專利名稱：用于照相平版印刷術(shù)的旋涂玻璃抗反射涂料的制作方法
本申請是2000年10月27日提交的US專利申請序列No.09/698,883和2000年1月26日提交的US專利申請序列No.09/491,166的授權(quán)于Kennedy等人的US專利6,268,457(2001年7月31日)的部分繼續(xù)，在此引入其全部內(nèi)容供參考。
本發(fā)明的領(lǐng)域本發(fā)明一般性涉及旋涂玻璃材料，并且更具體而言涉及在照相平版印刷術(shù)(photolithography)中用作抗反射層的吸光性旋涂玻璃材料，以及生產(chǎn)該材料的方法。
本發(fā)明的背景為了滿足更快速性能的要求，集成電路設(shè)備的器件(feature)的特征尺寸繼續(xù)減少。具有較小器件尺寸的設(shè)備的制造在通常用于半導體制造中的許多工藝中引入了新挑戰(zhàn)。這些制造工藝中的最重要的一個是照相平版印刷術(shù)。
長期以來已經(jīng)認識到，在由照相平版印刷術(shù)形成的圖案中線寬變化能夠由從半導體晶片(semiconductor wafer)上的底涂層上反射出的光的光學干涉所引起。由于底涂層的外形結(jié)構(gòu)所引起的光刻膠(photoresist)厚度的變化也誘導線寬變化。在光刻膠層之下施涂的抗反射涂料(ARC)已經(jīng)用于防止來自輻射光束的反射的干擾。另外，抗反射涂料部分地使晶片外形結(jié)構(gòu)發(fā)生平面化，有助于改進在各步驟中的線寬變化，因為光刻膠厚度是更均勻的。
有機聚合物膜，特別是在通常用于曝光光刻膠的i-線(365nm)和g-線(436nm)波長下和在最近使用的248nm波長下吸收的那些，已經(jīng)用作抗反射涂料。然而，有機ARC與有機光刻膠共享許多化學性質(zhì)的事實能夠限制可使用的工藝順序。此外ARC可與光刻膠層混雜。避免混雜的一個解決方法是引入熱固性粘結(jié)劑作為有機ARC的附加組分，如在例如授權(quán)于Flaim等人的US專利No.5,693,691中所述。染料以及任選的附加添加劑如潤濕劑、粘合促進劑、防腐劑和增塑劑也可引入到有機ARC中，如在授權(quán)于Arnold等人的US專利No.4,910,122中所述。
氧氮化硅是已經(jīng)用作抗反射涂料的另一種材料。然而，氧氮化硅由破壞性干涉過程而不是由吸收來用作ARC，這意味著氧氮化物厚度的特別精密控制是必需的并且該材料在高度可變的外形結(jié)構(gòu)上不如ARC好。此外，氧氮化硅典型地由化學蒸汽沉積法沉積，而光刻膠層典型地使用旋涂器來施涂。附加的化學蒸汽沉積過程增加了加工復雜性。
能夠用作抗反射層的另一類材料是含有染料的旋涂玻璃(spin-on-glass，SOG)組合物。Yau等人的US專利No.4,587,138公開了以大約1wt％的量與旋涂玻璃混合的染料如堿性黃#11。Allman等人的US專利No.5,100,503公開了含有無機染料如TiO2、Cr2O7、MoO4、MnO4或ScO4和粘合促進劑的交聯(lián)的聚硅氧烷。Allman另外教導，旋涂玻璃組合物也用作平面化層。然而，迄今公開的旋涂玻璃、染料結(jié)合物對暴露于越來越多地用于生產(chǎn)具有小器件尺寸的設(shè)備的深紫外尤其是248和193nm光源不是最佳的。此外，并不是所有的染料都能夠容易地引入到任意的旋涂玻璃組合物中。
因此，在紫外光譜區(qū)中強烈且均勻地吸收的吸收性旋涂玻璃抗反射涂料和平版印刷材料以及生產(chǎn)旋涂玻璃抗反射涂料的方法都是令人向往的。還希望ARC層不受光刻膠顯影劑的影響。
本發(fā)明概述用于深紫外照相平版印刷術(shù)的抗反射涂料包括被引入到旋涂玻璃(SOG)材料中的一種或多種有機吸收性化合物。該旋涂玻璃材料包括硅型化合物，如甲基硅氧烷，甲基硅倍半氧烷，苯基硅氧烷，苯基硅倍半氧烷，甲基苯基硅氧烷，甲基苯基硅倍半氧烷，硅酸鹽聚合物和它們的混合物。這里使用的已知為“旋涂玻璃材料”的物質(zhì)組還包括硅氧烷聚合物，通式(H0-1.0SiO1.5-2.0)x的氫硅氧烷聚合物和具有通式(HSiO1.5)x的氫硅倍半氧烷聚合物，其中x大于約四。也包括的是氫硅倍半氧烷和烷氧基氫基硅氧烷或羥基氫基硅氧烷的共聚物。旋涂玻璃材料另外包括通式(H0-1.0SiO1.5-2.0)n(R0-1.0SiO1.5-2.0)m的有機氫基硅氧烷聚合物和通式(HSiO1.5)n(RSiO1.5)m的有機氫基硅倍半氧烷聚合物，其中m大于零并且n和m的總和大于約四，R是烷基或芳基。
適合引入到旋涂玻璃材料中的吸收性化合物在低于375nm或低于約260nm的波長下強烈吸收。尤其，合適的吸收性化合物將吸收在例如248nm、193nm、157nm波長左右或在可用于照相平版印刷術(shù)中的其它紫外線波長如365nm下的光。合適的化合物的發(fā)色團典型地具有至少一個苯環(huán)，并且在有兩個或更多個苯環(huán)的那些情況下，這些環(huán)可以是或不是稠合的。可引入的吸收性化合物具有連接于發(fā)色團上的可使用的反應活性基團，其中該反應活性基團能夠包括羥基、胺基、羧酸基團，以及其中硅鍵接于一個、兩個或三個烷氧基或鹵素原子取代基上的取代甲硅烷基。反應活性基團可以直接鍵接到該發(fā)色團上或反應活性基團可以經(jīng)由烴橋基或氧鍵而鍵接于發(fā)色團上。該發(fā)色團也可包括與用于配制旋涂玻璃材料的那些類似的硅型化合物或聚合物。
合適的可引入的有機吸收性化合物的例子包括具有一個苯環(huán)的那些化合物，如苯基三烷氧基硅烷(苯基三乙氧基硅烷，苯基三甲氧基硅烷，苯基三丙氧基硅烷)；具有兩個或更多個未稠合苯環(huán)的那些化合物，如2-羥基-4-(3-三烷氧基甲硅烷基丙氧基)-二苯基酮，3-羥基-4-(3-三烷氧基甲硅烷基丙氧基)-二苯基酮，玫紅酸，4-苯基偶氮苯酚和4-烷氧基苯基偶氮苯-4-羧基烷基三乙氧基甲硅烷，櫻草靈；和具有兩個或更多個稠合苯環(huán)的那些化合物，如三烷氧基甲硅烷基丙基-1，8-萘二甲酰亞胺，2，6-二羥蒽醌，茜素，醌茜，9-蒽羧基烷基三乙氧基硅烷(9-蒽羧基甲基三乙氧基硅烷，9-蒽羧基乙基三乙氧基硅烷，9-蒽羧基丁基三乙氧基硅烷，9-蒽羧基丙基三乙氧基硅烷，9-蒽羧基戊基三乙氧基硅烷)，9-蒽甲酸，9-蒽甲醇和它們的混合物。
根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，提供了合成吸收性旋涂玻璃組合物的方法。旋涂玻璃材料通常是從硅烷和硅型反應物如三乙氧基硅烷，四乙氧基硅烷，甲基三乙氧基硅烷，二甲基二乙氧基硅烷，四甲氧基硅烷，甲基三甲氧基硅烷，三甲氧基硅烷，二甲基二甲氧基硅烷，苯基三乙氧基硅烷，苯基三甲氧基硅烷，二苯基二乙氧基硅烷和二苯基二甲氧基硅烷合成的。鹵硅烷，特別是氯硅烷，例如三氯硅烷，甲基三氯硅烷，乙基三氯硅烷，苯基三氯硅烷，四氯硅烷，二氯甲硅烷，甲基二氯硅烷，二甲基二氯硅烷，氯三乙氧基硅烷，氯三甲氧基硅烷，氯甲基三乙氧基硅烷，氯乙基三乙氧基硅烷，氯苯基三乙氧基硅烷，氯甲基三甲氧基硅烷，氯乙基三甲氧基硅烷和氯苯基三甲氧基硅烷也被用作硅烷反應物。
制造吸收性旋涂玻璃組合物的方法包括混合一種或多種烷氧基硅烷、或一種或多種鹵硅烷一種或多種可引入的有機吸收性化合物酸/水混合物如硝酸/水混合物以及一種或多種溶劑而形成反應混合物；并讓反應混合物回流而形成吸收性旋涂玻璃組合物。如此形成的旋涂玻璃組合物用一種或多種溶劑稀釋，提供涂料溶液，后者可獲得各種厚度的膜。也提供了制造吸收性旋涂玻璃組合物的替換方法，包括使用鹵硅烷和相轉(zhuǎn)移催化劑的方法。
在本發(fā)明的又一個方面，生產(chǎn)吸收性旋涂組合物，它包括硅型化合物和強烈地吸收在低于約375nm的波長下的光的可引入的有機吸收性化合物。進一步提供的是吸收性旋涂旋組合物，其中所述硅型化合物或可引入的有機吸收性化合物中的至少一種包括至少一個烷基、烷氧基、酮基或偶氮基。
根據(jù)本發(fā)明的又一個方面，提供了包括9-蒽羧基烷基三烷氧基硅烷的化學類型的吸收性化合物。合成9-蒽羧基烷基三烷氧基硅烷中的任何一種的方法包括混合9-蒽甲酸、氯烷基三烷氧基硅烷、三乙胺和溶劑而形成反應混合物；回流該反應混合物；冷卻該回流的反應混合物而形成沉淀物和剩余的溶液；并過濾該剩余溶液，生產(chǎn)出液體9-蒽羧基烷基三烷氧基硅烷。
附圖簡述

圖1a-1f顯示了被引入到旋涂玻璃組合物中的吸收性化合物的化學式。
圖2a-2h說明了吸收性旋涂玻璃組合物在照相平版印刷過程中用作抗反射涂層的用途。
詳細說明用于深紫外照相平版印刷術(shù)的抗反射涂料包括被引入到旋涂玻璃(SOG)材料中的至少一種有機吸收性化合物。該吸收性旋涂玻璃組合物溶于合適的溶劑中以形成涂料溶液并在制造半導體器件中施涂于材料的各層上。該吸收性旋涂玻璃抗反射涂料經(jīng)過設(shè)計而易于結(jié)合到現(xiàn)有的半導體制造工藝中。促進結(jié)合的一些性能包括a)耐顯影劑性，b)在標準光刻膠加工中的熱穩(wěn)定性，和c)對于底涂層的選擇性除去。
所考慮的旋涂玻璃材料包括硅型化合物，如甲基硅氧烷，甲基硅倍半氧烷，苯基硅氧烷，苯基硅倍半氧烷，甲基苯基硅氧烷，甲基苯基硅倍半氧烷，硅氮烷聚合物，硅酸鹽聚合物和它們的混合物。所考慮的硅氮烷聚合物是全氫硅氮烷，它具有連接了發(fā)色團的“透明”聚合物骨架。這里使用的短語“旋涂玻璃材料”也包括硅氧烷聚合物和嵌段聚合物，通式(H0-1.0SiO1.5-2.0)x的氫硅氧烷聚合物和具有通式(HSiO1.5)x的氫硅倍半氧烷聚合物，其中x大于約四。也包括的是氫硅倍半氧烷和烷氧基氫基硅氧烷或羥基氫基硅氧烷的共聚物。旋涂玻璃材料另外包括通式(H0-1.0SiO1.5-2.0)n(R0-1.0SiO1.5-2.0)m的有機氫基硅氧烷聚合物和通式(HSiO1.5)n(RSiO1.5)m的有機氫基硅倍半氧烷聚合物，其中m大于零并且n和m的總和大于約四，R是烷基或芳基。一些有用的有機氫基硅氧烷聚合物的n和m的總和為大約四到約5000，其中R是C1-C20烷基或C6-C12芳基。該有機氫基硅氧烷和有機氫基硅倍半氧烷聚合物另外被表示為旋涂聚合物(spin-on-polymers)。一些特定的例子包括烷基氫基硅氧烷，比如甲基氫基硅氧烷，乙基氫基硅氧烷，丙基氫基硅氧烷，叔丁基氫基硅氧烷，苯基氫基硅氧烷；和烷基氫基硅倍半氧烷，如甲基氫基硅倍半氧烷，乙基氫基硅倍半氧烷，丙基氫基硅倍半氧烷，叔丁基氫基硅倍半氧烷，苯基氫基硅倍半氧烷，和它們的結(jié)合物。
許多萘-和蒽-型化合物在248nm和更短的波長下具有顯著的吸收。苯型(在這里同等地稱為苯基型)，化合物在短于200nm的波長下具有顯著的吸收。盡管這些萘-、蒽-和苯基-型化合物常常被稱為染料，但這里使用術(shù)語吸收性化合物，因為這些化合物的吸收不局限于在可見光譜區(qū)中的波長。然而，不是全部的此類吸收性化合物均能夠引入到用作ARC材料的旋涂玻璃中。本發(fā)明適合使用的吸收性化合物將吸收在一定波長范圍中的光，該范圍以波長如248nm、193nm或用于照相平版印刷術(shù)中的其它紫外線波長如365nm為中心。
合適的吸收性化合物的發(fā)色團典型地具有至少一個苯環(huán)，在有兩個或更多個苯環(huán)的情況下，這些環(huán)可以是或不是稠合的?？梢氲奈招曰衔锞哂羞B接于發(fā)色團上的可使用的反應活性基團，其中該反應活性基團包括羥基、胺基、羧酸基團以及其中硅鍵接于一個、兩個或三個“離去基團”如烷氧基或鹵素原子上的取代甲硅烷基。乙氧基或甲氧基或氯原子常常被用作離去基團。包括這些常常使用的離去基團的反應活性基團包括硅烷氧基、硅二烷氧基和硅三烷氧基化合物，如硅乙氧基，硅二乙氧基，硅三乙氧基，硅甲氧基，硅二甲氧基，硅三甲氧基，氯甲硅烷基，二氯甲硅烷基和三氯甲硅烷基基團。反應活性基團可以直接鍵接于發(fā)色團上，如例如在苯基三乙氧基硅烷上，或反應活性基團可以經(jīng)由氧鍵或烴橋連基連接于發(fā)色團上，如例如在9-蒽羧基烷基三乙氧基甲硅烷上。已經(jīng)發(fā)現(xiàn)例如在發(fā)色團上包含硅三烷氧基是有利的，尤其對促進吸收性SOG膜的穩(wěn)定性有利。其它有用的吸收性化合物是含有偶氮基、-N＝N-和可使用的反應活性基團的那些，特別是含有連接苯環(huán)的偶氮基的那些，尤其當在365nm左右的吸收是具體應用所需要的。
