專利名稱：圖形形成方法及布線圖形形成方法，電光學裝置及電子設備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及在基材上形成薄膜圖形的圖形形成方法，以及使用該薄膜圖形的布線圖形的形成方法，電光學裝置及電子設備。
背景技術(shù)：
在現(xiàn)有技術(shù)中，作為具有半導體集成電路等的微細的布線圖形的器件的制造方法，大多采用光刻法，但利用液滴噴出法(噴墨法)的器件的制造方法正在引起人們的注意。在利用液滴噴出法形成微細的布線的情況下，為了提高圖形線寬的精度，有人提出了在基材上預先形成疏液區(qū)域和親液區(qū)域的圖形，將液滴選擇性地配置在親液區(qū)域的方法。在下面所述的特開2000-282240號公報，公開了一種利用化學氣相蒸鍍法，將設置在基板上的單分子膜圖形化的技術(shù)。
不過，在上述現(xiàn)有技術(shù)中，存在著以下的問題。上述特開2000-282240號公報公開的技術(shù)，通過照射短波長的紫外線或電子束，從基板上除去單分子膜，形成圖形。這時因為，形成圖形的單分子膜吸收帶處于短波長處，利用沒有吸收帶的長波長的紅外線等，即使用具有多高能量的光照射，也很難進行圖形的形成。因此，為了進行單分子膜等的有機薄膜的圖形形成，需要真空紫外線照射或電子射線等價格昂貴的大型設備。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明鑒于上述情況，其目的是提供一種利用簡單低成本的方法，可以將薄膜以高精度形成圖形的圖形形成方法。進而，其目的是，提供一種使用該薄膜形成布線圖形的布線圖形的形成方法，具有該布線圖形的電光學裝置及電子設備。
為了解決上述課題，本發(fā)明的圖形的形成方法，其特征在于，在包含升華性材料的基材上設置薄膜，通過將光照射到前述基材上，利用由前述光的照射產(chǎn)生的熱使所需區(qū)域的前述升華性材料升華，除去對應于前述光照射的照射區(qū)域的前述薄膜，對該薄膜進行圖形化。這里，前述升華材料包含升華性色素。前述薄膜包括有機薄膜，單分子膜，以及含有光引發(fā)劑的單體。根據(jù)本發(fā)明，通過在基材上或基材內(nèi)設置升華性材料，利用照射的光，將所需的區(qū)域的升華性材料加熱，通過該升華性材料的升華，可以將所需區(qū)域的薄膜氣化或分解，可以對薄膜進行圖形化。從而，即使是利用薄膜不具有直接吸收帶的光，也可以用升華性材料或光熱轉(zhuǎn)換材料所具有的吸收帶形成圖形，可以簡單并且以高分辨率對薄膜進行圖形化，即，根據(jù)本發(fā)明，可以拓寬所使用的光照射裝置的選擇范圍，即使不用高價大型的光照射裝置，也可以很好地從基材上除去薄膜，高精度地形成圖形。
此外，本發(fā)明的圖形的形成方法，其特征在于，在包含有氣體發(fā)生材料的基材上設置薄膜，通過將光照射到前述基材上，利用前述光的照射從所需區(qū)域的前述氣體發(fā)生材料中發(fā)生氣體，除去對應于前述光照射的照射區(qū)域的前述薄膜，對該薄膜進行圖形化。根據(jù)本發(fā)明，通過在基材上或基材中設置氣體發(fā)生材料，利用照射的光使之從所需的區(qū)域發(fā)生其氣體，通過該其氣體的發(fā)生，可以將所需區(qū)域的薄膜從基材上除去，能夠?qū)Ρ∧みM行圖形化。從而，即使是利用薄膜不具有直接吸收帶的光，也可以用升華性材料或光熱轉(zhuǎn)換材料所具有的吸收帶形成圖形，可以簡單并且以高分辨率對薄膜進行圖形化。即，根據(jù)本發(fā)明，可以拓寬所使用的光照射裝置的選擇范圍，即使不用真空紫外線照射及電子射線等高價大型的光照射裝置，也可以很好地從基材上除去薄膜，高精度地形成圖形。
在本發(fā)明的圖形的形成方法中，前述升華性材料，也可以在前述基材的表面?zhèn)然虮趁鎮(zhèn)龋鳛榕c前述基材及前述薄膜獨立的升華性色素層形成。此外，前述升華性色素層，也可以采用設置在前述基材的設置前述薄膜的一側(cè)的結(jié)構(gòu)，或者，前述升華性色素層，也可以采用與前述薄膜鄰接設置的結(jié)構(gòu)。此外，前述升華性色素層也可以采用設置在前述基材與前述薄膜之間的結(jié)構(gòu)，或者，也可以采用前述升華性材料混合存在于前述基材上的結(jié)構(gòu)。在任何一種結(jié)構(gòu)中，都可以利用照射的光光能使升華性材料升華，借助這種升華，將所需區(qū)域的薄膜氣化或分解。這里，通過將升華性色素層和薄膜鄰接地設置，可以使升華區(qū)域和將薄膜氣化或分解的區(qū)域高精度地一致，能夠以更高的分辨率對薄膜進行圖形化。
在本發(fā)明的圖形的形成方法中，優(yōu)選地，前述基材包含有將光能轉(zhuǎn)換成熱能的光熱轉(zhuǎn)換材料。這樣，通過將光照射到基材的所需區(qū)域上，光熱轉(zhuǎn)換材料以更高的效率將該光能轉(zhuǎn)換成熱能，可以將該熱能供應給所需區(qū)域的升華性材料。因此，即使不用電子束或紫外線等高能源，也可以簡單地獲得使升華性材料升華、除去薄膜用的足夠的熱能。從而，根據(jù)本發(fā)明，進一步拓寬使用的光照射裝置的選擇范圍，即使不用高價大型的光照射裝置及掩模，也沒有從基材上更好地除去薄膜，更高精度地形成圖形。
在本發(fā)明的圖形的形成方法中，包含前述光熱轉(zhuǎn)換材料的光熱轉(zhuǎn)換層，可以采用與前述薄膜及前述升華性色素層獨立設置的結(jié)構(gòu)，也可以采用前述光熱轉(zhuǎn)換材料混合存在于前述基材中的結(jié)構(gòu)，在任何一種結(jié)構(gòu)中，都能夠?qū)⒐獾墓饽苻D(zhuǎn)換成熱能，將該熱能提供給升華性色素層。這里，優(yōu)選地，前述光熱轉(zhuǎn)換層和前述升華性色素層鄰接地設置。這樣，可以使由于光的照射發(fā)熱的部位和升華性色素層貼緊，將熱能高效率地供應給升華性色素層的同時，能夠以高精度使升華性色素層的所需區(qū)域升華。
在本發(fā)明的圖形的形成方法中，在采用獨立地設置光熱轉(zhuǎn)換層的結(jié)構(gòu)的情況下，可以采用前述光熱轉(zhuǎn)換層設置在前述基材的設置前述薄膜的一側(cè)的結(jié)構(gòu)，或者，也可以采用前述基材的不設置前述薄膜的另一側(cè)的結(jié)構(gòu)。此外，也可以采用前述光熱轉(zhuǎn)換層設置在前述基材與前述薄膜之間的結(jié)構(gòu)。從而，本發(fā)明的圖形的形成方法，可以通過在前述基材的表面或背面的至少其中之一上形成前述光熱轉(zhuǎn)換層，在前述光熱轉(zhuǎn)換層的上面形成升華性色素層，在前述升華性色素層的上面形成前述薄膜，然后進行前述光的照射的步驟來實行。這樣，利用光的照射，在光熱轉(zhuǎn)換層的所需區(qū)域上產(chǎn)生熱，將該熱提供給升華性色素層的所需區(qū)域，將該升華性色素層的所需區(qū)域升華，通過這種升華，除去薄膜的所需區(qū)域，形成圖形。這里，由于薄膜是對外部敞開的狀態(tài)(露出狀態(tài))，所以，可以將利用升華除去的薄膜順滑地排出。
