專利名稱：等離子噴涂吹偏裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及等離子噴槍，特別指具有將等離子噴槍的火焰吹偏的等離子噴涂吹偏裝置。
背景技術：
等離子噴涂是利用等離子火焰將送入的各種粉末熔化從而噴涂在工件上的一種工藝。由于等離子火焰溫度高，常用于噴涂熔點較高的陶瓷涂層。但一直以來無法解決涂層中存在未熔顆粒、噴涂所形成的煙霧對涂層的污染以及工件過熱導致無法連續(xù)噴涂從而影響噴涂效率等問題。

發(fā)明內(nèi)容
本實用新型的目的是針對背景技術中的缺點和不足加以改進，提供一種能夠有效控制未熔顆粒及煙霧污染，提高噴涂涂層質(zhì)量；降低工件溫度，提高噴涂效率的等離子噴涂吹偏裝置。
本實用新型由氣管支架、氣管、噴嘴組成，所述的氣管支架裝置在噴槍上，氣管固設在氣管支架上，噴嘴裝在氣管出氣端并垂直于噴槍的噴射軸線。
所述氣管為彎折成90度的折管，且其出氣端與噴槍的噴射軸線垂直。
本實用新型從圓形氣管通入0.1-1Mpa的壓縮空氣或氬氣，通過矩形噴嘴形成一個垂直于等離子火焰的均勻氣帶，在火焰中那些速度較小的未熔顆粒和煙霧粒子以及部分等離子流焰由于被吹出偏離等離子火焰的前進方向，其夾角a在40-60℃之間使之不能到達工件，而熔化較好的顆粒則按原來方向直接到達工件上形成沒有污染的高質(zhì)量涂層。另外由于氣帶將等離子火焰吹偏，火焰不會直接加熱工件，降低了工件的表面溫度，可以實現(xiàn)連續(xù)噴涂，從而提高了噴涂效率。


附圖1是本實用新型總裝示意圖；附圖2是本實用新型矩形噴嘴立體形狀圖。
具體實施方式
由圖1、2可知，本實用新型由氣管支架1、氣管2、噴嘴12和噴槍3組成，所述的氣管支架1裝置在噴槍3上，氣管2固設在氣管支架上，噴嘴12裝在氣管2出氣端并垂直于噴槍3的噴射軸線。氣管2為彎折成90度的折管，且其出氣端與噴槍3的噴射軸線垂直。噴嘴12與噴槍口之間相隔一定的距離L，L約等于20mm-100mm，噴嘴12與噴槍中心之間相隔一定的高度H，H約等于30mm-80mm。矩形噴嘴12的橫向?qū)挾華比等離子火焰直徑稍大10mm-20mm并與等離子火焰軸線垂直，縱向?qū)挾菳為2mm-6mm。以上的安裝尺寸及矩形噴嘴的尺寸主要與等離子噴槍的功率大小和噴涂工件有關，是一動態(tài)的結構，可以根據(jù)實際需要來確定各具體尺寸。氣管2的直徑(D)由矩形噴嘴12的出口截面積來決定，保證氣管2的截面積與矩形噴嘴12的出口截面積相等。
本實用新型最大的優(yōu)點是結構簡單，只需將噴槍噴出的火焰吹偏一個角度，就可以產(chǎn)生意想不到的效果，本實用新型能生產(chǎn)出高質(zhì)量的涂層，特別適合于高質(zhì)量陶瓷涂層的制備。同時本實用新型能使工件表面溫度大大降低，防止工件過熱，可以實現(xiàn)連續(xù)噴涂，從而提高噴涂效率。
權利要求1.一種等離子噴涂吹偏裝置，其特征在于由氣管支架(1)、氣管(2)、噴嘴(12)組成，所述的氣管支架(1)裝置在噴槍(3)上，氣管(2)固設在氣管支架上，噴嘴(12)裝在氣管(2)出氣端并垂直于噴槍(3)的噴射軸線。
2.根據(jù)權利要求1所述的等離子噴涂吹偏裝置，其特征在于所述氣管(2)為彎折成90度的折管，且其出氣端與噴槍(3)的噴射軸線垂直。
3.根據(jù)權利要求1所述的等離子噴涂吹偏裝置，其特征在于所述噴嘴(12)為矩形。
4.根據(jù)權利要求1或3所述的等離子噴涂吹偏裝置，其特征在于所述的噴嘴(12)與噴槍口之間相隔一定的距離L，噴嘴(12)與噴槍中心之間相隔一定的高度H。
5.根據(jù)權利要求1或3所述的等離子噴涂吹偏裝置，其特征在于所述的矩形噴嘴(12)的橫向?qū)挾華比等離子火焰直徑稍大并與等離子火焰軸線垂直，縱向?qū)挾葹锽。
專利摘要本實用新型涉及一種等離子噴涂吹偏裝置,其特征在于由氣管支架、氣管、噴嘴和噴槍組成,所述的氣管支架設置在噴槍上,氣管固設在氣管支架上,噴嘴裝在氣管出氣端并垂直于噴槍的噴射軸線。本實用新型最大的優(yōu)點是結構簡單,只需將噴槍噴出的火焰吹偏一個角度,就可以產(chǎn)生意想不到的效果,本實用新型能生產(chǎn)出高質(zhì)量的涂層,特別適合于高質(zhì)量陶瓷涂層的制備。同時本實用新型能使工件表面溫度大大降低,防止工件過熱,可以實現(xiàn)連續(xù)噴涂,從而提高噴涂效率。
文檔編號B05B7/22GK2502798SQ0125600
公開日2002年7月31日 申請日期2001年9月27日 優(yōu)先權日2001年9月27日
發(fā)明者劉敏, 朱輝朝, 李福海, 王楓 申請人:廣州有色金屬研究院, 廣州市天河區(qū)金棠表面工程技術有限公司