在吸收性旋涂玻璃組合物或材料中，吸收性化合物可以有空隙地(interstitially)引入到旋涂玻璃基質(zhì)中?；蛘呶招曰衔锬軌蛞曰瘜W鍵連接于旋涂玻璃聚合物。在一些所考慮的實施方案中，可引入的吸收性化合物經(jīng)由可使用的反應活性基團與旋涂玻璃聚合物骨架形成鍵。
在一些所考慮的實施方案中，吸收性旋涂組合物包括硅-型化合物和可引入的有機吸收性化合物，后者吸收在低于約375nm的波長下的光。在其它所考慮的實施方案中，吸收性旋涂組合物吸收在大于2nm的波長范圍中的光。在再其它所考慮的實施方案中，吸收性旋涂組合物吸收在大于10nm的波長范圍中的光。
此外，硅-型化合物或可引入的有機吸收性化合物中的至少一種包括至少一個烷基、烷氧基、酮基或偶氮基。
本發(fā)明適合使用的吸收性化合物的例子包括2，6-二羥蒽醌(1)，9-蒽甲酸(2)，9-蒽甲醇(3)，9-蒽乙醇(4)，9-蒽丙醇(5)，9-蒽丁醇(6)，茜素(7)，醌茜(8)，櫻草靈(9)，2-羥基-4-(3-三乙氧基甲硅烷基丙氧基)-二苯基酮(10)，2-羥基-4-(3-三甲氧基甲硅烷基丙氧基)-二苯基酮(11)，2-羥基-4-(3-三丁氧基甲硅烷基丙氧基)-二苯基酮(12)，2-羥基-4-(3-三丙氧基甲硅烷基丙氧基)-二苯基酮(13)，玫紅酸(14)，三乙氧基甲硅烷基丙基-1，8-萘二甲酰亞胺(15)，三甲氧基甲硅烷基丙基-1，8-萘二甲酰亞胺(16)，三丙氧基甲硅烷基丙基-1，8-萘二甲酰亞胺(17)，9-蒽羧基-甲基三乙氧基硅烷(18)，9-蒽羧基-乙基三乙氧基硅烷(19)，9-蒽羧基-丁基三乙氧基硅烷(20)，9-蒽羧基-丙基三乙氧基硅烷(21)，9-蒽羧基-甲基三甲氧基硅烷(22)，9-蒽羧基-乙基三丁氧基硅烷(23)，9-蒽羧基-甲基三丙氧基硅烷(24)，9-蒽羧基-丙基三甲氧基硅烷(25)，苯基三乙氧基硅烷(26)，苯基三甲氧基硅烷(27)，苯基三丙氧基硅烷(28)，4-苯基偶氮苯酚(29)，4-乙氧基苯基偶氮苯-4-羧基-甲基三乙氧基硅烷(30)，4-甲氧基苯基偶氮苯-4-羧基-乙基三乙氧基硅烷(31)，4-乙氧基苯基偶氮苯-4-羧基-丙基三乙氧基硅烷(32)，4-丁氧基苯基偶氮苯-4-羧基-丙基三乙氧基硅烷(33)，4-甲氧基苯基偶氮苯-4-羧基-甲基三乙氧基硅烷(34)，4-乙氧基苯基偶氮苯-4-羧基-甲基三乙氧基硅烷(35)，4-甲氧基苯基偶氮苯-4-羧基-乙基三乙氧基硅烷(36)，4-甲氧基苯基偶氮苯-4-羧基-丙基三乙氧基硅烷(37)，和它們的結(jié)合物。吸收性化合物1-37的化學式在圖1a-1f中給出。例如用9-蒽羧基-甲基三乙氧基硅烷(18)，用9-蒽甲醇(3)、2-羥基-4-(3-三乙氧基甲硅烷基丙氧基)-二苯基酮(10)和玫紅酸(14)的結(jié)合物，以及用苯基三乙氧基硅烷(26)已經(jīng)獲得有利的結(jié)果。然而，應該認識到，此處所列舉的特定化合物并不是窮舉，所考慮和優(yōu)選的化合物可以選自包括這些特定化合物的化合物種類。
大多數(shù)這類吸收性化合物是可以商購的，例如，從AldrichChemical Company(Milwaukee，WI)商購。9-蒽羧基-烷基三烷氧基硅烷通過使用酯化方法來合成，該方法在下面馬上將進行描述。除了以上的吸收性化合物外，苯基-型吸收性化合物的例子包括烷氧基苯甲酸化合物，如甲氧基苯甲酸；有硅-型反應活性基團連接于苯基環(huán)或連接于取代的苯基，如甲基苯基、氯苯基和氯甲基苯基上的結(jié)構(gòu)。特定的苯基-型吸收性化合物包括苯基三甲氧基硅烷，芐基三氯硅烷，氯甲基苯基三甲氧基硅烷，苯基三氟硅烷，僅僅舉幾個例子。包括一個或兩個“離去基團”的二苯基硅烷，如二苯基甲基乙氧基硅烷、二苯基二乙氧基硅烷和二苯基二氯硅烷，再次僅僅舉幾個例子，也是合適的可引入的吸收性化合物。
合成9-蒽羧基-烷基三烷氧基硅烷化合物的一般方法包括使用9-蒽甲酸和氯甲基三烷氧基硅烷化合物作為反應物。具體而言，合成9-蒽羧基-甲基三乙氧基硅烷(18)的方法使用9-蒽甲酸(2)和氯甲基三乙氧基硅烷作為反應物。該反應物與預先經(jīng)4分子篩干燥的三乙胺和甲基異丁基酮(MIBK)結(jié)合，形成反應混合物，加熱反應混合物到回流并回流大約6到10小時。在回流后，反應混合物冷卻一夜而形成大量的固體沉淀物。該剩余溶液進行旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)，經(jīng)硅膠柱過濾，并第二次旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)，得到深琥珀色油狀液體形式的9-蒽羧基-甲基三乙氧基硅烷(18)，它可以提純。這一方法是重要的，因為它適于用于生產(chǎn)在9-蒽羧基-烷基三烷氧基硅烷類型中的任何化合物，其中包括9-蒽羧基-乙基三乙氧基硅烷(TESAC)、9-蒽羧基-丙基三甲氧基硅烷和9-蒽羧基-丙基三乙氧基硅烷(ACTEP)。
根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，提供了合成吸收性旋涂玻璃組合物的方法。旋涂玻璃材料典型地從各種硅烷反應物合成，硅烷反應物包括例如三乙氧基硅烷(HTEOS)，四乙氧基硅烷(TEOS)，甲基三乙氧基硅烷(MTEOS)，二甲基二乙氧基硅烷，四甲氧基硅烷(TMOS)，甲基三甲氧基硅烷(MTMOS)，三甲氧基硅烷，二甲基二甲氧基硅烷，苯基三乙氧基硅烷(PTEOS)，苯基三甲氧基硅烷(PTMOS)，二苯基二乙氧基硅烷和二苯基二甲氧基硅烷。鹵硅烷，包括氯硅烷類在內(nèi)，如三氯硅烷，甲基三氯硅烷，乙基三氯硅烷，苯基三氯硅烷，四氯硅烷，二氯甲硅烷，甲基二氯硅烷，二甲基二氯硅烷，氯三乙氧基硅烷，氯三甲氧基硅烷，氯甲基三乙氧基硅烷，氯乙基三乙氧基硅烷，氯苯基三乙氧基硅烷，氯甲基三甲氧基硅烷，氯乙基三甲氧基硅烷和氯苯基三甲氧基硅烷也被用作硅烷反應物。為了生產(chǎn)吸收性旋涂玻璃組合物，吸收性化合物，如吸收性化合物1-37，或它們的結(jié)合物，與硅烷反應物在SOG材料的合成過程中相結(jié)合。
在第一種方法中，在反應容器中形成反應混合物，它包括硅烷反應物，例如HTEOS，或TEOS和MTEOS，或TMOS和MTMOS；或另外的四氯硅烷和甲基三氯硅烷，一種或多種吸收性化合物，如吸收性化合物1-37；溶劑或溶劑的結(jié)合物；以及酸/水混合物。合適的溶劑包括丙酮，2-丙醇和其它簡單的醇、酮和酯類，如1-丙醇，MIBK，丙氧基丙醇和乙酸丙基酯。該酸/水混合物是，例如硝酸和水。其它質(zhì)子酸或酸酐，如乙酸，甲酸，磷酸，鹽酸或乙酸酐另外被用于酸混合物中。所獲得的混合物回流大約1至24小時，生產(chǎn)吸收性SOG聚合物溶液。
吸收性SOG能夠用合適的溶劑稀釋而獲得涂料溶液，后者能夠獲得各種厚度的膜。合適的稀釋溶劑包括丙酮，2-丙醇，乙醇，丁醇，甲醇，乙酸丙酯，乳酸乙酯和丙二醇丙醚，商業(yè)上稱作Propasol-P。已經(jīng)發(fā)現(xiàn)具有高沸點的稀釋溶劑如乳酸乙酯和丙二醇丙醚是有益的。據(jù)認為高沸點溶劑可減少泡膜缺陷形成的可能性。相反，較低沸點的溶劑會夾含在膜的交聯(lián)的頂層之下并隨后當在烘烤工藝步驟中驅(qū)除時會產(chǎn)生空隙。用于本發(fā)明中的附加溶劑包括乙二醇二甲醚，另外稱作甘醇二甲醚，苯甲醚，二丁醚，二丙醚，丙二醇單甲醚乙酸酯和戊醇。任選地，表面活性劑，如由3M(Minneapolis，MN)提供的產(chǎn)品FC430，或由DIC(日本)提供的產(chǎn)品Megaface R08，也被添加到涂料溶液中。涂料溶液典型地為約0.5-20wt％聚合物的溶液。在使用前，涂料溶液通過標準過濾技術(shù)來過濾。
根據(jù)形成吸收性SOG材料的第二種方法，在反應容器中形成反應混合物，它包括硅烷反應物，一種或多種吸收性化合物，如吸收性化合物1-37，和溶劑或溶劑的結(jié)合物。反應混合物被加熱至回流并回流大約1至24小時。該硅烷反應物和溶劑與在以上第一種方法中所述的一樣。如上所述的酸/水混合物，在攪拌下被加入到反應混合物中。所獲得的混合物被加熱至回流并回流大約1至24小時，生產(chǎn)吸收性SOG聚合物。吸收性SOG如以上所述被稀釋和過濾以形成涂料溶液。
形成吸收性有機氫基硅氧烷材料的方法包括形成雙相溶劑的混合物，它包括非極性溶劑和極性溶劑及相轉(zhuǎn)移催化劑；添加一種或多種有機三鹵硅烷、氫基三鹵硅烷和一種或多種吸收性化合物，如吸收性化合物1-37，以得到雙相反應混合物；以及讓雙相反應混合物反應1至24小時，而生產(chǎn)吸收性有機氫基硅氧烷聚合物。相轉(zhuǎn)移催化劑包括但不限于四丁基氯化銨和芐基三甲基氯化銨。舉例的非極性溶劑包括但不限于戊烷，己烷，庚烷，環(huán)己烷，苯，甲苯，二甲苯，鹵化溶劑如四氯化碳和它們的混合物。有用的極性溶劑包括水，醇，以及醇和水混合物。該吸收性聚合物溶液如以上所述被稀釋和過濾以形成涂料溶液。
吸收性SOG涂料溶液一般通過普通的旋涂沉積技術(shù)被施涂于在半導體加工中的各層上，這取決于特定的制造工藝。這些技術(shù)包括分配旋涂，厚度旋涂和熱烘烤步驟，以生產(chǎn)吸收性SOG抗反射涂料。典型工藝包括在1000至4000rpm進行厚度旋涂約20秒，及在80℃至300℃下的兩個或三個烘烤步驟，各自約1分鐘。根據(jù)本發(fā)明的吸收性SOG抗反射涂料顯示出約1.3至約2.0的折射率和大于0.07的消光系數(shù)。正如在下面的實施例部分中所報道，已經(jīng)獲得了大于0.4的消光系數(shù)。相反，介電材料如二氧化硅、硅酸鹽和甲基硅氧烷的消光系數(shù)在大于190nm下的波長下約為零。
使用根據(jù)本發(fā)明的吸收性旋涂玻璃材料作為在照相制版工藝中的抗反射涂料的一般方法在圖2a-2h中進行說明。如圖2a中所示，電介質(zhì)層22沉積在硅基片20上。電介質(zhì)層22能夠由各種介電材料組成，其中包括例如從TEOS形成的二氧化硅層，硅烷型二氧化硅層，熱生長的氧化物，或化學蒸汽沉積生產(chǎn)的甲基氫基硅氧烷或引入了其它元素或化合物的二氧化硅。電介質(zhì)層22典型地是光學透明介質(zhì)。吸收性SOG抗反射涂料層24被施涂在被普通的正性光刻膠的光刻膠層26所覆蓋的電介質(zhì)層22(圖2b)上，生產(chǎn)在圖2c中所示的堆疊體。圖2c的堆疊體經(jīng)掩模30曝露于紫外線輻射32，如圖2d中所示。在該曝露過程中，吸收性SOG ARC層24吸收透過光刻膠的UV光32。因為電介質(zhì)層22在UV波長范圍中是透明的，如果吸收性SOG ARC層24不存在，則UV光32將從底下的硅層20上反射出來而降低臨界尺寸，例如曝光的光刻膠的臨界尺寸27。在這一實施例中，采用正性光刻膠，它提供直接的圖像轉(zhuǎn)移。
曝光的堆疊體經(jīng)過顯影而生產(chǎn)圖2e的堆疊體。吸收性SOG ARC層24耐普通的光刻膠顯影劑溶液，如2.5％的四甲基氫氧化銨(TMAH)溶液。相反，有機ARC層，它具有光刻膠材料的一些化學特性，是對光刻膠顯影劑更敏感的。此外，可以預料吸收性SOG ARC層耐還原性化學氣體型光刻膠抽提過程，而有機ARC沒有耐受性。因此，吸收性SOG層的使用會促進光刻膠重新發(fā)揮作用，無需再施涂ARC層。
接下來，通過在光刻膠層26中的開孔在吸收性SOG ARC層24中刻蝕圖案以生產(chǎn)圖2f的刻蝕堆疊體。對光刻膠有高選擇性的碳氟化合物刻蝕用于刻蝕吸收性SOG ARC層24。吸收性SOG對碳氟化合物刻蝕的響應提供了與需要氧等離子體刻蝕的有機ARC層相比的吸收性SOG的附加優(yōu)點。氧等離子體刻蝕能夠降低被顯影光刻膠的臨界尺寸，因為光刻膠是有機型的，也被氧等離子體刻蝕。碳氟化合物等離子體比氧等離子體消耗更少的光刻膠。在更短UV波長下，聚焦深度要求將限制在曝光步驟中光刻膠層26的厚度，如圖2d中所示。例如，可以估計在193nm下，光刻膠層的厚度應該是大約300nm。因此，當這些短波長開始使用時，重要的是具有ARC層，它能夠?qū)τ诠饪棠z有選擇地刻蝕。
碳氟化合物刻蝕繼續(xù)進行穿過電介質(zhì)層22，得到圖2g的堆疊體。在繼續(xù)的刻蝕過程中光刻膠層26部分被消耗。最后，光刻膠層26通過使用氧等離子體或氫氣還原化學或濕法化學來抽提，而SOG ARC層24通過使用緩沖的氧化物刻蝕，例如標準氫氟酸/水混合物，或含水或無水的有機胺或含水或無水的氟型化學過程來抽提。有利的是SOG ARC層能夠用溶液來抽提，該溶液顯示出對底下的電介質(zhì)層的良好選擇性。因此，在圖2a-2h中顯示的一般照相平版印刷方法說明了吸收性SOG材料作為抗反射涂料層和作為犧牲的抗反射涂料層的工藝優(yōu)點。