在本發(fā)明的圖形的形成方法中，可以采用從前述基材的設置前述薄膜的一側(cè)照射前述光的方法，也可以采用從前述基材的不設置前述薄膜的另一側(cè)照射前述光的方法。在從一側(cè)照射光的情況下，由于不經(jīng)過基材將光照射到升華性色素層或光熱轉(zhuǎn)換層等上，所以，例如，不會發(fā)生由于經(jīng)過基材引起的衍射或散射等造成的光照射位置的偏移等，可以將光照射到所需的位置，以所需的圖形高精度地對薄膜進行圖形化。此外，在從另一側(cè)照射光的情況下，通過將升華性色素層(及光熱轉(zhuǎn)換層)設置在基材和薄膜之間，光可以不經(jīng)過薄膜，經(jīng)由基材直接對升華性色素層(及光熱轉(zhuǎn)換層)照射，可以高效率地將光能轉(zhuǎn)換成熱能，可以將該熱能提供給升華性色素層。
在本發(fā)明的圖形的形成方法中，可以根據(jù)前述薄膜，前述升華性色素層，前述光熱轉(zhuǎn)換層以及前述基材的至少其中之一的透光率，決定從前述一側(cè)和另一側(cè)的哪一側(cè)照射前述光。例如，可以在基材的透光率非常低的情況下，從前述一側(cè)(基材的表面?zhèn)?照射光，在基材的透光率高、薄膜的透光率低的情況下，從另一側(cè)(基材的背面?zhèn)?照射光。即，例如，相對于照射的光的波長，薄膜是吸收該波長的光的材料時，在采用薄膜下側(cè)設置升華性色素層及光熱轉(zhuǎn)換層的結(jié)構(gòu)的情況下，當從薄膜的上層側(cè)直接照射光時，存在著該光被薄膜吸收、產(chǎn)生不能到達下層側(cè)的光熱轉(zhuǎn)換層的不當之處的可能性。因此，在這種情況下，可以決定從薄膜的下層側(cè)(基材的背面?zhèn)?照射光。
在本發(fā)明的圖形的形成方法中，也可以將前述光熱轉(zhuǎn)換材料混合存在于前述升華性色素層中。這樣，當升華性材料升華時，光熱轉(zhuǎn)換材料也一起升華，可以將該光熱轉(zhuǎn)換材料從基材上除去。
在本發(fā)明的圖形的形成方法中，也可以采用在前述基材或前述光熱轉(zhuǎn)換層與前述升華性色素層之間，設置包含有通過光照射或加熱發(fā)生氣體的氣體發(fā)生材料的氣體發(fā)生層的結(jié)構(gòu)。這樣，只通過光的照射，只通過加熱，或者通過光照射和加熱兩者，使之發(fā)生氣體，可以對薄膜進行圖形化。
在本發(fā)明的圖形的形成方法中，優(yōu)選地，前述光是激光，具有對應于前述升華性材料及前述光熱變換材料至少其中之一的波長。借此，可以高效率地將照射到前述升華性材料或前述光熱轉(zhuǎn)換材料的光能轉(zhuǎn)換成熱能。特別是，作為光通過利用紅外線激光，可以制成比較廉價地裝置的結(jié)構(gòu)。此外，在前述光的照射中，優(yōu)選地，將該光聚焦在前述升華性色素層或前述光熱轉(zhuǎn)換層上。這樣，可以將光能以高精度且高分辨率提供給升華性色素層或光熱轉(zhuǎn)換層，可以簡單地形成高分辨率的薄膜圖形。
在本發(fā)明的布線圖形的形成方法中，其特征在于，在具有利用上面所述的圖形形成方法形成的薄膜圖形的前述基材上，形成布線圖形。進而，在本發(fā)明的布線圖形的形成方法中，包括在形成前述薄膜圖形的基材上，配置包含布線圖形形成用材料的液滴的工序。根據(jù)本發(fā)明，基于液滴噴出法，在抑制消耗材料的浪費的同時，可以很好地以高分辨率形成微細的布線圖形。
本發(fā)明的電光學裝置，其特征在于，它具有利用上述布線形成方法形成的布線圖形。此外，本發(fā)明的電子設備，其特征在于，它具有上述電光學裝置。根據(jù)本發(fā)明，可以提供基于利用液滴噴出法形成的微細的布線圖形，可以發(fā)揮所需性能的電光學裝置及具有該電光學裝置的電子設備。此外，作為電光學裝置，可以列舉出液晶顯示裝置，有機EL(electroluminescence場致發(fā)光)顯示裝置，以及等離子體顯示裝置等。
此外，使用利用根據(jù)本發(fā)明的圖形的形成方法形成的薄膜圖形，可以形成濾色片，液晶顯示裝置，有機EL裝置，等離子體顯示裝置，微型透鏡，以及DNA芯片等各種結(jié)構(gòu)部件。
上述液滴噴出法，使用備有噴出頭的液滴噴出裝置來實現(xiàn)，該液滴噴出裝置包括配備有噴墨頭的噴墨裝置。噴墨裝置的噴墨頭利用噴墨法能夠定量地噴出含有功能液的液體材料的液滴，例如，是一種能夠定量地斷續(xù)地滴下每一個點1～300毫微克液體材料的裝置。此外，作為液滴噴出裝置，也可以是分配器裝置。
所謂液體材料，是指具有能夠從液滴噴出裝置的噴出頭的噴嘴噴出來(能夠滴下)的粘度的介質(zhì)。不管是水性的還是油性的。只要具有能夠從噴嘴等噴出來的流動性(粘度)即可，即使混入固體物質(zhì)，只要作為整體是流動體即可。此外，包含在液體材料中的材料，可以是加熱到熔點以上熔化的材料，也可以是作為微粒子在溶劑中攪拌獲得的材料，除溶劑之外，也可以添加染料或顏料等其它功能性材料。
此外，上述功能液，是包含有功能性材料的液體材料，通過配置在基材上，發(fā)揮規(guī)定的功能。作為功能性材料，可以列舉出形成包含濾色片的液晶顯示裝置用的液晶顯示裝置形成用材料，形成有機EL(electroluminescence場致發(fā)光)顯示裝置用的有機EL顯示裝置形成用材料，形成等離子體顯示裝置用的等離子體顯示裝置形成用材料，以及包含形成電流流過用的布線圖形用的金屬的布線圖形形成用材料等。


圖1是表示用于本發(fā)明的圖形的形成方法的圖形形成裝置的一種實施形式的簡略結(jié)構(gòu)圖。
圖2是表示本發(fā)明的圖形的形成方法的一種實施形式的示意圖。
圖3是表示本發(fā)明的圖形的形成方法的另外一種實施形式的示意圖。
圖4是表示本發(fā)明的圖形的形成方法的另外一種實施形式的示意圖。
圖5是表示本發(fā)明的薄膜的形成步驟的一個例子的示意圖。
圖6是表示用于本發(fā)明的圖形的形成方法的圖形形成裝置的另外一種實施形式的簡略結(jié)構(gòu)圖。
圖7是表示本發(fā)明的布線圖形的形成方法的一種實施形式的示意圖。
圖8是表示用于本發(fā)明的布線圖形的形成方法的噴出頭的簡略結(jié)構(gòu)圖。
圖9是表示具有利用本發(fā)明的布線圖形的形成方法形成的布線圖形的電光學裝置的一個例子的等離子體顯示器的分解立體圖。
