高密度聚乙烯25-30份，一氟二氯乙烷10-15份，二甲基硅氧烷35-45份，纖維20-23份，環(huán)氧大豆油15-25份，亞油酸10-15份，聚酯樹脂5-8份，分子篩1-5份，石蠟10-15份，氯化石蠟3-8份，石油磺酸鈣13-20份，硫酸45-55份，癸二酸二丁酯3_8份，十七烷基三甲基氯5_10份，聚氨酯35-38份，鄰苯二甲酸二辛酯5-8份，活性鎂鈉米功能材料5-20份，秸桿10-12份，添加劑1-2份，抗氧劑0.5-1份，去離子水20-22份。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種紫外納米壓印的減反射膜，其特征在于:包括如下質(zhì)量份數(shù)的組分: 高密度聚乙烯28份，一氟二氯乙烷12份，二甲基硅氧烷40份，纖維22份，環(huán)氧大豆油20份，亞油酸12份，聚酯樹脂6份，分子篩3份，石蠟12份，氯化石蠟5份，石油磺酸鈣15份，硫酸47份，癸二酸二丁酯5份，十七烷基三甲基氯7份，聚氨酯36份，鄰苯二甲酸二辛酯6份，活性鎂鈉米功能材料10份，秸桿11份，添加劑1.5份，抗氧劑0.7份，去離子水21份。4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一一項所述的一種紫外納米壓印的減反射膜，其特征在于:所述纖維包括石棉纖維、植物纖維和動物纖維。5.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一一項所述的一種紫外納米壓印的減反射膜，其特征在于:所述添加劑由納米二氧化硅和納米二氧化鈦組成，所述納米二氧化硅與納米二氧化鈦之間的重量百分比為I: 1_3。
【文檔編號】C08L91/06GK105924935SQ201610429915
【公開日】2016年9月7日
【申請日】2016年6月17日
【發(fā)明人】王晶
【申請人】無錫英普林納米科技有限公司