實施例合成吸收性SOG材料的方法以及吸收性化合物，如9-蒽羧基-烷基三烷氧基硅烷即更具體而言的9-蒽羧基-乙基三乙氧基硅烷和9-蒽羧基-丙基三乙氧基硅烷的合成在下面的實施例中進行說明。
實施例1含有9-蒽羧基-甲基三乙氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升的燒瓶中，297克2-丙醇，148克丙酮，123克TEOS，77克MTEOS，60克9-蒽羧基-甲基三乙氧基硅烷，0.6克0.1M硝酸和72克去離子水被混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加115克丁醇，488克2-丙醇，245克丙酮，329克乙醇，53克去離子水和3.8克10％的FC 430(3M，Minneapolis，MN)。溶液被過濾。溶液被分配，隨后進行3000rpm厚度旋涂達20秒，并在80℃和180℃下烘烤各1分鐘。光學性質(zhì)用N & K Technology Model 1200分析儀測量。膜厚度是1635埃。在248nm下，折射率(n)是1.373，消光系數(shù)(k)是0.268。然而，應該認識到，在這一實施例中的更高純度的起始原料和吸收性化合物，如9-蒽羧基-甲基三乙氧基硅烷，將得到更高的消光系數(shù)。相同的旋涂和烘烤工藝參數(shù)和測量技術(shù)用于全部下列實施例中。
含有9-蒽羧基-乙基三乙氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升的燒瓶中，297克2-丙醇，148克丙酮，123克TEOS，77克MTEOS，60克9-蒽羧基-乙基三乙氧基硅烷，0.6克0.1M硝酸和72克去離子水被混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加115克丁醇，488克2-丙醇，245克丙酮，329克乙醇，53克去離子水和3.8克10％的FC 430(3M，Minneapolis，MN)。溶液被過濾。溶液被分配，隨后進行3000rpm厚度旋涂達20秒，并在80℃和180℃下烘烤各1分鐘。光學性質(zhì)用N & K Technology Model 1200分析儀測量。
含有9-蒽羧基-乙基三甲氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升的燒瓶中，297克2-丙醇，148克丙酮，123克TEOS，77克MTEOS，60克9-蒽羧基-乙基三甲氧基硅烷，0.6克0.1M硝酸和72克去離子水被混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加115克丁醇，488克2-丙醇，245克丙酮，329克乙醇，53克去離子水和3.8克10％的FC 430(3M，Minneapolis，MN)。溶液被過濾。溶液被分配，隨后進行3000rpm厚度旋涂達20秒，并在80℃和180℃下烘烤各1分鐘。光學性質(zhì)用N & K Technology Model 1200分析儀測量。
含有9-蒽羧基-丙基三乙氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升的燒瓶中，178克2-丙醇，89克丙酮，52克TEOS，59克MTEOS，29克9-蒽羧基-丙基三乙氧基硅烷，3.3克0.1M硝酸和40克去離子水被混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加26克丁醇，488克2-丙醇，245克丙酮，329克乙醇，53克去離子水和3.8克10％的FC 430(3M，Minneapolis，MN)。溶液被過濾。溶液被分配，隨后進行3000rpm厚度旋涂達20秒，并在80℃和180℃下烘烤各1分鐘。光學性質(zhì)用N & K Technology Model 1200分析儀測量。厚度是1487.1埃；k＝0.4315；n＝1.4986。
含有9-蒽羧基-丙基三乙氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升的燒瓶中，178克2-丙醇，89克丙酮，49克TEOS，55克MTEOS，48克9-蒽羧基-丙基三乙氧基硅烷，3.3克0.1M硝酸和40克去離子水被混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加26克丁醇，488克2-丙醇，245克丙酮，329克乙醇，53克去離子水和3.8克10％的FC 430(3M，Minneapolis，MN)。溶液被過濾。溶液被分配，隨后進行3000rpm厚度旋涂達20秒，并在80℃和180℃下烘烤各1分鐘。光學性質(zhì)用N & K Technology Model 1200分析儀測量。厚度是534.45埃；k＝0.45；n＝1.49。
含有9-蒽羧基-丙基三乙氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升的燒瓶中，178克2-丙醇，89克丙酮，13克TEOS，110克MTEOS，13克9-蒽羧基-丙基三乙氧基硅烷，3.3克0.1M硝酸和40克去離子水被混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加26克丁醇，488克2-丙醇，245克丙酮，329克乙醇，53克去離子水和3.8克10％的FC 430(3M，Minneapolis，MN)。溶液被過濾。溶液被分配，隨后進行3000rpm厚度旋涂達20秒，并在80℃和180℃下烘烤各1分鐘。光學性質(zhì)用N & K Technology Model 1200分析儀測量。厚度是414.17埃；k＝0.3551；n＝1.5079。
含有9-蒽羧基-丙基三乙氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升的燒瓶中，178克2-丙醇，89克丙酮，96克TEOS，15克MTEOS，13克9-蒽羧基-丙基三乙氧基硅烷，3.3克0.1M硝酸和40克去離子水被混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加15克丁醇，488克2-丙醇，245克丙酮，329克乙醇，53克去離子水和3.8克10％的FC430(3M，Minneapolis，MN)。溶液被過濾。溶液被分配，隨后進行3000rpm厚度旋涂達20秒，并在80℃和180℃下烘烤各1分鐘。光學性質(zhì)用N & K Technology Model 1200分析儀測量。厚度是494.77埃；k＝0.3354；n＝1.5243。
含有9-蒽羧基-丙基三乙氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升的燒瓶中，178克2-丙醇，89克丙酮，56克TEOS，64克MTEOS，7.63克9-蒽羧基-丙基三乙氧基硅烷，3.3克0.1M硝酸和40克去離子水被混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加26克丁醇，488克2-丙醇，245克丙酮，329克乙醇，53克去離子水和3.8克10％的FC430(3M，Minneapolis，MN)。溶液被過濾。溶液被分配，隨后進行3000rpm厚度旋涂達20秒，并在80℃和180℃下烘烤各1分鐘。光學性質(zhì)用N & K Technology Model 1200分析儀測量。厚度是3629.76埃；k＝0.3559；n＝1.4508。第二種厚度＝1377.37埃；k＝0.358；n＝2.643，然而，n值可以根據(jù)起始組分和反應物的厚度和純度來變化。
含有9-蒽羧基-丙基三乙氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升的燒瓶中，178克2-丙醇，89克丙酮，86克TEOS，25克MTEOS，12.1克9-蒽羧基-丙基三乙氧基硅烷，3.3克0.1M硝酸和40克去離子水被混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加26克丁醇，488克2-丙醇，245克丙酮，329克乙醇，53克去離子水和3.8克10％的FC 430(3M，Minneapolis，MN)。溶液被過濾。溶液被分配，隨后進行3000rpm厚度旋涂達20秒，并在80℃和180℃下烘烤各1分鐘。光學性質(zhì)用N & K Technology Model 1200分析儀測量。厚度是1455.93埃；k＝0.339；n＝1.5895。
含有9-蒽羧基-丙基三乙氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升的燒瓶中，178克2-丙醇，89克丙酮，21克TEOS，101克MTEOS，12克9-蒽羧基-丙基三乙氧基硅烷，3.3克0.1M硝酸和40克去離子水被混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加26克丁醇，488克2-丙醇，245克丙酮，329克乙醇，53克去離子水和3.8克10％的FC 430(3M，Minneapolis，MN)。溶液被過濾。溶液被分配，隨后進行3000rpm厚度旋涂達20秒，并在80℃和180℃下烘烤各1分鐘。光學性質(zhì)用N & K Technology Model 1200分析器測量。厚度是345.31埃；k＝0.3264；n＝1.4614。第二種厚度＝1021.18埃；k＝0.3215；n＝1.5059。
含有9-蒽羧基-丙基三乙氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升的燒瓶中，178克2-丙醇，89克丙酮，37克TEOS，74克MTEOS，36克9-蒽羧基-丙基三乙氧基硅烷，3.3克0.1M硝酸和40克去離子水被混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加26克丁醇，488克2-丙醇，245克丙酮，329克乙醇，53克去離子水和3.8克10％FC的430(3M，Minneapolis，MN)。溶液被過濾。溶液被分配，隨后進行3000rpm厚度旋涂達20秒，并在80℃和180℃下烘烤各1分鐘。光學性質(zhì)用N & K Technology Model 1200分析儀測量。厚度是6000埃；k＝0.3701；n＝1.4486。第二種厚度＝2851.52；k＝0.3912；n＝1.4786。
含有9-蒽羧基-丙基三乙氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升的燒瓶中，178克2-丙醇，89克丙酮，64克TEOS，42克MTEOS，36克9-蒽羧基-丙基三乙氧基硅烷，3.3克0.1M硝酸和40克去離子水被混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加26克丁醇，488克2-丙醇，245丙酮，329克乙醇，53克去離子水和3.8克10％的FC430(3M，Minneapolis，MN)。溶液被過濾。溶液被分配，隨后進行3000rpm厚度旋涂達20秒，并在80℃和180℃下烘烤各1分鐘。光學性質(zhì)用N & K Technology Model 1200分析儀測量。厚度是5988埃；k＝0.36；n＝1.445。第二種厚度＝2888.27埃；k＝0.3835；n＝1.4856。
實施例2含有9-蒽甲醇、2-羥基-4-(3-三乙氧基甲硅烷基丙氧基)-二苯基酮和玫紅酸的吸收性SOG的合成在1升的燒瓶中，297克2-丙醇，148克丙酮，123克TEOS，77克MTEOS，25克9-蒽甲醇，10克2-羥基-4-(3-三乙氧基甲硅烷基丙氧基)-二苯基酮，5克玫紅酸，0.6克0.1M硝酸和72克去離子水被混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加111克丁醇，459克2-丙醇，230克丙酮，309克乙醇，50克去離子水和3.75克10％的FC 430(3M，Minneapolis，MN)。厚度＝1436埃，n＝1.479，k＝0.1255。