圖10是表示使用利用本發(fā)明的圖形的形成方法形成的薄膜制造的電光學裝置的一個例子的圖示，是表示液晶顯示裝置的濾色片的制造工藝的一個例子的圖示。
圖11是表示使用利用本發(fā)明的圖形的形成方法形成的薄膜制造的電光學裝置的一個例子的圖示，是表示有機EL顯示裝置側(cè)視圖。
圖12是表示具有本發(fā)明的電光學裝置的電子設備的一個例子的圖示。
圖13是表示使用本發(fā)明的薄膜圖形形成微型透鏡的步驟的示意圖。
圖14是表示使用本發(fā)明的薄膜圖形形成基因芯片的一種實施形式的示意圖。
圖中1…基材，2…薄膜(單分子膜)，3…除去區(qū)域，4…光熱轉(zhuǎn)換層，5…升華性色素層，11…光源，15…掩模，20…噴出頭。
具體實施例方式
<薄膜圖形的形成方法>
下面，參照附圖對本發(fā)明的圖形的形成方法進行說明。圖1是用于本發(fā)明的薄膜圖形的形成方法的圖形形成裝置的一種實施形式的簡略結(jié)構(gòu)圖。在圖1，圖形形成裝置10，包括射出具有規(guī)定的波長的激光光束的激光光源11，支撐作為處理對象基材1的載物臺12。在基材1的上表面上，設置光熱轉(zhuǎn)換層4，在該光熱轉(zhuǎn)換層4的上層設置升華性色素層5，在該升華性色素層5的上層設置薄膜2。在該基材1(上表面?zhèn)鹊母鱾€層)結(jié)構(gòu)中，也可以省略光熱轉(zhuǎn)換層4，在基材1的上面設置升華性色素層5，在該升華性色素層5的上層設置薄膜2。在本實施形式中，作為激光光源11，使用近紅外半導體激光器(波長830nm)。
這里，在下面的說明中，將水平面內(nèi)規(guī)定的方向作為X軸方向，在水平面內(nèi)與X軸垂直的方向作為Y軸方向，將分別垂直于X軸及Y軸的方向(鉛直方向)作為Z軸方向。
載物臺12，在支撐基材1的狀態(tài)下，可沿著X軸方向及Y軸方向移動地設置，基材1，借助載物臺12的移動，可以相對于從光源11射出的光束移動。此外，載物臺12也能夠沿著Z軸方向移動。這里，在光源11和被支撐在載物臺12上的基材1之間，配置圖中未示出的光學系統(tǒng)。通過支撐基材1的載物臺12沿Z軸方向移動，可以調(diào)整基材1相對于前述光學系統(tǒng)的焦點的位置。同時，從光源11出射的光束，照射在支撐于載物臺1上的基材1(光熱轉(zhuǎn)換層4)上。前述光學系統(tǒng)的焦點，優(yōu)選地位于光熱轉(zhuǎn)換層4上。在如上所述，將光熱轉(zhuǎn)換層4省略的情況下，優(yōu)選地，使前述光學系統(tǒng)的焦點位于升華性色素層5上。
此外，這里，將基材1沿XY方向平移移動地支撐在載物臺12上，但在將基材1保持在旋轉(zhuǎn)滾筒上的情況下，例如，將光源11的掃描方向作為X軸方向，將旋轉(zhuǎn)滾筒的旋轉(zhuǎn)方向作為Y軸方向。
作為基材1，例如，可以利用玻璃基板或透明性高分子等。作為透明性高分子，例如能夠采用玻璃基板或透明性高分子等。作為透明性高分子，可列舉如聚對苯二甲酸乙二醇酯的聚酯、聚酰亞胺、聚丙烯酸、聚環(huán)氧、聚乙烯、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚砜等。在由透明性高分子形成基材1的時候，其厚度優(yōu)選在10～500μm。如此，例如，能夠?qū)⒒?形成帶狀，卷成滾筒狀，也能夠保持在旋轉(zhuǎn)圓盤等上搬送(移動)。
光熱轉(zhuǎn)換層4，與基材1，升華性色素層5及薄膜2獨立設置，在本實施形式中，設置在基材1的設置薄膜2的表面?zhèn)?，具體地說，設置在基材1與升華性色素層5之間。光熱轉(zhuǎn)換層4，是包含有將光能轉(zhuǎn)換成熱能的光熱轉(zhuǎn)換材料的層。作為構(gòu)成光熱轉(zhuǎn)換層4的光熱轉(zhuǎn)換材料，可以使用公知的材料，只要是能夠有效地將激光轉(zhuǎn)換成熱的材料即可，沒有特定的限制，例如，可列舉由鋁、其氧化物及/或其硫化物構(gòu)成的金屬層，或由添加炭黑、石墨或紅外線吸收色素等的高分子構(gòu)成的有機層等。作為紅外線吸收色素，舉出蒽醌系、二硫代鎳配位體系、花青系、偶氮鈷配位化合物系、二銨系(diiminium)、squalirium系、酞箐系、萘菁系等。此外，也可以將環(huán)氧樹脂等合成樹脂作為粘結(jié)劑，將前述光熱轉(zhuǎn)換材料溶解或分散在該粘結(jié)劑樹脂中，設置在基材1上。此外，不言而喻，也可以不溶解或分散在粘結(jié)劑中，將前述光熱轉(zhuǎn)換材料設置在基材1上。
在作為光熱轉(zhuǎn)換層4使用前述金屬層的情況下，可以利用真空蒸鍍法，電子束蒸鍍法，或者濺射法形成在基材1上。在作為光熱轉(zhuǎn)換層4使用前述有機層的情況下，可以采用一般的薄膜涂敷方法形成在基材1上，例如，利用擠壓涂敷方法，旋轉(zhuǎn)涂敷方法，凹板印刷涂敷方法，逆轉(zhuǎn)輥涂敷方法，棒涂法、微逆轉(zhuǎn)輥涂敷法、刮板涂敷法等在基材1上形成。
升華性色素層5，與基材1，光熱轉(zhuǎn)換層4基薄膜2獨立設置。同時，在本實施形式中，升華性色素層5設置在基材1的設置薄膜2的表面?zhèn)?，具體地說，設置在光熱轉(zhuǎn)換層4和薄膜2之間。構(gòu)成升華性色素層5的升華性色素，具有被加熱時升華，使色素氣化排出的性質(zhì)。利用這種性質(zhì)的升華復制方式，在現(xiàn)有技術(shù)中，作為圖像打印裝置等使用。此外，最近，升華性色素，作為最適合于從數(shù)字照相機中打印出圖像的方法的打印方式，正在引起人們的注意。利用這種升華性色素的記錄方式的基礎，是作為纖維染色法之一的升華印染(在高溫下是色素氣化的染色方法)。以用于這種升華印染的稱作分散染料的著色劑為線索，使用對色彩，靈敏度(升華性)在粘結(jié)劑樹脂中的溶解性等進行改進的材料。
其次，對于構(gòu)成升華性色素層5的升華性色素的例子，列舉出升華記錄用的三原色的例子。作為黃(Y)，使用羥基吡啶偶氮系材料，二氰基苯乙烯系材料，喹諾酞酮系材料。作為品紅(M)，使用蒽醌系材料，三氰基苯乙烯系材料，苯偶氮系材料。作為藍色(C)使用蒽醌系材料，靛酚系材料，靛萘酚系材料等。
當加熱升華性色素層5的所需區(qū)域使之升華時，與該升華同時，可以將對應于該所需區(qū)域的部位的薄膜2在物理學上使之氣化或者分解。
在基材1的上面，設置光熱轉(zhuǎn)換層4，作為在該光熱轉(zhuǎn)換層4的上層設置的升華性色素層5的材料，例如，有激光熱復制打印機用的薄膜(Imation制)。這種激光熱復制打印機用薄膜，在聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)中具有光熱轉(zhuǎn)換層，在其上涂布升華性色素構(gòu)成。此外，對于這種激光熱復制用打印機用薄膜，優(yōu)選地，在大氣壓等離子體中以10[mm/s]進行處理，進行表面改性。
