專利名稱：涂布裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是關(guān)于一種涂布裝置，特別是關(guān)于一種用于涂布光阻材料的涂布裝置。
背景技術(shù)：
在液晶顯示裝置制程工序中，需要在玻璃基板上均勻涂上一層特定厚度的光阻材料。
一種現(xiàn)有技術(shù)涂布裝置是采用刮刀涂布的方式將光阻劑涂布到玻璃基板上。如圖1所示是現(xiàn)有技術(shù)刮刀式涂布裝置的示意圖。該刮刀式涂布裝置10包括一平臺16、一刮刀式噴嘴11、一光阻材料供應(yīng)裝置12及一噴嘴清洗槽15。該平臺16用來支持并固定待涂布的基板13。該刮刀式噴嘴11設(shè)于平臺16上方并與光阻材料供應(yīng)裝置12相連。該噴嘴清洗槽15設(shè)于平臺16后端用來清洗刮刀式噴嘴11。如圖2及圖3所示，是刮刀式涂布裝置10的工作示意圖。刮刀式噴嘴11從第一位置A向第二位置B移動，此時光阻材料供應(yīng)裝置12提供的無特定形狀的光阻材料14通過刮刀式噴嘴11轉(zhuǎn)變成帶狀涂布到基板13上。當(dāng)完成一次涂布動作后，刮刀式噴嘴11需浸入噴嘴清洗槽15清洗，準(zhǔn)備進(jìn)行下一次涂布動作。
但是，采用該現(xiàn)有技術(shù)的刮刀式涂布裝置10作光阻材料涂布時，因涂布裝置10所在工作環(huán)境等因素的影響，基板13表面可能會存在一些微粒，這些微粒會造成基板13表面涂布異常，影響后制程的品質(zhì)。同時，這些微粒還可能使刮刀式噴嘴11受損刮傷。

發(fā)明內(nèi)容為了克服現(xiàn)有技術(shù)涂布過程中涂布裝置會因待涂布基板上存在的微粒而造成基板表面涂布異常以及刮刀式噴嘴受損刮傷的缺點，本發(fā)明提供一種可在涂布過程中去除待涂布基板上微粒的涂布裝置。
本發(fā)明解決技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是提供一種涂布裝置，包括一平臺、一涂布機(jī)構(gòu)及一除塵裝置，該平臺用以支持并固定待涂布的基板，該涂布機(jī)構(gòu)位于平臺上方，該除塵裝置設(shè)有一超聲波除塵器，其設(shè)于平臺上方并置于涂布機(jī)構(gòu)前方。
本發(fā)明的有益效果是與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明涂布裝置在涂布機(jī)構(gòu)前設(shè)置一超聲波除塵器，該超聲波除塵器可以在該涂布機(jī)構(gòu)進(jìn)行光阻涂布之前把基板上的微粒除去，避免微粒損傷刮刀式噴嘴，并減少涂布異常。

圖1是現(xiàn)有技術(shù)涂布裝置的平面示意圖。
圖2及圖3是圖1所示涂布裝置的工作示意圖。
圖4為本發(fā)明涂布裝置的立體示意圖。
圖5為本發(fā)明涂布裝置的工作示意圖。
具體實施方式
請參閱圖4，是本發(fā)明涂布裝置20的示意圖。該涂布裝置20包括一平臺30、一噴嘴清洗槽(圖未示)、一涂布機(jī)構(gòu)40和一除塵裝置50。
該平臺30利用真空吸附原理吸附固定待涂布的基板21。該噴嘴清洗槽設(shè)于平臺30的端部。
該涂布機(jī)構(gòu)40包括一刮刀式噴嘴41、一光阻材料供應(yīng)裝置42、一對第一支架43及一驅(qū)動裝置(圖未示)。該對第一支架43設(shè)置在平臺30的兩側(cè)，該刮刀式噴嘴41橫跨在該平臺30上方，其兩端架設(shè)在第一支架43上。該光阻材料供應(yīng)裝置42與刮刀式噴嘴41相連并向其提供待涂布的光阻材料。該驅(qū)動裝置是用來驅(qū)動該刮刀式噴嘴使其在第一支架43上作往復(fù)運動。