含有9-蒽乙醇、2-羥基-4-(3-三乙氧基甲硅烷基丙氧基)-二苯基酮和玫紅酸的吸收性SOG的合成在1升的燒瓶中，297克2-丙醇，148克丙酮，123克TEOS，77克MTEOS，25克9-蒽乙醇，10克2-羥基-4-(3-三乙氧基甲硅烷基丙氧基)-二苯基酮，5克玫紅酸，0.6克0.1M硝酸和72克去離子水被混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加111克丁醇，459克2-丙醇，230克丙酮，309克乙醇，50克去離子水和3.75克10％的FC 430(3M，Minneapolis，MN)。
含有9-蒽甲醇、2-羥基-4-(3-三甲氧基甲硅烷基丙氧基)-二苯基酮和玫紅酸的吸收性SOG的合成在1升的燒瓶中，297克2-丙醇，148克丙酮，123克TEOS，77克MTEOS，25克9-蒽甲醇，10克2-羥基-4-(3-三甲氧基甲硅烷基丙氧基)-二苯基酮，5克玫紅酸，0.6克0.1M硝酸和72克去離子水被混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加111克丁醇，459克2-丙醇，230克丙酮，309克乙醇，50克去離子水和3.75克10％的FC 430(3M，Minneapolis，MN)。
含有9-蒽乙醇、2-羥基-4-(3-三甲氧基甲硅烷基丙氧基)-二苯基酮和玫紅酸的吸收性SOG的合成在1升的燒瓶中，297克2-丙醇，148克丙酮，123克TEOS，77克MTEOS，25克9-蒽乙醇，10克2-羥基-4-(3-三甲氧基甲硅烷基丙氧基)-二苯基酮，5克玫紅酸，0.6克0.1M硝酸和72克去離子水被混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加111克丁醇，459克2-丙醇，230克丙酮，309克乙醇，50克去離子水和3.75克10％的FC 430(3M，Minneapolis，MN)。
實施例3含有9-蒽甲醇、2-羥基-4-(3-三乙氧基甲硅烷基丙氧基)-二苯基酮和玫紅酸的吸收性SOG的合成在1升的燒瓶中，297克2-丙醇，148克丙酮，93克TEOS，77克MTEOS，20克9-蒽甲醇，60克2-羥基-4-(3-三乙氧基甲硅烷基丙氧基)-二苯基酮，5克玫紅酸，0.5599克0.1M硝酸和71.90克去離子水被混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加57克丁醇，88克2-丙醇，44克丙酮，59克乙醇，9.5克去離子水和3.75克10％的FC430(3M，Minneapolis，MN)。
實施例4含有9-蒽甲醇、2-羥基-4-(3-三乙氧基甲硅烷基丙氧基)-二苯基酮和玫紅酸的吸收性SOG的合成在1升的燒瓶中，297克2-丙醇，148克丙酮，108克TEOS，77克MTEOS，10克9-蒽甲醇，60克2-羥基-4-(3-三乙氧基甲硅烷基丙氧基)-二苯基酮，5克玫紅酸，0.5599克0.1M硝酸和72克去離子水被混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加57克丁醇，88克2-丙醇，44克丙酮，59克乙醇，9.5克去離子水和3.75克10％的FC 430(3M，Minneapolis，MN)。厚度＝4275埃，n＝1.529，k＝0.124。
實施例5含有2-羥基-4-(3-三乙氧基甲硅烷基丙氧基)-二苯基酮的吸收性SOG的合成在1升的燒瓶中，297克2-丙醇，148克丙酮，123克TEOS，51克MTEOS，60克2-羥基-4-(3-三乙氧基甲硅烷基丙氧基)-二苯基酮，0.6克0.1M硝酸和72克去離子水被混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加57克丁醇，88克2-丙醇，44克丙酮，59克乙醇，9.5克去離子水和3.75克10％的FC 430(3M，Minneapolis，MN)。厚度＝3592埃，n＝1.563，k＝0.067。
含有2-羥基-4-(3-三甲氧基甲硅烷基丙氧基)-二苯基酮的吸收性SOG的合成在1升的燒瓶中，297克2-丙醇，148克丙酮，123克TEOS，51克MTEOS，60克2-羥基-4-(3-三甲氧基甲硅烷基丙氧基)-二苯基酮，0.6克0.1M硝酸和72克去離子水被混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加57克丁醇，88克2-丙醇，44克丙酮，59克乙醇，9.5克去離子水和3.75克10％的FC 430(3M，Minneapolis，MN)。
實施例6
含有9-蒽甲醇的吸收性SOG的合成在1升的燒瓶中，297克2-丙醇，148克丙酮，123克TEOS，77克MTEOS，10克9-蒽甲醇，0.6克0.1M硝酸和72克去離子水被混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加57克丁醇，88克2-丙醇，44克丙酮，59克乙醇，9.5克去離子水和3.75克10％的FC 430(3M，Minneapolis，MN)。
含有9-蒽乙醇的吸收性SOG的合成在1升的燒瓶中，297克2-丙醇，148克丙酮，123克TEOS，77克MTEOS，10克9-蒽乙醇，0.6克0.1M硝酸和72克去離子水被混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加57克丁醇，88克2-丙醇，44克丙酮，59克乙醇，9.5克去離子水和3.75克10％的FC 430(3M，Minneapolis，MN)。
含有9-蒽丙醇的吸收性SOG的合成在1升的燒瓶中，297克2-丙醇，148克丙酮，123克TEOS，77克MTEOS，10克9-蒽丙醇，0.6克0.1M硝酸和72克去離子水被混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加57克丁醇，88克2-丙醇，44克丙酮，59克乙醇，9.5克去離子水和3.75克10％的FC 430(3M，Minneapolis，MN)。
實施例7含有9-蒽甲醇、2-羥基-4-(3-三乙氧基甲硅烷基丙氧基)-二苯基酮和玫紅酸的吸收性SOG的合成在1升的燒瓶中，297克2-丙醇，148克丙酮，123克TEOS，77克MTEOS，20克2-羥基-4-(3-三乙氧基甲硅烷基丙氧基)-二苯基酮，25克9-蒽甲醇，5克玫紅酸，0.6克0.1M硝酸和72克去離子水被混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加57克丁醇，88克2-丙醇，44克丙酮，59克乙醇，9.5克去離子水和3.75克10％的FC 430(3M，Minneapolis，MN)。厚度＝3503埃，n＝1.475，k＝0.193。
實施例8含有9-蒽甲醇、2-羥基-4-(3-三乙氧基甲硅烷基丙氧基)-二苯基酮和玫紅酸的吸收性SOG的合成在1升的燒瓶中，297克2-丙醇，148克丙酮，123克TEOS，77克MTEOS，5克2-羥基-4-(3-三乙氧基甲硅烷基丙氧基)-二苯基酮，25克9-蒽甲醇，5克玫紅酸，0.6克0.1M硝酸和72克去離子水被混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加57克丁醇，88克2-丙醇，44克丙酮，59克乙醇，9.5克去離子水和3.75克10％的FC 430(3M，Minneapolis，MN)。厚度＝3119埃，n＝1.454，k＝0 175。
實施例9含有9-蒽甲醇、2-羥基-4-(3-三乙氧基甲硅烷基丙氧基)-二苯基酮、玫紅酸、醌茜和茜素的吸收性SOG的合成在1升的燒瓶中，297克2-丙醇，148克丙酮，123克TEOS，77克MTEOS，20克2-羥基-4-(3-三乙氧基甲硅烷基丙氧基)-二苯基酮，25克9-蒽甲醇，5克玫紅酸，2克醌茜，2克茜素，0.6克0.1M硝酸和72克去離子水被混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加57克丁醇，88克2-丙醇，44克丙酮，59克乙醇，9.5克去離子水和3.7克10％的FC 430(3M，Minneapolis，MN)。厚度＝3554埃，n＝1.489，k＝0.193。
實施例10含有9-蒽甲醇、2-羥基-4-(3-三乙氧基甲硅烷基丙氧基)-二苯基酮、玫紅酸和茜素的吸收性SOG的合成在1升的燒瓶中，297克2-丙醇，148克丙酮，123克TEOS，51.5克MTEOS，5克2-羥基-4-(3-三乙氧基甲硅烷基丙氧基)-二苯基酮，25克9-蒽甲醇，5克玫紅酸，2克茜素，0.5599克0.1M硝酸和71.90克去離子水被混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加56.68克丁醇，87.99克2-丙醇，44.10克丙酮，59.31克乙醇，9.55克去離子水和3.75克10％的FC 430(3M，Minneapolis，MN)。厚度＝3109埃，n＝1.454，k＝0.193。
實施例11含有9-蒽羧基-甲基三乙氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升的燒瓶中，297克2-丙醇，148克丙酮，123克TEOS，77克MTEOS，30克9-蒽羧基-甲基三乙氧基硅烷，0.6克0.1M硝酸和72克去離子水被混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加57克丁醇，88克2-丙醇，44克丙酮，59克乙醇，9.5克去離子水和3.7克10％的FC 430(3M，Minneapolis，MN)。厚度＝3010埃，n＝1.377，k＝0.163。
含有9-蒽羧基-乙基三乙氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升的燒瓶中，297克2-丙醇，148克丙酮，123克TEOS，77克MTEOS，30克9-蒽羧基-乙基三乙氧基硅烷，0.6克0.1M硝酸和72克去離子水被混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加57克丁醇，88克2-丙醇，44克丙酮，59克乙醇，9.5克去離子水和3.7克10％的FC 430(3M，Minneapolis，MN)。
含有9-蒽羧基-丙基三乙氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升的燒瓶中，297克2-丙醇，148克丙酮，123克TEOS，77克MTEOS，30克9-蒽羧基-丙基三乙氧基硅烷，0.6克0.1M硝酸和72克去離子水被混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加57克丁醇，88克2-丙醇，44克丙酮，59克乙醇，9.5克去離子水和3.7克10％的FC 430(3M，Minneapolis，MN)。
含有9-蒽羧基-戊基三乙氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升的燒瓶中，297克2-丙醇，148克丙酮，123克TEOS，77克MTEOS，30克9-蒽羧基-戊基三乙氧基甲硅烷，0.6克0.1M硝酸和72克去離子水被混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加57克丁醇，88克2-丙醇，44克丙酮，59克乙醇，9.5克去離子水和3.7克10％的FC 430(3M，Minneapolis，MN)。
含有9-蒽羧基-甲基三甲氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升的燒瓶中，297克2-丙醇，148克丙酮，123克TEOS，77克MTEOS，30克9-蒽羧基-甲基三甲氧基硅烷，0.6克0.1M硝酸和72克去離子水被混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加57克丁醇，88克2-丙醇，44克丙酮，59克乙醇，9.5克去離子水和3.7克10％的FC 430(3M，Minneapolis，MN)。