薄膜2由有機薄膜構(gòu)成，在升華性色素層5(基材1)上，例如，可以利用化學氣相蒸鍍法，浸漬法，蒸鍍法，旋轉(zhuǎn)澆注法，化學吸附法，自組織膜形成方法等形成。在本實施形式中，薄膜2(有機薄膜)由氟烷基硅烷(FAS)構(gòu)成的單分子膜構(gòu)成。此外，作為形成單分子膜的材料，例如，可以列舉出十七氟-1，1，2，2，-四氫癸基三甲氧基硅烷(FAS-17)，或者用作表面活性劑的十八烷基胺等。
此外，作為薄膜2的形成方法可以采用一般的方法，例如，擠壓涂敷方法，旋轉(zhuǎn)涂敷方法，凹板印刷涂敷方法，逆轉(zhuǎn)輥涂敷方法，棒涂敷法，微型凹板印刷涂敷方法等，形成在升華性色素層5(基材1)上。在這種情況下的薄膜2的涂敷方法中，優(yōu)選地，除去基材1的表面上所帶的靜電，在基材1上均勻地形成薄膜形成用功能液，優(yōu)選地在各種方法中使用的裝置上安裝去靜電裝置。
其次，說明在上述激光熱復制打印機用的薄膜(在基材1的上面設置光熱轉(zhuǎn)換層4，在該光熱轉(zhuǎn)換層4上設置升華性色素層5的薄膜)上，形成薄膜2的方法的一個例子。首先，在特氟龍(注冊商標，聚四氟乙烯)制的容器中，裝入已裝有FAS-17的容器和經(jīng)過表面改性的上述激光熱復制打印機用薄膜。然后，將上述整個特氟龍(注冊商標)制的容器置于電爐中，將電爐內(nèi)的溫度上升到80℃，保持2小時。然后，從電爐中取出特氟龍(注冊商標)制的容器，放置一夜。借此，蒸鍍的FAS-17化學氣相蒸鍍到激光熱復制打印機用薄膜上，形成有機薄膜(薄膜2)。
例如，對上述形成在激光熱復制打印機用薄膜上的薄膜2，利用CTR用板調(diào)節(jié)器，將波長830nm的近紅外半導體激光(輸出11W)，以滾筒的旋轉(zhuǎn)速度130rpm，照射到任意位置上。這樣，升華性色素的顏色消失，變成看到激光熱復制打印機用薄膜本身的顏色，確認升華性色素(升華性色素層5)被除去。此外，由于在近紅外半導體激光照射后的激光熱復制打印機用薄膜表面對水的接觸角(親液性、疏液性)的變化，從109度，變成72度，所以，可以確認，在將升華性色素層5除去的同時，也將薄膜2除去。
其次，參照圖2上面說明圖形的形成步驟。如圖2(a)所示，從基材1設置薄膜2的上面(表面)側(cè)起，照射具有規(guī)定的光束直徑的激光光束。通過照射激光光束，加熱對應于該照射位置的基材1以及基材1上的光熱轉(zhuǎn)換層4。光熱轉(zhuǎn)換層4吸收所照射的激光光束，將該光能轉(zhuǎn)換成熱能。由光熱轉(zhuǎn)換層4生成的熱能，將與該光熱轉(zhuǎn)換層4相鄰的升華性色素層5的一部分升華，借助這種升華，將薄膜2的一部分氣化或分解，從基材1上選擇性地將其除去。借此，如圖2(b)所示，將對應于光照射的照射區(qū)域(照射位置)的薄膜2的一部分及升華性色素層5的一部分從基材1上除去，對薄膜2進行圖形化。
通過照射光，在除去薄膜2及升華性色素層5的除去區(qū)域3上，露出光熱轉(zhuǎn)換層4(此外，在后面圖4的實施形式中，露出基材1)。這里，在光熱轉(zhuǎn)換層4(基材1)上形成薄膜2及升華性色素層5之前，對光熱轉(zhuǎn)換層4(基材1)進行親液化處理，通過照射光，具有親液性的光熱轉(zhuǎn)換層4(基材1)露出。此外，作為親液化處理，包括紫外線(UV)照射處理，O2等離子體處理等。同時，由于由FAS(或(FAS-17)構(gòu)成的薄膜(單分子膜2)具有疏液性，所以，通過對薄膜2進行圖形化，在基材1上形成疏液區(qū)域和親液區(qū)域。
這時，通過沿著XY平面使載物臺12對于照射的激光光束移動，描繪出與該載物臺12的移動軌跡對應的除去區(qū)域3。這樣，在基材1上形成薄膜圖形。
如上面說明的，通過在基材1上設置包含光熱轉(zhuǎn)換材料的光熱轉(zhuǎn)換層4，在光熱轉(zhuǎn)換層4上設置色素層5，可以將照射的光的光能高效率地轉(zhuǎn)換成熱能，將該熱能供應給升華性色素層5，通過該升華性色素層5的升華，可以將除去區(qū)域3的薄膜2氣化或者分解，可以對薄膜2進行圖形化。因此，即使不象現(xiàn)有技術(shù)那樣用薄膜本身具有的吸收帶的波長照射光，也能夠形成圖形。此外，所需的能量即使不是除去薄膜2用的能量，而是用升華性色素層5的升華所必須的能量就可以對薄膜2進行圖形化。從而，拓寬所使用的光照射裝置的選擇范圍，即使不用高價大型的光照射裝置，也可以從基材1上很好地、并且以高分辨率除去薄膜2，形成圖形。
此外，也可以用含有光引發(fā)劑的單體形成薄膜2。通過激光光束的照射，可以從基材1上除去單體。從而，在基材1上涂布含有光引發(fā)劑及單體的涂液(功能液)，通過激光照射形成薄膜圖形后，通過對應于光引發(fā)劑的光照射，進行聚合(光固化)可以制成形成圖形的薄膜2。此外，含有光引發(fā)劑及單體的涂液，可以利用上面所述的一般的薄膜涂敷方法(旋轉(zhuǎn)涂敷方法，凹板印刷涂敷方法，逆轉(zhuǎn)輥涂敷方法，棒涂敷法，微型凹版印刷涂敷方法等)涂布到升華性色素層5上。
此外，優(yōu)選地，形成薄膜2(有機薄膜)的化合物，在其一部分上具有與基材1(升華性色素層5)產(chǎn)生化學相互作用(氫鍵，靜電相互作用，酸堿相互作用，疏水性相互作用，共價鍵等)的官能團。作為官能團，可以列舉出醛基，酮基，酰胺基，酰亞胺等。或者，也可以是烷氧基，鹵素，烷基，具有氨基的硅基等。進而，也可以是銨基，吡啶鎓基等離子性基團。
此外，在本實施形式中，通過移動支撐基材1的載物臺12，在基材1上描繪除去區(qū)域3，但是，不言而喻，也可以在使基材1停止的狀態(tài)下，移動光束，也可以同時移動基材1和光束兩者。此外，在移動基材1的情況下，除用載物臺12在XY平面內(nèi)移動的結(jié)構(gòu)之外，也可以采用如上面所述的在保持在旋轉(zhuǎn)滾筒上的狀態(tài)下將其移動的結(jié)構(gòu)。
如圖3所示，在將光熱轉(zhuǎn)換層4及升華性色素層5設置在基材1和薄膜2之間的情況下，可以從基材1沒有設置薄膜2的背面?zhèn)?，對基?照射光束。在這種情況下，基材1由能夠透射光束的透明材料形成。借此，可以將光經(jīng)由基材1直接照射到光熱轉(zhuǎn)換層4上，光熱轉(zhuǎn)換層4順利地將照射的光的光能轉(zhuǎn)換成熱能，可以將對應于鄰接的升華性色素層5的照射區(qū)域(照射位置)的升華性色素層5及薄膜2的一部分除去，形成圖形。此外，通過將光熱轉(zhuǎn)換層4及升華性色素層5設置在基材1和薄膜2之間，使薄膜2處于對外部敞開的狀態(tài)(露出狀態(tài))，將對應于光照射區(qū)域的薄膜2的一部分順利地排放到外部。