該除塵裝置50包括一超聲波除塵器51及一對第二支架53。該對第二支架53與第一支架43并排設(shè)置在平臺30兩側(cè)。該超聲波除塵器51置于刮刀式噴嘴41前方，并橫跨在平臺30上方，其兩端架設(shè)在第二支架53上。該超聲波除塵器51利用超聲波原理及風(fēng)刀效應(yīng)去除微粒，其設(shè)有一控制裝置511和一驅(qū)動裝置(圖未示)，該控制裝置511是用來控制超聲波除塵器51的開關(guān)，該驅(qū)動裝置用來驅(qū)動該超聲波除塵器51使其在第二支架53上作往復(fù)運動。
請一起參閱圖5，是本發(fā)明涂布裝置20的工作示意圖。利用本涂布裝置20進(jìn)行光阻材料涂布時，把待涂布的基板21吸附在平臺30上，使超聲波除塵器51在驅(qū)動裝置的驅(qū)動下從位置A移動到位置B，同時利用控制裝置511開啟該超聲波除塵器51，讓其處于工作狀態(tài)，把基板21上的微粒清除。隨后刮刀式噴嘴41也在驅(qū)動裝置的驅(qū)動下從位置A移動到位置B，在其移動的過程中，把由光阻材料供應(yīng)裝置42提供的光阻材料均勻涂布在基板21上。當(dāng)本次涂布動作完成后，刮刀式噴嘴41和超聲波除塵器51返回，并將刮刀式噴嘴41浸入噴嘴清洗槽內(nèi)清洗，準(zhǔn)備下一次涂布動作。
本發(fā)明涂布裝置20在刮刀式噴嘴41前設(shè)置一超聲波除塵器51，因此可以在該涂布裝置20進(jìn)行光阻涂布之前將基板21上的微粒去除，這樣就可避免微粒損傷刮刀，同時減少涂布異常。
權(quán)利要求
1.一種涂布裝置，包括一平臺及一涂布機(jī)構(gòu)，該平臺用以支持并固定待涂布的基板，該涂布機(jī)構(gòu)位于平臺上方，其特征在于進(jìn)一步包括一除塵裝置，其設(shè)有一超聲波除塵器，該超聲波除塵器設(shè)于平臺上方并置于涂布機(jī)構(gòu)前方。
2.如權(quán)利要求1所述的涂布裝置，其特征在于該涂布機(jī)構(gòu)包括一刮刀式噴嘴及一光阻材料供應(yīng)裝置，該刮刀式噴嘴位于平臺上方，該光阻材料供應(yīng)裝置與刮刀式噴嘴相連。
3.如權(quán)利要求1所述的涂布裝置，其特征在于該超聲波除塵器設(shè)有一控制裝置。
4.如權(quán)利要求1所述的涂布裝置，其特征在于該涂布機(jī)構(gòu)進(jìn)一步包括一對第一支架，該對第一支架設(shè)于平臺兩側(cè)，該刮刀式噴嘴兩端架設(shè)于該對第一支架上。
5.如權(quán)利要求1所述的涂布裝置，其特征在于該除塵裝置進(jìn)一步包括一對第二支架，該第二支架與第一支架并排設(shè)置于平臺兩側(cè)，該超聲波除塵器的兩端架設(shè)于第二支架上。
6.如權(quán)利要求4所述的涂布裝置，其特征在于該涂布裝置設(shè)有一驅(qū)動裝置，驅(qū)動刮刀式噴嘴在第一支架上作往復(fù)運動。
7.如權(quán)利要求5所述的涂布裝置，其特征在于該超聲波除塵器設(shè)有一驅(qū)動裝置，驅(qū)動超聲波除塵器在第二支架上作往復(fù)運動。
全文摘要
本發(fā)明提供一種涂布裝置，包括一平臺、一涂布機(jī)構(gòu)及一除塵裝置，該平臺用以支持并固定待涂布的基板，該涂布機(jī)構(gòu)位于平臺上方，該除塵裝置設(shè)有一超聲波除塵器，其設(shè)于平臺上方并置于涂布機(jī)構(gòu)前方。該超聲波除塵器可在該涂布裝置進(jìn)行光阻涂布前將基板上的微粒除去，避免微粒損傷刮刀式噴嘴并減少涂布異常。
文檔編號B05C5/02GK1695822SQ200410027228
公開日2005年11月16日 申請日期2004年5月10日 優(yōu)先權(quán)日2004年5月10日
發(fā)明者鄧振坤, 王敬龍, 許文誠, 詹育穎, 曾增魁, 謝和利 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 群創(chuàng)光電股份有限公司