含有9-蒽羧基-乙基三甲氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升的燒瓶中，297克2-丙醇，148克丙酮，123克TEOS，77克MTEOS，30克9-蒽羧基-乙基三甲氧基硅烷，0.6克0.1M硝酸和72克去離子水被混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加57克丁醇，88克2-丙醇，44克丙酮，59克乙醇，9.5克去離子水和3.7克10％的FC 430(3M，Minneapolis，MN)。
含有9-蒽羧基-丙基三甲氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升的燒瓶中，297克2-丙醇，148克丙酮，123克TEOS，77克MTEOS，30克9-蒽羧基-丙基三甲氧基硅烷，0.6克0.1M硝酸和72克去離子水被混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加57克丁醇，88克2-丙醇，44克丙酮，59克乙醇，9.5克去離子水和3.7克10％的FC 430(3M，Minneapolis，MN)。
實施例12含有9-蒽甲醇的吸收性SOG的合成在1升燒瓶中，297克2-丙醇，148克丙酮，123克TEOS，77克MTEOS，和10克9-蒽甲醇被混合。溶液回流6小時。將0.6克0.1M硝酸和72克去離子水的混合物加入到該燒瓶中。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加57克丁醇，88克2-丙醇，44克丙酮，59克乙醇，9.5克去離子水和3.75克10％FC的430(3M，Minneapolis，MN)。
含有9-蒽乙醇的吸收性SOG的合成在1升燒瓶中，297克2-丙醇，148克丙酮，123克TEOS，77克MTEOS，和10克9-蒽乙醇被混合。溶液回流6小時。將0.6克0.1M硝酸和72克去離子水的混合物加入到該燒瓶中。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加57克丁醇，88克2-丙醇，44克丙酮，59克乙醇，9.5克去離子水和3.75克10％的FC 430(3M，Minneapolis，MN)。
含有9-蒽丙醇的吸收性SOG的合成在1升燒瓶中，297克2-丙醇，148克丙酮，123克TEOS，77克MTEOS，和10克9-蒽丙醇被混合。溶液回流6小時。將0.6克0.1M硝酸和72克去離子水的混合物加入到該燒瓶中。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加57克丁醇，88克2-丙醇，44克丙酮，59克乙醇，9.5克去離子水和3.75克10％的FC 430(3M，Minneapolis，MN)。
實施例13含有9-蒽羧基-甲基三乙氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升的燒瓶中，297克2-丙醇，148克丙酮，90克TMOS，59克MTMOS，60克9-蒽羧基-甲基三乙氧基硅烷，0.6克0.1M硝酸和72克去離子水被混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加115克丁醇，488克2-丙醇，245克丙酮，329克乙醇，53克去離子水和3.8克10％的FC 430(3M，Minneapolis，MN)。
含有9-蒽羧基-乙基三乙氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升的燒瓶中，297克2-丙醇，148克丙酮，90克TMOS，59克MTMOS，60克9-蒽羧基-乙基三乙氧基硅烷，0.6克0.1M硝酸和72克去離子水被混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加115克丁醇，488克2-丙醇，245克丙酮，329克乙醇，53克去離子水和3.8克10％的FC 430(3M，Minneapolis，MN)。
含有9-蒽羧基-甲基三甲氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升的燒瓶中，297克2-丙醇，148克丙酮，90克TMOS，59克MTMOS，60克9-蒽羧基-甲基三甲氧基硅烷，0.6克0.1M硝酸和72克去離子水被混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加115克丁醇，488克2-丙醇，245克丙酮，329克乙醇，53克去離子水和3.8克10％的FC 430(3M，Minneapolis，MN)。
含有9-蒽羧基-丙基三乙氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升的燒瓶中，297克2-丙醇，148克丙酮，90克TMOS，59克MTMOS，60克9-蒽羧基-丙基三乙氧基硅烷，0.6克0.1M硝酸和72克去離子水被混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加115克丁醇，488克2-丙醇，245克丙酮，329克乙醇，53克去離子水和3.8克10％的FC 430(3M，Minneapolis，MN)。
含有9-蒽羧基-甲基三丙氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升的燒瓶中，297克2-丙醇，148克丙酮，90克TMOS，59克MTMOS，60克9-蒽羧基-甲基三丙氧基硅烷，0.6克0.1M硝酸和72克去離子水被混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加115克丁醇，488克2-丙醇，245克丙酮，329克乙醇，53克去離子水和3.8克10％的FC 430(3M，Minneapolis，MN)。
含有9-蒽羧基-乙基三丁氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升的燒瓶中，297克2-丙醇，148克丙酮，90克TMOS，59克MTMOS，60克9-蒽羧基-乙基三丁氧基硅烷，0.6克0.1M硝酸和72克去離子水被混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加115克丁醇，488克2-丙醇，245克丙酮，329克乙醇，53克去離子水和3.8克10％的FC 430(3M，Minneapolis，MN)。
實施例149-蒽羧基-甲基三乙氧基硅烷的合成在2升燒瓶中，對90.0g 9-蒽甲酸，86.0mL氯甲基三乙氧基硅烷，66ml三乙胺，和已經(jīng)在4埃分子篩上干燥過的1.25L甲基異丁基酮(MIBK)進行攪拌，慢慢地加熱到回流并回流8.5小時。溶液被轉(zhuǎn)移到2L特氟隆瓶子中并靜置過夜。形成了大量的固體沉淀物。該MIBK溶液進行潷析并旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)至約200g。添加同等量的己烷并進行混合。形成了沉淀物。制備用20％乙酸乙酯/80％己烷漿化的1.75英寸直徑×2英寸高的硅膠柱。該MIBK/烷溶液在壓力下流過該柱，然后該柱用800ml的20％乙酸乙酯/80％己烷淋洗。溶液過濾到0.2μm并旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)。當溶劑停止散發(fā)時，將溫度升高至35℃保持60分鐘。獲得深琥珀色油狀液體產(chǎn)品(85g)。
含有9-蒽羧基-乙基三乙氧基硅烷的吸收性SOG的合成在2升燒瓶中，對90.0g 9-蒽甲酸，86.0mL氯乙基三乙氧基硅烷，66ml三乙胺，和已經(jīng)在4埃分子篩上干燥過的1.25L甲基異丁基酮(MIBK)進行攪拌，慢慢地加熱到回流并回流8.5小時。溶液被轉(zhuǎn)移到2L特氟隆瓶子中并靜置過夜。形成了大量的固體沉淀物。該MIBK溶液進行潷析并旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)至約200g。添加同等量的己烷并進行混合。形成了沉淀物。制備用20％乙酸乙酯/80％己烷漿化的1.75英寸直徑×2英寸高的硅膠柱。該MIBK/烷溶液在壓力下流過該柱，然后該柱用800ml的20％乙酸乙酯/80％己烷淋洗。溶液過濾到0.2μm并旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)。當溶劑停止散發(fā)時，將溫度升高至35℃保持60分鐘。
含有9-蒽羧基-丙基三乙氧基硅烷的吸收性SOG的合成在2升燒瓶中，對90.0g 9-蒽甲酸，86.0mL氯丙基三乙氧基硅烷，66ml三乙胺，和已經(jīng)在4埃分子篩上干燥過的1.25L甲基異丁基酮(MIBK)進行攪拌，慢慢地加熱到回流并回流8.5小時。溶液被轉(zhuǎn)移到2L特氟隆瓶子中并靜置過夜。形成了大量的固體沉淀物。該MIBK溶液進行潷析并旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)至約200g。添加同等量的己烷并進行混合。形成了沉淀物。制備用20％乙酸乙酯/80％己烷漿化的1.75英寸直徑×2英寸高的硅膠柱。該MIBK/烷溶液在壓力下流過該柱，然后該柱用800ml的20％乙酸乙酯/80％己烷淋洗。溶液過濾到0.2μm并旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)。當溶劑停止散發(fā)時，將溫度升高至35℃保持60分鐘。
9-蒽羧基-甲基三甲氧基硅烷的合成在2升燒瓶中，對90.0g 9-蒽甲酸，86.0mL氯甲基三甲氧基硅烷，66ml三乙胺，和已經(jīng)在4埃分子篩上干燥過的1.25L甲基異丁基酮(MIBK)進行攪拌，慢慢地加熱到回流并回流8.5小時。溶液被轉(zhuǎn)移到2L特氟隆瓶子中并靜置過夜。形成了大量的固體沉淀物。該MIBK溶液進行潷析并旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)至約200g。添加同等量的己烷并進行混合。形成了沉淀物。制備用20％乙酸乙酯/80％己烷漿化的1.75英寸直徑×2英寸高的硅膠柱。該MIBK/烷溶液在壓力下流過該柱，然后該柱用800ml的20％乙酸乙酯/80％己烷淋洗。溶液過濾到0.2μm并旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)。當溶劑停止散發(fā)時，將溫度升高至35℃保持60分鐘。
實施例15含有9-蒽羧基-甲基三乙氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升燒瓶中，297克(4.798mol)2-丙醇，148克(2.558mol)丙酮，123克(0.593mol)TEOS，77克(0.432mol)MTEOS，45克(0.102mol)9-蒽羧基-甲基三乙氧基硅烷，0.6克0.1M硝酸和72克(3.716mol)去離子水進行混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加43克(0.590mol)丁醇和1260克(8.344mol)乳酸乙酯。厚度＝1156埃，n＝1.502，k＝0.446。
含有9-蒽羧基-丙基三乙氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升燒瓶中，297克(4.798mol)2-丙醇，148克(2.558mol)丙酮，123克(0.593mol)TEOS，77克(0.432mol)MTEOS，45克(0.102mol)9-蒽羧基-甲基三乙氧基硅烷，0.6克0.1M硝酸和72克(3.716mol)去離子水進行混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加43克(0.590mol)丁醇和1260克(8.344mol)乳酸乙酯。