此外，在采用從基材1的背面?zhèn)冉?jīng)由基材1將光照射到光熱轉(zhuǎn)換層4上的結(jié)構(gòu)的情況下，由于光通過基材1時有可能發(fā)生散射(衍射)，所以，優(yōu)選地，預先計測其散射狀態(tài)，為了將光照射到光熱轉(zhuǎn)換層4的所需位置上，根據(jù)前述計測結(jié)果，一面調(diào)整照射條件，一面從基材1的背面?zhèn)日丈涔?。此外，也可以從基?的表面?zhèn)群捅趁鎮(zhèn)葍蓚?cè)照射光。
此外，也可以根據(jù)薄膜2，升華性色素層5，光熱轉(zhuǎn)換層4或基材1的特性(材料特性，例如，透光率等)，決定從基材1的表面?zhèn)燃氨趁鎮(zhèn)鹊哪囊粋?cè)照射光。例如，相對照射的光的波長而言，薄膜2是吸收該波長的光的材料時，如圖2所示，當從表面?zhèn)日丈涔鈺r，有可能造成該光被薄膜2吸收，不能達到下層側(cè)的光熱轉(zhuǎn)換層4(或升華性色素層5)的不當之處。因此，在這種情況下，可以決定從基材1的背面?zhèn)日丈涔狻?br> 如圖4所示，也可以采用將光熱轉(zhuǎn)換層4設置在基材1的不設置薄膜2及升華性色素層5的背面?zhèn)鹊慕Y(jié)構(gòu)。在這種情況下，優(yōu)選地，光從基材1的背面?zhèn)?設置光熱轉(zhuǎn)換層4的一側(cè))照射。這時，為了很好地將光熱轉(zhuǎn)換層4產(chǎn)生的熱能傳遞給設于表面?zhèn)鹊纳A性色素層5上，基材1恰當?shù)剡x擇其厚度和材料。此外，也可以將光熱轉(zhuǎn)換層4設置在基材1的表面?zhèn)燃氨趁鎮(zhèn)葍蓚?cè)。
此外，在參照圖1～圖4說明的實施形式中，光熱轉(zhuǎn)換材料設置在與基材1、升華性色素層5及薄膜2獨立的層(光熱轉(zhuǎn)換層4)上，但也可以采用將光熱轉(zhuǎn)換材料混合存在于基材1內(nèi)的結(jié)構(gòu)，也可以采用將光熱轉(zhuǎn)換材料混合存在于薄膜2內(nèi)的結(jié)構(gòu)。在這種結(jié)構(gòu)中，可以將照射的激光的光能轉(zhuǎn)換成熱能，將該熱能提供給升華性色素層5。此外，也可以在光熱轉(zhuǎn)換材料混合存在的基材1上，與之分開地設置光熱轉(zhuǎn)換層4。
此外，在參照圖1～圖4說明的實施形式中，升華性色素，設置在與基材1，光熱轉(zhuǎn)換層4及薄膜2獨立的層(升華性色素層5)上，但也可以采用使光熱轉(zhuǎn)換材料及升華性色素混合存在于基材1中的結(jié)構(gòu)，也可以采用使升華性色素混合存在于薄膜2中的結(jié)構(gòu)。在這些結(jié)構(gòu)中，利用照射的光，將所需區(qū)域的升華性色素加熱，通過該升華性色素的升華，可以將所需區(qū)域的薄膜2氣化或分解，可以對薄膜2進行圖形化。
此外，也可以使光熱轉(zhuǎn)換材料混合存在于升華性色素層5中。這樣，在升華性色素升華時，光熱轉(zhuǎn)換材料也一起升華，可以將該光熱轉(zhuǎn)換材料從基材1上除去。
另一方面，在將包含光熱轉(zhuǎn)換材料的光熱轉(zhuǎn)換層4和升華性色素層5和薄膜2分開設置時，在照射光后，有時會在基材1上殘留光熱轉(zhuǎn)換層4，但是，例如在殘留光熱轉(zhuǎn)換層4的除去區(qū)域3上，配置包含有通過熱處理或光處理顯示出導電性的材料的功能液，通過從基材1的背面?zhèn)葘⒐庹丈涞焦鉄徂D(zhuǎn)換層4上，利用從光熱轉(zhuǎn)換層4產(chǎn)生的熱，可以在前述材料中顯示出導電性。這里，作為通過熱處理或光處理顯示出導電性的材料，可以列舉成后面描述的有機銀化合物。
在設置光熱轉(zhuǎn)換層4的情況下，優(yōu)選地，照射具有對應于光熱轉(zhuǎn)換材料的波長的光。即，由于根據(jù)所使用的光熱轉(zhuǎn)換材料良好的吸收的光的波長范圍不同，所以，通過照射具有對應于光熱轉(zhuǎn)換材料的波長的光，可以高效率地將光能轉(zhuǎn)換成熱能。換句話說，根據(jù)照射的光，選擇所使用的光熱轉(zhuǎn)換材料。在本實施形式中，由于作為激光光源，使用近紅外半導體激光(波長830nm)，所以，作為光熱轉(zhuǎn)換材料，優(yōu)選地，使用具有吸收紅外線～可見光區(qū)域的光的性質(zhì)的材料。
此外，在將光熱轉(zhuǎn)換層4設置在基材1與升華性色素層5之間的情況下，可以在升華性色素層5與薄膜2之間(或者在升華性色素層5之內(nèi))，設置包含有通過光的照射發(fā)生氣體的氣體發(fā)生材料的氣體發(fā)生層，在基材1上成薄膜2的情況下，可以在基材1與背面2之間，設置包含有通過光的照射發(fā)生氣體的氣體發(fā)生材料的氣體發(fā)生層。氣體發(fā)生材料，當吸收光，或者吸收由光能轉(zhuǎn)換的熱能時，引起分解反應，放出氮氣或者氫氣等，具有通過發(fā)生的氣體提供除去薄膜2的能量的作用。作為這種氣體發(fā)生材料，可以列舉出季戊四醇四硝酸酯(pentaerythriotol tetranitratePETN)及三硝基甲苯TNT)構(gòu)成的組中選擇出來的至少其中之一，或者，GAP(縮水甘油疊氮聚合物)等。
此外，在光熱轉(zhuǎn)換層4與升華性色素層5之間，可以設置為了使光熱轉(zhuǎn)換層4的光熱轉(zhuǎn)換作用均勻化用的中間層。作為這種中間層的材料，可以列舉出滿足上述主要條件的樹脂材料。這種中間層，可以將具有規(guī)定組成的樹脂組合物，例如，基于旋轉(zhuǎn)涂敷方法，凹版印刷方法，模壓涂敷方法等公知的涂敷方法涂布到光熱轉(zhuǎn)換層4的表面上，通過使之干燥形成。當照射激光光束時，借助光熱轉(zhuǎn)換層4的作用，將光能轉(zhuǎn)換成熱能，進而，借助中間層的作用將這種熱能均勻化。從而，向相當于光照射區(qū)域的部分的升華性色素層5上提供均勻的熱能。
其次，作為薄膜(單分子膜)2的形成方法一個例子，對于自組織化膜形成法進行說明。在自組織化膜形成方法中，在基材1的表面上形成由有機分子膜構(gòu)成的自組織化膜。有機分子膜，具有能夠與基材1結(jié)合的官能團，以及誘發(fā)分子間相互作用用的直鏈結(jié)構(gòu)，結(jié)合到基材1上自己組織起來，形成分子膜，例如，單分子膜。
這里，所謂自組織化的分子膜(自組織化單分子膜SAM(SelfAssembled Monolayer)，是一種通過界面活性的有機分子的極性部分與基板表面的相互作用，將有機分子吸附到表面，同時，借助在非極性部分起作用的分子間的相互作用，有機分子彼此集合起來，在表面上整齊地排列形成的具有高的取向性的單分子膜，從而，自組織化膜，準確地具有一個分子層的厚度，此外，可以將具有各種功能的有機分子作為自組織化膜使用。
作為上述具有高取向性的化合物，通過使用上述氟烷基硅烷(FAS)，各個化合物以氟烷基位于膜的表面上的方式進行取取向，形成自組織化膜，給予膜的表面均勻的疏液性。作為這種形成自組織化膜的化合物的FAS，可以列舉出十七氟-1，1，2，2-四氫化癸基三乙氧基硅烷，十七氟-1，1，2，2-四氫化癸基三甲氧基硅烷，十七氟-1，1，2，2-四氫化癸基三氯硅烷，十三氟-1，1，2，2-四氫化辛基三乙氧基硅烷，十三氟-1，1，2，2-四氫化辛基三甲氧基硅烷，十三氟-1，1，2，2-四氫化辛基三氯硅烷，三氟丙基三甲氧基硅烷等氟烷基硅烷等。這些化合物可以單獨使用，也可以將兩種以上組合使用。此外，通過使用FAS，可以獲得與基板的緊密性基良好的疏液性。
FAS，一般地，用結(jié)構(gòu)式R正Si-X(4-n)表示。這里，n表示1以上、3以下的整數(shù)，X是甲氧基，乙氧基，鹵素原子等水解基。此外，R是氟烷基，具有(CF3)(CF2)x(CH2)y的結(jié)構(gòu)(這里，x表示0以上的整數(shù)，y表示0以上的整數(shù))，在整個的R或者X結(jié)合到Si上的情況下，R或X可以完全相同，也可以不同。用X表示的水解基，通過水解，形成硅烷醇，與基板(玻璃，硅)襯底的羥基反應，以硅氧鍵與基板結(jié)合。另一方面，由于R在表面上具有(CF3)等氟基，所以，將基板的襯底表面改性成不沾濕的(表面能量低)的表面。
圖5是在基材1(升華性色素層5)上形成由FAS構(gòu)成的自組織化膜(FAS膜)的FAS處理裝置40的簡略結(jié)構(gòu)圖。FAS處理裝置40，在基材1(升華性色素層5)上形成由FAS構(gòu)成的自組織化膜。如圖5所示，F(xiàn)AS處理裝置40，包括室41，設于室41內(nèi)、保持基材1的保持器42，收容液相狀態(tài)的FAS(液體FAS)的容器43。同時，在室溫環(huán)境下，通過將基材1和收容液體FAS的容器43放置在室41內(nèi)，容器43內(nèi)的液體FAS從容器43的開口部43a成為氣相排放到室41內(nèi)，例如，在2～3天左右，在基材1(升華性色素層5)上，由FAS構(gòu)成的自組織化膜成膜。此外，通過將整個室41保持在100℃左右，在三個小時左右，自組織化膜在基材1(升華性色素層5)上成膜。此外，這里，對由氣相的形成法進行了說明，但也可以從液相形成自組織化膜。例如，將基材1浸漬在包含原料化合物的溶液中，通過清洗，干燥，在基材1上形成自組織化膜。
此外，作為疏液性膜，也可以是通過等離子體處理法形成的氟化處理膜。在等離子體處理法中，在常壓或在真空中對基板進行等離子體照射。用于等離子體處理的氣體的種類，可以考慮到將要形成布線圖形的基材1的表面的材質(zhì)等因素，進行各種選擇。作為處理氣體，例如，可以列舉出四氟甲烷，全氟己烷，全氟癸烷等。
圖6表示對于已施加FAS處理的基材1，經(jīng)由具有規(guī)定的圖形的掩模15照射紅外線激光的形式的圖示。如圖6所示，在形成薄膜圖形時，可以對具有對應于想要形成的薄膜圖形的圖形的掩模15照射光束，將經(jīng)過掩模15的光照射到具有光熱轉(zhuǎn)換層4及升華性色素層5的基材1。在圖6中，掩模15以貼緊在支撐于載物臺12上的基材1上的薄膜2的方式配置。從光源11出射的光束，對掩模15照明。通過掩模15的光，照射被支撐在載物臺12上的基材1上。利用根據(jù)該照射的光從光熱轉(zhuǎn)換層4上產(chǎn)生的熱，與升華性色素層5的升華一起，將薄膜2的一部分除去，形成薄膜圖形。通過利用掩模15，可以形成比從激光光源11出射的光束的直徑微細的薄膜圖形。另一方面，如圖參照圖1說明的那樣，通過一面相對移動光束和基材1一面描繪薄膜圖形(除去區(qū)域3)，可以節(jié)省制造掩模15的工作。
此外，在圖6所示的例子中，在掩模15和基材1貼緊的狀態(tài)下，對掩模15照射光，但也可以在掩模15和基材1離開的狀態(tài)下照射光，將經(jīng)由該掩模15的光照射到基材1上。
<布線圖形的形成方法>
下面，對于在具有利用上面說明的方法形成的薄膜圖形的基材1上形成布線圖形的方法進行說明。圖7是在形成有薄膜2的圖形的基材1上，形成布線圖形的方法的示意圖。在本實施形式中，由于將布線圖形形成用的材料配置在基材1上，所以，采用噴出含有布線圖形形成材料的功能液的液滴的液滴噴出法(噴墨法)。在液滴噴出法中，在使噴出頭20和基材1對向的狀態(tài)下，利用液滴噴出頭20對薄膜2的除去區(qū)域3噴出包含布線圖形形成用材料的功能液的液滴。這里，薄膜(單分子膜)2具有疏液性，除去區(qū)域3，其薄膜2被除去，具有親液性。此外，在本實施形式中，如圖7所示，在基材1的表面?zhèn)?，設置薄膜2及升華性色素層5，在背面?zhèn)仍O置光熱轉(zhuǎn)換層4。
這里，作為液滴噴出法的噴出技術(shù)，可以列舉出帶電控制方法，加壓振動方式，電熱轉(zhuǎn)換方式，靜電吸引方式，電機械轉(zhuǎn)換方式等。帶電控制方式，是一種利用帶電電極付與材料電荷，用偏轉(zhuǎn)電極控制材料的飛行方向，從噴嘴噴出來的方法。加壓振動方式，是向材料上外加30kg/cm2左右的超高壓，使材料從噴嘴前端側(cè)噴出來的方法，在不施加控制電壓的情況下，材料直線前進，從噴嘴中噴出，當施加控制電壓時，在材料之間引起靜電排斥，材料飛散，不能從噴嘴中噴出。此外，電熱轉(zhuǎn)換方式，是一種利用設置在貯存材料的空間內(nèi)的加熱器，使材料急劇氣化，使之發(fā)生氣泡(泡)，借助氣泡的壓力將空間內(nèi)的材料噴出的方法。靜電吸引方式，是一種在貯存材料的空間內(nèi)施加微小的壓力，在噴嘴內(nèi)形成材料的彎液面，在這種狀態(tài)下，在施加靜電吸引力之后，將材料引出的方法。電機械轉(zhuǎn)換方式，是一種利用壓電元件接收脈沖電信號變形的性質(zhì)，通過壓電元件的變形，經(jīng)由撓性物質(zhì)向貯存材料的空間施加壓力，將材料從該空間中擠壓出來，從噴嘴中噴出來的方法。此外，也可以利用由電場引起的流體的粘性變化的方式，以及，利用放電火花飛濺的方式等技術(shù)。液滴噴出法，對于材料的使用浪費少，而且具有可以準確地將所需量的材料配置到所需的位置上的優(yōu)點。此外，利用液滴噴出法噴出的液體材料的一滴的量，例如為1～300毫微克。在本實施形式中，采用電機械轉(zhuǎn)換方式(壓電方式)。