含有9-蒽羧基-乙基三乙氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升燒瓶中，297克(4.798mol)2-丙醇，148克(2.558mol)丙酮，123克(0.593mol)TEOS，77克(0.432mol)MTEOS，45克(0.102mol)9-蒽羧基-甲基三乙氧基硅烷，0.6克0.1M硝酸和72克(3.716mol)去離子水進行混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加43克(0.590mol)丁醇和1260克(8.344mol)乳酸乙酯。
含有9-蒽羧基-甲基三甲氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升燒瓶中，297克(4.798mol)2-丙醇，148克(2.558mol)丙酮，123克(0.593mol)TEOS，77克(0.432mol)MTEOS，45克(0.102mol)9-蒽羧基-甲基三乙氧基硅烷，0.6克0.1M硝酸和72克(3.716mol)去離子水進行混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加43克(0.590mol)丁醇和1260克(8.344mol)乳酸乙酯。
實施例16
含有9-蒽羧基-甲基三乙氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升燒瓶中，297克(4.798mol)2-丙醇，148克(2.558mol)丙酮，123克(0.593mol)TEOS，77克(0.432mol)MTEOS，30克(0.102mol)9-蒽羧基-甲基三乙氧基硅烷，0.6克0.1M硝酸和72克(3.716mol)去離子水進行混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加57克(0.769mol)丁醇，88克(1.422mol)2-丙醇，44克(0.758mol)丙酮，59克(1.227mol)乙醇，9.5克(0.528mol)去離子水和3.7克10％的FC430。
含有9-蒽羧基-丙基三乙氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升燒瓶中，297克(4.798mol)2-丙醇，148克(2.558mol)丙酮，123克(0.593mol)TEOS，77克(0.432mol)MTEOS，30克(0.102mol)9-蒽羧基-甲基三乙氧基硅烷，0.6克0.1M硝酸和72克(3.716mol)去離子水進行混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加57克(0.769mol)丁醇，88克(1.422mol)2-丙醇，44克(0.758mol)丙酮，59克(1.227mol)乙醇，9.5克(0.528mol)去離子水和3.7克10％的FC430。
含有9-蒽羧基-乙基三甲氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升燒瓶中，297克(4.798mol)2-丙醇，148克(2.558mol)丙酮，123克(0.593mol)TEOS，77克(0.432mol)MTEOS，30克(0.102mol)9-蒽羧基-甲基三乙氧基硅烷，0.6克0.1M硝酸和72克(3.716mol)去離子水進行混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加57克(0.769mol)丁醇，88克(1.422mol)2-丙醇，44克(0.758mol)丙酮，59克(1.227mol)乙醇，9.5克(0.528mol)去離子水和3.7克10％的FC430。
含有9-蒽羧基-乙基三乙氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升燒瓶中，297克(4.798mol)2-丙醇，148克(2.558mol)丙酮，123克(0.593mol)TEOS，77克(0.432mol)MTEOS，30克(0.102mol)9-蒽羧基-甲基三乙氧基硅烷，0.6克0.1M硝酸和72克(3.716mol)去離子水進行混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加57克(0.769mol)丁醇，88克(1.422mol)2-丙醇，44克(0.758mol)丙酮，59克(1.227mol)乙醇，9.5克(0.528mol)去離子水和3.7克10％的FC430。
含有9-蒽羧基-丁基三乙氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升燒瓶中，297克(4.798mol)2-丙醇，148克(2.558mol)丙酮，123克(0.593mol)TEOS，77克(0.432mol)MTEOS，30克(0.102mol)9-蒽羧基-甲基三乙氧基硅烷，0.6克0.1M硝酸和72克(3.716mol)去離子水進行混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加57克(0.769mol)丁醇，88克(1.422mol)2-丙醇，44克(0.758mol)丙酮，59克(1.227mol)乙醇，9.5克(0.528mol)去離子水和3.7克10％的FC430。
實施例17含有9-蒽羧基-甲基三乙氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升燒瓶中，297克(4.798mol)2-丙醇，148克(2.558mol)丙酮，123克(0.593mol)TEOS，77克(0.432mol)MTEOS，45克(0.102mol)9-蒽羧基-甲基三乙氧基硅烷，0.6克0.1M硝酸和72克(3.716mol)去離子水進行混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加43克(0.590mol)丁醇和981克(8.301mol)propasol-p。厚度＝1407埃，n＝1.334，k＝0.551。
含有9-蒽羧基-乙基三乙氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升燒瓶中，297克(4.798mol)2-丙醇，148克(2.558mol)丙酮，123克(0.593mol)TEOS，77克(0.432mol)MTEOS，45克(0.102mol)9-蒽羧基-甲基三乙氧基硅烷，0.6克0.1M硝酸和72克(3.716mol)去離子水進行混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加43克(0.590mol)丁醇和981克(8.301mol)propasol-p。
含有9-蒽羧基-丙基三乙氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升燒瓶中，297克(4.798mol)2-丙醇，148克(2.558mol)丙酮，123克(0.593mol)TEOS，77克(0.432mol)MTEOS，45克(0.102mol)9-蒽羧基-甲基三乙氧基硅烷，0.6克0.1M硝酸和72克(3.716mol)去離子水進行混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加43克(0.590mol)丁醇和981克(8.301mol)propasol-p。
含有9-蒽羧基-甲基三甲氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升燒瓶中，297克(4.798mol)2-丙醇，148克(2.558mol)丙酮，123克(0.593mol)TEOS，77克(0.432mol)MTEOS，45克(0.102mol)9-蒽羧基-甲基三乙氧基硅烷，0.6克0.1M硝酸和72克(3.716mol)去離于水進行混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加43克(0.590mol)丁醇和981克(8.301mol)propasol-p。
實施例18含有9-蒽羧基-丙基三乙氧基硅烷的吸收性SOG的合成在裝有氮氣導入管、干冰冷凝器和機械攪拌器的6升夾套反應器中加入5000mL己烷，720mL乙醇，65mL水和120g 10wt％的四丁基氯化銨水合物水溶液。混合物在25℃和攪拌下平衡0.5小時。三氯硅烷(377.4g，2.78mol)，甲基三氯硅烷(277.7g，1.86mol)，和(203.8g，0.46mol)9-蒽羧基-甲基三乙氧基硅烷的混合物使用蠕動泵經(jīng)過70分鐘加入到反應器中。在硅烷和吸收性化合物的添加結(jié)束之后，己烷被泵抽通過管線達10分鐘。該反應攪拌2.3小時，乙醇/H2O層被分出，然后剩余己烷溶液經(jīng)由3微米(μm)過濾器進行過濾，隨后經(jīng)由1μm過濾器進行過濾。向溶液中添加(3957g，45.92mol)己烷。
含有9-蒽羧基-乙基三甲氧基硅烷的吸收性SOG的合成在裝有氮氣導入管、干冰冷凝器和機械攪拌器的6升夾套反應器中加入5000mL己烷，720mL乙醇，65mL水和120g 10wt％的四丁基氯化銨水合物水溶液?；旌衔镌?5℃和攪拌下平衡0.5小時。三氯硅烷(377.4g，2.78mol)，甲基三氯硅烷(277.7g，1.86mol)，和(203.8g，0.46mol)9-蒽羧基-甲基三乙氧基硅烷的混合物使用蠕動泵經(jīng)過70分鐘加入到反應器中。在硅烷和吸收性化合物的添加結(jié)束之后，己烷被泵抽通過管線達10分鐘。該反應攪拌2.3小時，乙醇/H2O層被分出，然后剩余己烷溶液經(jīng)由3微米(μm)過濾器進行過濾，隨后經(jīng)由1μm過濾器進行過濾。向溶液中添加(3957g，45.92mol)己烷。
含有9-蒽羧基-丙基三甲氧基硅烷的吸收性SOG的合成在裝有氮氣導入管、干冰冷凝器和機械攪拌器的6升夾套反應器中加入5000mL己烷，720mL乙醇，65mL水和120g 10wt％的四丁基氯化銨水合物水溶液?；旌衔镌? 5℃和攪拌下平衡0.5小時。三氯硅烷(377.4g，2.78mol)，甲基三氯硅烷(277.7g，1.86mol)，和(203.8g，0.46mol)9-蒽羧基-甲基三乙氧基硅烷的混合物使用蠕動泵經(jīng)過70分鐘加入到反應器中。在硅烷和吸收性化合物的添加結(jié)束之后，己烷被泵抽通過管線達10分鐘。該反應攪拌2.3小時，乙醇/H2O層被分出，然后剩余己烷溶液經(jīng)由3微米(μm)過濾器進行過濾，隨后經(jīng)由1μm過濾器進行過濾。向溶液中添加(3957g，45.92mol)己烷。
含有9-蒽羧基-丁基三丙氧基硅烷的吸收性SOG的合成在裝有氮氣導入管、干冰冷凝器和機械攪拌器的6升夾套反應器中加入5000mL己烷，720mL乙醇，65mL水和120g 10wt％的四丁基氯化銨水合物水溶液?；旌衔镌?5℃和攪拌下平衡0.5小時。三氯硅烷(377.4g，2.78mol)，甲基三氯硅烷(277.7g，1.86mol)，和(203.8g，0.46mol)9-蒽羧基-甲基三乙氧基硅烷的混合物使用蠕動泵經(jīng)過70分鐘加入到反應器中。在硅烷和吸收性化合物的添加結(jié)束之后，己烷被泵抽通過管線達10分鐘。該反應攪拌2.3小時，乙醇/H2O層被分出，然后剩余己烷溶液經(jīng)由3微米(μm)過濾器進行過濾，隨后經(jīng)由1μm過濾器進行過濾。向溶液中添加(3957g，45.92mol)己烷。
實施例19含有9-蒽羧基-甲基三乙氧基硅烷的吸收性SOG的合成在5升燒瓶中，508.8克(3.10mol)三乙氧基硅烷(HTEOS)，135.8g(0.31mol)9-蒽羧基-甲基三乙氧基硅烷和508.8g(8.77mol)丙酮由磁力攪拌來混合并冷卻到低于20℃。508.8g(8.77mol)丙酮，46.69g(2.59mol H2O，0.0009mol HNO3)0.02N硝酸和37.03g(2.06mol)去離子水經(jīng)過45分鐘時間由滴液漏斗慢慢地添加到在5L燒瓶內(nèi)的混合物中，將溫度維持在20℃以下。溶液回流8小時。向溶液中添加4631g(30.67mol)乳酸乙酯。