圖8是用于說明利用壓電方式進行的功能液(液體材料)的噴出原理的圖示。在圖8中，噴出頭20包括收容功能液(包含布線圖形形成用材料的液體材料)的液體室21，以及鄰接該液體室21設置的壓電元件22。經(jīng)由包括收容功能液的材料容器的供應系統(tǒng)23，向液體室21供應功能液。壓電元件22連接到驅(qū)動電路24上，經(jīng)由該驅(qū)動電路24向壓電元件22上外加電壓，通過使壓電元件22變形，液體室21變形，從噴嘴25噴出功能液。在這種情況下，通過使外加電壓值變化，控制壓電元件22的變形量。此外，通過使外加電壓的頻率變化，控制壓電元件22的變形速度。由于利用壓電方式的液滴的噴出不必將材料加熱，所以，具有不會影響材料的組成的優(yōu)點。
下面，說明形成布線圖形的步驟。利用規(guī)定的溶劑等將基材1清洗之后，用上面描述的方法在基材1上設置光熱轉(zhuǎn)換層4。然后，通過紫外線(UV)照射處理或O2等離子體處理，付與該基材1親液性。然后，利用上面說明的方法，形成升華性色素層5以及薄膜2，照射光，形成薄膜圖形。借此，在基材1上具有疏液性的薄膜2的一部分上，形成具有親液性的除去區(qū)域3。
其次，利用噴出頭20，進行在基材1上的除去區(qū)域3上配置含有布線圖形形成用材料的功能液的液滴的材料配置工序。這里，作為構(gòu)成布線圖形形成用材料的導電性材料，使用有機銀化合物，作為溶劑使用二甘醇二乙醚，噴出含有該有機銀化合物的功能液。在材料配置工序中，如圖7所示，從噴出頭20將含有布線圖形形成用材料的功能液制成液滴噴出來。噴出來的液滴，配置在基材1上的除去區(qū)域3上。這時，由于具有親液性的除去區(qū)域3的周圍被具有疏液性的薄膜2包圍，所以，可以阻止液滴擴散到規(guī)定的位置之外。此外，利用薄膜2的疏液性，即使噴出的液滴的一部分落到薄膜2上，也會流到除去區(qū)域3上。進而，由于基材1露出的除去區(qū)域3被付與親液性，所以，噴出來的液滴在除去區(qū)域3可以更容易擴散，借此，功能液被均勻地配置在規(guī)定的位置內(nèi)。
此外，作為功能液，可以利用將導電性微粒子分散到分散劑中的分散液。作為導電性微粒子，例如，可以利用包括金、銀、銅、鋁、鈀及鎳中至少其中之一的金屬微粒子，此外，也可以利用它們的氧化物以及導電性聚合物或超導體的微粒子等。這些導電性微粒子，利用氣體中蒸發(fā)法，濺射法，金屬蒸氣合成法，流動油狀真空蒸發(fā)法，膠體法，醇鹽法，共沉淀法，均勻沉淀法，有機化合物熱分解法，氫中還原法，溶劑蒸發(fā)等制作，為了不會由于凝聚引起二次粒子，所以，粒子表面適當?shù)赜梅稚┑扔袡C分子被覆。作為分散劑，只要能夠分散上述導電性微粒子，不引起凝聚，沒有特定的限制。例如，除水外，可示例甲醇、乙醇、丙醇、丁醇等的醇類、正庚烷、正辛完、癸烷、十二烷、十四烷、甲苯、二甲苯、異丙基甲苯、均四甲苯、茚、二戊烯、四氫萘、十氫萘、環(huán)己基苯等烴類化合物；或乙二醇二甲醚、乙二醇二乙醚、聚乙二醇甲基乙基醚、二甘醇二甲醚、二甘醇二乙醚、二甘醇甲基乙基醚、1，2-二甲氧基乙烷、雙(2-甲氧基乙基)醚、p-二噁烷等的醚類化合物；以及碳酸丙烯酯、γ-丁內(nèi)酯、N-甲基-2-吡咯烷酮、二甲基甲酰胺、二甲基亞砜、環(huán)己酮等極性化合物。其中，從微粒子的分散性與分散液的穩(wěn)定性、或?qū)σ旱螄姵龇ǖ倪m用難易性出發(fā)，最好是水、醇類、烴類化合物、醚類化合物，作為更優(yōu)選的分散劑，可舉出水、烴類化合物。
在材料配置工序(液滴噴出工序)之后，進行燒結(jié)工序。通過對含有導電性材料的功能液進行燒結(jié)處理，獲得導電性。特別是，在有機銀化合物的情況下，通過進行燒結(jié)處理除去其有機成分，殘留銀粒子，顯示導電性。因此，對于材料配置工序后的基材1，作為燒結(jié)處理，進行熱處理及光處理至少其中之一。熱處理·光處理，通常在大氣中進行，但根據(jù)需要，也可以在氮、氬、氦等惰性氣體氣氛中進行。熱處理·光處理的處理溫度，在考慮到溶劑的沸點(蒸氣壓)，氣氛的種類及壓力，微粒子的分散性及有機銀化合物，氧化等熱行為，有沒有涂敷材料及涂敷材料的量，基材的耐熱溫度等因素的情況下，適當決定。例如，為了除去有機銀化合物的有機成分，有必要在約200℃左右進行燒結(jié)。此外，在使用塑料等基板的情況下，優(yōu)選地在室溫以上、100℃以下進行。通過以上工序，噴出工序后的導電性材料(有機銀化合物)，通過銀粒子的殘留，變換成具有導電性的布線圖形。
此外，在材料配置工序之后，進行中間干燥工序(或者燒結(jié)工序)，通過交替地重復這些材料配置工序和中間干燥工序(燒結(jié)工序)，可以將布線圖形形成用材料在除去區(qū)域3疊層。
此外，在燒結(jié)工序后或用于形成薄膜圖形(除去區(qū)域3)的光照射工序之后等規(guī)定的時刻，可以除去設置在基材1的背面上的光熱轉(zhuǎn)換層4。例如，通過利用規(guī)定的溶劑進行的清洗，可以從基材1上除去光熱轉(zhuǎn)換層4。此外，在材料配置工序(液滴噴出工序)之后或燒結(jié)工序之后等規(guī)定的時刻，可以除去基材1上的全部薄膜2。例如，通過激光照射，可以將整個薄膜2從基材1上除去。
此外，在本實施形式中，為了形成布線圖形，采用液滴噴出法，但是，例如，也可以利用鍍膜法對除去區(qū)域3配置布線圖形形成用材料。
<等離子體顯示裝置>
其次，作為具有利用本發(fā)明的布線圖形的形成方法形成的布線圖形的電光學裝置的一個例子，參照圖9說明等離子體顯示器(等離子顯示裝置)。圖9是表示制有地址電極511和總線電極512a的等離子體顯示器500的分解立體圖。該等離子體顯示器500大致由相互對向配置的玻璃基板501和玻璃基板502，以及形成于它們之間的放電顯示部510構(gòu)成。
放電顯示部510，由多個放電室516集中構(gòu)成，在多個放電室516中，紅色放電室516(R)、綠色放電室516(G)、藍色放電室516(B)三個放電室516成對配置，構(gòu)成一個象素。在前述(玻璃)基板501的上面，以規(guī)定的間隔，形成帶狀的地址電極511，以覆蓋這些地址電極511和基板501的上面的方式，形成電介質(zhì)層519，進而，在電介質(zhì)層519上，在地址電極511、511之間、沿著各個地址電極511形成間隔壁515。此外，在間隔壁515上，在其長度方向的規(guī)定位置，沿著與地址電極511垂直的方向，也以規(guī)定的間隔分隔開(圖中省略)，基本上形成由地址電極511的寬度方向的左右兩側(cè)鄰接的間隔壁以及沿著與地址電極511垂直的方向延伸設置的間隔壁間隔開的長方形的區(qū)域，對應這些長方形區(qū)域地形成放電室516，這些長方形的區(qū)域成為三對，構(gòu)成一個象素。此外，在由間隔壁515劃分成的長方形的區(qū)域的內(nèi)側(cè)，設置熒光體517。熒光體517發(fā)出紅、綠、藍任何一種熒光，在紅色放電室516(R)的底部，配置紅色熒光體517(R)，在綠放電室516(G)的底部配置綠色熒光體517(G)，在藍色放電室516(B)的底部配置藍色熒光體517(B)。