含有9-蒽羧基-丙基三乙氧基硅烷的吸收性SOG的合成在5升燒瓶中，508.8克(3.10mol)三乙氧基硅烷(HTEOS)，135.8g(0.31mol)9-蒽羧基-甲基三乙氧基硅烷和508.8g(8.77mol)丙酮由磁力攪拌來混合并冷卻到低于20℃。508.8g(8.77mol)丙酮，46.69g(2.59mol H2O，0.0009mol HNO3)0.02N硝酸和37.03g(2.06mol)去離子水經(jīng)過45分鐘時間由滴液漏斗慢慢地添加到在5L燒瓶內(nèi)的混合物中，將該溫度維持在20℃以下。溶液回流8小時。向溶液中添加4631g(30.67mol)乳酸乙酯。
含有9-蒽羧基-乙基三甲氧基硅烷的吸收性SOG的合成在5升燒瓶中，508.8克(3.10mol)三乙氧基硅烷(HTEOS)，135.8g(0.31mol)9-蒽羧基-甲基三乙氧基硅烷和508.8g(8.77mol)丙酮由磁力攪拌來混合并冷卻到低于20℃。508.8g(8.77mol)丙酮，46.69g(2.59mol H2O，0.0009mol HNO3)0.02N硝酸和37.03g2.06mol)去離子水經(jīng)過45分鐘時間由滴液漏斗慢慢地添加到在5L燒瓶內(nèi)的混合物中，將該溫度維持在20℃以下。溶液回流8小時。向溶液中添加4631g(30.67mol)乳酸乙酯。
含有9-蒽羧基-丙基三丁氧基硅烷的吸收性SOG的合成在5升燒瓶中，508.8克(3.10mol)三乙氧基硅烷(HTEOS)，135.8g(0.31mol)9-蒽羧基-甲基三乙氧基甲硅烷和508.8g(8.77mol)丙酮由磁力攪拌來混合并冷卻到低于20℃。508.8g(8.77mol)丙酮，46.69g(2.59mol H2O，0.0009mol HNO3)0.02N硝酸和37.03g(2.06mol)去離子水經(jīng)過45分鐘時間由滴液漏斗慢慢地添加到在5L燒瓶內(nèi)的混合物中，將該溫度維持在20℃以下。溶液回流8小時。向溶液中添加4631g(30.67mol)乳酸乙酯。
實施例20含有苯基三乙氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升燒瓶中，297克(4.798mol)2-丙醇，148克(2.558mol)丙酮，123克(0.593mol)TEOS，104克(0.432mol)苯基三乙氧基硅烷，0.6克0.1M硝酸和72克(3.716mol)去離子水進行混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加57克(0.769mol)丁醇，88克(1.422mol)2-丙醇，44克(0.758mol)丙酮，59克(1.227mol)乙醇，9.5克(0.528mol)去離子水。厚度＝1727埃，n＝1.957，k＝0.384。
含有苯基三甲氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升燒瓶中，297克(4.798mol)2-丙醇，148克(2.558mol)丙酮，123克(0.593mol)TEOS，104克(0.432mol)苯基三乙氧基硅烷，0.6克0.1M硝酸和72克(3.716mol)去離子水進行混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加57克(0.769mol)丁醇，88克(1.422mol)2-丙醇，44克(0.758mol)丙酮，59克(1.227mol)乙醇，9.5克(0.528mol)去離子水。
含有苯基三丙氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升燒瓶中，297克(4.798mol)2-丙醇，148克(2.558mol)丙酮，123克(0.593mol)TEOS，104克(0.432mol)苯基三乙氧基硅烷，0.6克0.1M硝酸和72克(3.716mol)去離子水進行混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加57克(0.769mol)丁醇，88克(1.422mol)2-丙醇，44克(0.758mol)丙酮，59克(1.227mol)乙醇，9.5克(0.528mol)去離子水。
含有苯基三丁氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升燒瓶中，297克(4.798mol)2-丙醇，148克(2.558mol)丙酮，123克(0.593mol)TEOS，104克(0.432mol)苯基三乙氧基硅烷，0.6克0.1M硝酸和72克(3.716mol)去離子水進行混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加57克(0.769mol)丁醇，88克(1.422mol)2-丙醇，44克(0.758mol)丙酮，59克(1.227mol)乙醇，9.5克(0.528mol)去離子水。
實施例21含有苯基三乙氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升燒瓶中，297克(4.798mol)2-丙醇，148克(2.558mol)丙酮，93克(0.448mol)TEOS，37克(0.209mol)MTEOS，100克(0.418mol)苯基三乙氧基硅烷，0.6克0.1M硝酸和72克(3.716mol)去離子水進行混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加57克(0.769mol)丁醇，88克(1.422mol)2-丙醇，44克(0.758mol)丙酮，59克(1.227mol)乙醇，9.5克(0.528mol)去離子水。厚度＝1325埃，n＝1.923，k＝0.364。
含有苯基三甲氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升燒瓶中，297克(4.798mol)2-丙醇，148克(2.558mol)丙酮，93克(0.448mol)TEOS，37克(0.209mol)MTEOS，100克(0.418mol)苯基三乙氧基硅烷，0.6克0.1M硝酸和72克(3.716mol)去離子水進行混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加57克(0.769mol)丁醇，88克(1.422mol)2-丙醇，44克(0.758mol)丙酮，59克(1.227mol)乙醇，9.5克(0.528mol)去離子水。
含有苯基三丙氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升燒瓶中，297克(4.798mol)2-丙醇，148克(2.558mol)丙酮，93克(0.448mol)TEOS，37克(0.209mol)MTEOS，100克(0.418mol)苯基三乙氧基硅烷，0.6克0.1M硝酸和72克(3.716mol)去離子水進行混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加57克(0.769mol)丁醇，88克(1.422mol)2-丙醇，44克(0.758mol)丙酮，59克(1.227mol)乙醇，9.5克(0.528mol)去離子水。
實施例22含有苯基三乙氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升燒瓶中，297克(4.798mol)2-丙醇，148克(2.558mol)丙酮，119克(0.573mol)TEOS，27克(0.153mol)MTEOS，74克(0.306mol)苯基三乙氧基硅烷，0.6克0.1M硝酸和72克(3.716mol)去離子水進行混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加57克(0.769mol)丁醇，88克(1.422mol)2-丙醇，44克(0.758mol)丙酮，59克(1.227mol)乙醇，9.5克(0.528mol)去離子水。厚度＝1286埃，n＝1.889，k＝0.286。
含有苯基三甲氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升燒瓶中，297克(4.798mol)2-丙醇，148克(2.558mol)丙酮，119克(0.573mol)TEOS，27克(0.153mol)MTEOS，74克(0.306mol)苯基三乙氧基硅烷，0.6克0.1M硝酸和72克(3.716mol)去離子水進行混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加57克(0.769mol)丁醇，88克(1.422mol)2-丙醇，44克(0.758mol)丙酮，59克(1.227mol)乙醇，9.5克(0.528mol)去離子水。
含有苯基三丙氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升燒瓶中，297克(4.798mol)2-丙醇，148克(2.558mol)丙酮，119克(0.573mol)TEOS，27克(0.153mol)MTEOS，74克(0.306mol)苯基三乙氧基硅烷，0.6克0.1M硝酸和72克(3.716mol)去離子水進行混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加57克(0.769mol)丁醇，88克(1.422mol)2-丙醇，44克(0.758mol)丙酮，59克(1.227mol)乙醇，9.5克(0.528mol)去離子水。
實施例23含有苯基三乙氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升燒瓶中，297克(4.798mol)2-丙醇，148克(2.558mol)丙酮，73克(0.351mol)TEOS，45克(0.251mo)MTEOS，121克(0.503mol)苯基三乙氧基硅烷，0.6克0.1M硝酸和72克(3.716mol)去離子水進行混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加57克(0.769mol)丁醇，88克(1.422mol)2-丙醇，44克(0.758mol)丙酮，59克(1.227mol)乙醇，9.5克(0.528mol)去離子水。厚度＝1047埃，n＝1.993，k＝0.378。
含有苯基三甲氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升燒瓶中，297克(4.798mol)2-丙醇，148克(2.558mol)丙酮，73克(0.351mol)TEOS，45克(0.251mol)MTEOS，121克(0.503mol)苯基三乙氧基硅烷，0.6克0.1M硝酸和72克(3.716mol)去離子水進行混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加57克(0.769mol)丁醇，88克(1.422mol)2-丙醇，44克(0.758mol)丙酮，59克(1.227mol)乙醇，9.5克(0.528mol)去離子水。
含有苯基三丙氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升燒瓶中，297克(4.798mol)2-丙醇，148克(2.558mol)丙酮，73克(0.351mol)TEOS，45克(0.251mol)MTEOS，121克(0.503mol)苯基三乙氧基硅烷，0.6克0.1M硝酸和72克(3.716mol)去離子水進行混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加57克(0.769mol)丁醇，88克(1.422mol)2-丙醇，44克(0.758mol)丙酮，59克(1.227mol)乙醇，9.5克(0.528mol)去離子水。
含有苯基三丁氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升燒瓶中，297克(4.798mol)2-丙醇，148克(2.558mol)丙酮，73克(0.351mol)TEOS，45克(0.251mol)MTEOS，121克(0.503mol)苯基三乙氧基硅烷，0.6克0.1M硝酸和72克(3.716mol)去離子水進行混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加57克(0.769mol)丁醇，88克(1.422mol)2-丙醇，44克(0.758mol)丙酮，59克(1.227mol)乙醇，9.5克(0.528mol)去離子水。
實施例24含有苯基三乙氧基硅烷和2-羥基-4-(3-三乙氧基甲硅烷基丙氧基)-二苯基酮的吸收性SOG的合成在1升燒瓶中，297克(4.798mol)2-丙醇，148克(2.558mol)丙酮，73克(0.351mol)TEOS，45克(0.251mol)MTEOS，103克(0.428mol)苯基三乙氧基硅烷，12克(0.0298mol)2-羥基-4-(3-三乙氧基甲硅烷基丙氧基)-二苯基酮，0.6克0.1M硝酸和72克(3.716mol)去離子水進行混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加57克(0.769mol)丁醇，88克(1.422mol)2-丙醇，44克(0.758mol)丙酮，59克(1.227mol)乙醇，9.5克(0.528mol)去離子水。
實施例25
含有4-乙氧基苯基偶氮苯-4-羧基-甲基三乙氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升燒瓶中，297克(4.798mol)2-丙醇，148克(2.558mol)丙酮，123克(0.593mol)TEOS，77克(0.432mol)MTEOS，44.5克(0.13mol)4-乙氧基苯基偶氮苯-4-羧基-甲基三乙氧基硅烷，0.6克0.1M硝酸和72克(3.716mol)去離子水進行混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加57克(0.769mol)丁醇，88克(1.422mol)2-丙醇，44克(0.758mol)丙酮，59克(1.227mol)乙醇，9.5克(0.528mol)去離子水。在365nm，n＝1.499，k＝0.162。
含有4-乙氧基苯基偶氮苯-4-羧基-乙基三乙氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升燒瓶中，297克(4.798mol)2-丙醇，148克(2.558mol)丙酮，123克(0.593mol)TEOS，77克(0.432mol)MTEOS，44.5克(0.13mol)4-乙氧基苯基偶氮苯-4-羧基-甲基三乙氧基甲硅烷，0.6克0.1M硝酸和72克(3.716mol)去離子水進行混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加57克(0.769mol)丁醇，88克(1.422mol)2-丙醇，44克(0.758mol)丙酮，59克(1.227mol)乙醇，9.5克(0.528mol)去離子水。
含有4-甲氧基苯基偶氮苯-4-羧基-丙基三乙氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升燒瓶中，297克(4.798mol)2-丙醇，148克(2.558mol)丙酮，123克(0.593mol)TEOS，77克(0.432mol)MTEOS，44.5克(0.13mol)4-乙氧基苯基偶氮苯-4-羧基-甲基三乙氧基甲硅烷，0.6克0.1M硝酸和72克(3.716mol)去離子水進行混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加57克(0.769mol)丁醇，88克(1.422mol)2-丙醇，44克(0.758mol)丙酮，59克(1.227mol)乙醇，9.5克(0.528mol)去離子水。
含有4-甲氧基苯基偶氮苯-4-羧基-丙基三甲氧基硅烷的吸收性SOG的合成在1升燒瓶中，297克(4.798mol)2-丙醇，148克(2.558mol)丙酮，123克(0.593mol)TEOS，77克(0.432mol)MTEOS，44.5克(0.13mol)4-乙氧基苯基偶氮苯-4-羧基-甲基三乙氧基甲硅烷，0.6克0.1M硝酸和72克(3.716mol)去離子水進行混合。該燒瓶回流4小時。向溶液中添加57克(0.769mol)丁醇，88克(1.422mol)2-丙醇，44克(0.758mol)丙酮，59克(1.227mol)乙醇，9.5克(0.528mol)去離子水。
因此，公開了特定的實施方案和組合物的應用以及生產(chǎn)包含吸收性化合物的旋涂玻璃材料的方法。然而，本領(lǐng)域中的技術(shù)人員應該理解，在不脫離這里的發(fā)明概念的前提下對于早已描述過的那些的更多改進都是可能的。因此，本發(fā)明的主題不受限制，僅僅限制在所附權(quán)利要求的范圍內(nèi)。而且，在解釋說明書和權(quán)利要求時，全部的術(shù)語應該在上下文一致地以最寬泛可能的方式來解釋。尤其，術(shù)語“包括”和“包含”應該解釋為，對于以非排他的方式所提及的元素、組分或步驟，表明所提到的元素、組分或步驟可以與非特意提到的其它元素、組分或步驟一起存在，或一起使用，或相結(jié)合。
權(quán)利要求
1.吸收性旋涂玻璃組合物，它包括硅型化合物和在低于375nm波長下吸收光的可引入的有機吸收性化合物，其中所述硅型化合物或可引入的有機吸收性化合物中的至少一種包括烷基、烷氧基、酮基或偶氮基。
2.權(quán)利要求1的組合物，其中所述范圍在低于約260nm的波長下。
3.權(quán)利要求1的組合物，其中所述有機吸收性化合物包括至少一個苯環(huán)和反應活性基團，該反應活性基團選自羥基、胺基、羧酸基和其中硅鍵接于選自烷氧基和鹵素原子中的至少一個取代基上的取代甲硅烷基。
4.權(quán)利要求3的組合物，其中所述有機吸收性化合物包括兩個或多個苯環(huán)。
5.權(quán)利要求4的組合物，其中所述兩個或多個苯環(huán)是稠合的。
6.權(quán)利要求3的組合物，其中所述有機吸收性化合物包括選自硅烷氧基、硅二烷氧基和硅三烷氧基的反應活性基團。
7.權(quán)利要求6的組合物，其中所述硅烷氧基、硅二烷氧基和硅三烷氧基包括硅乙氧基、硅二乙氧基、硅三乙氧基、硅甲氧基、硅二甲氧基和硅三甲氧基基團。
8.權(quán)利要求3的組合物，其中所述反應活性基團直接鍵接于苯環(huán)上。
9.權(quán)利要求3的組合物，其中所述反應活性基團經(jīng)烴橋連基連接于苯環(huán)上。
10.權(quán)利要求3的組合物，其中所述有機吸收性化合物包括選自2，6-二羥蒽醌，9-蒽甲酸，9-蒽甲醇，茜素，醌茜，櫻草靈，2-羥基-4-(3-三乙氧基甲硅烷基丙氧基)-二苯基酮，玫紅酸，三乙氧基甲硅烷基丙基-1，8-萘二甲酰亞胺，9-蒽羧基-烷基三乙氧基硅烷，苯基三乙氧基硅烷，4-苯基偶氮苯酚，4-乙氧基苯基偶氮苯-4-羧基-甲基三乙氧基硅烷，4-甲氧基苯基偶氮苯-4-羧基-甲基三乙氧基硅烷，和它們的混合物中的吸收性化合物。
11.權(quán)利要求10的組合物，其中9-蒽羧基-烷基三乙氧基硅烷包括9-蒽羧基-丙基三乙氧基硅烷。
12.權(quán)利要求10的組合物，其中所述有機吸收性化合物包括苯基三乙氧基硅烷。
13.權(quán)利要求1的組合物，其中所述硅型化合物包括選自甲基硅氧烷，甲基硅倍半氧烷，苯基硅氧烷，苯基硅倍半氧烷，甲基苯基硅氧烷，甲基苯基硅倍半氧烷，硅氮烷聚合物，硅酸鹽聚合物和它們的混合物中的聚合物。
14.權(quán)利要求1的組合物，其中所述硅型化合物是選自氫硅氧烷，氫硅倍半氧烷、有機氫基硅氧烷和有機氫基硅倍半氧烷聚合物以及氫硅倍半氧烷和烷氧基氫基硅氧烷或羥基氫基硅氧烷的共聚物中的聚合物。
15.權(quán)利要求14的組合物，其中聚合物所具有的通式選自(H0-1.0SiO1.5-2.0)x，其中x大于約8，和(H0-1.0SiO1.5-2.0)n(R0-1.0SiO1.5-2.0)m，其中m大于0，n和m的總和是約8到約5000并且R是C1-C20烷基或C6-C12芳基。
16.涂料溶液，包括權(quán)利要求1的吸收性旋涂玻璃組合物和溶劑或溶劑混合物。
17.權(quán)利要求16的涂料溶液，其中溶液是約0.5wt％-約20wt％吸收性旋涂玻璃組合物的溶液。
18.權(quán)利要求17的涂料溶液，其中溶劑選自乳酸乙酯和丙二醇丙基醚。
19.制造吸收性旋涂玻璃組合物的方法，包括將選自烷氧基硅烷和鹵硅烷中的至少一種硅烷反應物、至少一種可引入的有機吸收性化合物、酸/水混合物和至少一種溶劑混合而形成反應混合物；和讓該反應混合物回流而形成吸收性旋涂玻璃組合物，其中吸收性旋涂玻璃組合物包括至少一個烷基、烷氧基、酮基或偶氮基。
20.權(quán)利要求19的方法，其中至少一種有機吸收性化合物包括至少一個苯環(huán)和反應活性基團，該反應活性基團包括羥基、胺基、羧酸基和其中硅鍵接于包括烷氧基和鹵素原子的至少一個取代基上的取代甲硅烷基。
21.權(quán)利要求19的方法，其中一種或多種有機吸收性化合物包括2，6-二羥蒽醌，9-蒽甲酸，9-蒽甲醇，茜素，醌茜，櫻草靈，2-羥基-4-(3-三乙氧基甲硅烷基丙氧基)-二苯基酮，玫紅酸，三乙氧基甲硅烷基丙基-1，8-萘二甲酰亞胺，9-蒽羧基-烷基三乙氧基硅烷，苯基三乙氧基硅烷，4-苯基偶氮苯酚，4-乙氧基苯基偶氮苯-4-羧基-甲基三乙氧基硅烷，4-甲氧基苯基偶氮苯-4-羧基-甲基三乙氧基硅烷，和它們的混合物。
22.權(quán)利要求21的方法，其中9-蒽羧基-烷基三乙氧基硅烷包括9-蒽羧基-丙基三乙氧基硅烷。
23.權(quán)利要求19的方法，其中所述至少一種硅烷反應物包括三乙氧基硅烷，四乙氧基硅烷，甲基三乙氧基硅烷，二甲基二乙氧基硅烷，四甲氧基硅烷，甲基三甲氧基硅烷，三甲氧基硅烷，二甲基二甲氧基硅烷，苯基三乙氧基硅烷，苯基三甲氧基硅烷，二苯基二乙氧基硅烷，和二苯基二甲氧基硅烷，三氯硅烷，甲基三氯硅烷，乙基三氯硅烷，苯基三氯硅烷，四氯硅烷，氯三乙氧基硅烷，氯三甲氧基硅烷，氯甲基三乙氧基硅烷，氯乙基三乙氧基硅烷，氯苯基三乙氧基硅烷，氯甲基三甲氧基硅烷，氯乙基三甲氧基硅烷，和氯苯基三甲氧基硅烷。
24.權(quán)利要求23的方法，其中所述至少一種硅烷反應物包括四乙氧基硅烷和甲基三乙氧基硅烷。
25.權(quán)利要求19的方法，其中酸/水混合物是硝酸/水混合物。
26.制造含有吸收性旋涂玻璃聚合物的涂料溶液的方法，包括將至少一種烷氧基硅烷或鹵硅烷；至少一種可引入的有機吸收性化合物；酸/水混合物；和至少一種溶劑混合而形成反應混合物；和讓該反應混合物回流而形成吸收性旋涂玻璃聚合物，其中所述吸收性旋涂玻璃組合物包括至少一個烷基、烷氧基、酮基或偶氮基。
27.權(quán)利要求26的方法，進一步包括向吸收性旋涂玻璃組合物中添加一種或多種稀釋溶劑而生產(chǎn)涂料溶液。
28.權(quán)利要求26的方法，其中所述涂料溶液是約0.5％-約20％吸收性旋涂玻璃聚合物的溶液。
29.制備9-蒽羧基-丙基三乙氧基硅烷的方法，包括將9-蒽甲酸、氯丙基三乙氧基硅烷、三乙胺和溶劑混合而形成反應混合物；讓反應混合物回流；冷卻該回流反應混合物以形成沉淀物和剩余溶液；和過濾該剩余溶液以生產(chǎn)液態(tài)9-蒽羧基-丙基三乙氧基硅烷。
30.權(quán)利要求29的方法，其中過濾剩余溶液的操作包括旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)剩余溶液；讓經(jīng)旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)的溶液通過硅膠柱；和對流過硅膠柱的溶液進行旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)。
全文摘要
紫外照相平版印刷術(shù)的抗反射涂料包括被引入到旋涂玻璃材料中的至少一種有機吸光化合物。合適的吸收性化合物在照相平版印刷術(shù)中所用的波長如365nm，248nm，193nm和157nm左右的波長范圍內(nèi)強烈地吸收。制造吸收性旋涂玻璃材料的方法包括在旋涂玻璃材料的合成過程中將至少一種有機吸收性化合物與烷氧基硅烷或鹵硅烷反應物混合。
文檔編號C09D183/08GK1615333SQ02827166
公開日2005年5月11日 申請日期2002年10月31日 優(yōu)先權(quán)日2001年11月15日
發(fā)明者T·巴爾德溫, N·哈克爾, J·肯尼迪, R·斯皮爾 申請人:霍尼韋爾國際公司