其次，在前述玻璃基板502側(cè)，沿著與前面的地址電極511垂直的方向，以規(guī)定的間隔形成多個由ITO構(gòu)成的帶狀透明顯示電極512，同時，為了補充高電阻的ITO，形成由金屬構(gòu)成的總線電極512a。此外，形成電介質(zhì)層513將它們覆蓋，進而，形成由MgO等構(gòu)成的保護膜514。同時，以使前述地址電極511…和顯示電極5112…相互垂直的方式，使前述基板501和玻璃基板502對向并相互粘貼，將被基板501和間隔壁515以及形成在玻璃基板502側(cè)的保護膜514包圍起來的空間部分排氣，封入稀有氣體，形成放電室516。此外，形成在玻璃基板502側(cè)的顯示電極512，以相對于各個放電室516而言，每個放電室配置兩個的方式形成。前述地址電極511和顯示電極512，連接到圖中省略的交流電源上，通過向各個電極通電，在需要位置的放電顯示部510將熒光體517激發(fā)使之發(fā)光，可以進行彩色顯示。
同時，在本例中，特別是，前述地址電極511和總線電極512a，利用根據(jù)本發(fā)明的布線圖形的形成方法形成。即，對于這些地址電極511或總線電極512a，為了特別有利于其圖形形成，通過噴出使金屬膠體材料(例如，金膠體或銀膠體)或?qū)щ娦晕⒘Ｗ?例如金屬微粒子)分散而構(gòu)成功能液，進行干燥·燒結(jié)形成。此外，對于熒光體517，也可以通過由噴出頭20噴出將熒光體材料溶解在溶劑中或者分散在分散劑中的功能液，干燥·燒結(jié)形成。
<濾色片>
其次，參照圖10說明使用根據(jù)本發(fā)明的薄膜，制造液晶顯示裝置的濾色片的步驟。此外，在本實施形式中的薄膜，不是單分子膜，它由具有規(guī)定高度(厚度)的有機薄膜構(gòu)成，構(gòu)成劃分基材上的規(guī)定區(qū)域的圍堰(黑矩陣)。首先，如圖10(a)所示，對于透明的基板(基材)P的一個面，形成黑矩陣(圍堰)52。該黑矩陣52用于劃分出濾色片的形成區(qū)域，利用本發(fā)明的圍堰的形成方法形成。在形成黑矩陣(圍堰)時，通過和光引發(fā)劑及單體一起使用黑色升華性材料，在后面的光照射工序中，可以將黑矩陣固化。
其次，如圖10(b)所示，從前述噴出頭20，噴出濾色片用功能液的液滴54，使之落到濾光片單元53上。對于噴出的功能液54的量，考慮到在加熱工序(干燥·燒結(jié)工序)中功能液的體積的減少，使之具有足夠的量。
這樣，在向整個基板P上的濾光片單元53上填充液滴54之后，利用加熱器，將基板P加熱到規(guī)定的溫度(例如，70℃)，進行加熱處理。通過這種加熱處理，功能液的溶劑蒸發(fā)，功能液的體積減少。在這種體積減少比較劇烈時，重復液滴噴出工序和加熱工序，直到作為濾色片獲得足夠的膜厚為止。通過這種處理，包含在功能液中的溶劑蒸發(fā)，最終只殘留包含在功能液中的固體成分(功能性材料)，形成薄膜，如圖10(c)所示，變成濾色片55。
然后，為了將基板P平坦化，并且保護濾色片55，如圖10(d)所示，在基板P上形成保護膜56，覆蓋濾色片55及黑矩陣52。在形成該保護膜56時，可以采用旋轉(zhuǎn)涂敷法，輥涂敷法，刮刀法等，但與濾色片55時的情況一樣，也可以利用前述噴出裝置進行。接著，如圖10(e)所示，在保護膜56的整個面上，利用濺射法或真空蒸鍍法等，形成透明導電膜57。然后，將透明導電膜57形成圖形，如圖10(f)所示，使象素電極58與前述濾光片單元53對應，形成圖形。此外，在對于液晶顯示面板的驅(qū)動采用TFT(Thin Film Transistor薄膜晶體管)的情況下，無需這種圖形的形成。在這種濾色片的制造當中，由于使用前述噴出頭20，所以，可以沒有障礙地連續(xù)噴出濾色片材料，從而，在可以良好地形成濾色片的同時，還可以提高生產(chǎn)率。
<有機EL顯示裝置>
下面，參照圖11說明使用本發(fā)明的圍堰制造有機EL顯示裝置的步驟。此外，在本實施形式中，薄膜也不是單分子膜，是由具有規(guī)定高度(厚度)的有機薄膜構(gòu)成的，該薄膜構(gòu)成劃分基材上的規(guī)定區(qū)域的圍堰。圖11是利用前述噴出頭20制有部分結(jié)構(gòu)部件的有機EL顯示裝置的側(cè)視剖面圖，首先，說明這種有機EL顯示裝置的簡略結(jié)構(gòu)。此外，這里形成的有機EL顯示裝置，是根據(jù)本發(fā)明的電光這種的一種實施形式。如圖11所示，這種有機EL顯示裝置301，在由基板(基材)311，電路元件部321，象素電極331，圍堰部341，發(fā)光元件351，陰極361(對向電極)以及密封基板371構(gòu)成的有機EL元件302上，連接有柔性基板(圖中省略)的布線及驅(qū)動IC(圖中省略)。電路元件部321形成在基板311上，多個象素電極331整齊地排列在電路元件321上。同時，在各個象素電極331之間，形成柵格狀的圍堰部341，在由圍堰部341產(chǎn)生的凹部開口344內(nèi)，形成發(fā)光元件351。陰極361形成在圍堰部341及發(fā)光元件351的上部的整個面上，在陰極361上疊層密封用基板371。
圍堰部341，由第一圍堰部342和疊層于其上的第二圍堰部343構(gòu)成。同時，在形成該圍堰部341時，利用本發(fā)明的薄膜圖形的形成方法。
含有有機EL元件的有機EL顯示裝置301的制造工藝，包括形成圍堰341的圍堰部形成工序，用于恰當?shù)匦纬砂l(fā)光元件351的等離子體處理工序，形成發(fā)光元件351的發(fā)光元件形成工序，形成陰極361的對向電極形成工序，將密封用基板疊層在陰極361上并進行密封的密封工序。
發(fā)光元件形成工序，通過在凹部開口344內(nèi)，即，在象素電極331上，形成空穴注入層352以及發(fā)光層353，形成發(fā)光元件351，包括空穴注入層形成工序和發(fā)光層形成工序。同時，空穴注入層形成工序包括將形成空穴注入層352用的第一功能液噴出到各個象素電極331上的第一噴出工序，以及使噴出的第一功能液干燥、形成空穴注入層352的第一干燥工序，發(fā)光層形成工序，包括將形成發(fā)光層353用第二功能液噴出到空穴注入層352上的第二噴出工序，以及使噴出的第二功能液干燥、形成發(fā)光層353的第二干燥工序。
在這種發(fā)光元件形成工序中，在空穴注入層形成工序中的第一噴出工序，及發(fā)光層形成工序中的第二噴出工序，使用前述噴出頭20。
<電子設備>
下面，說明備有上述電光學裝置(液晶顯示裝置，有機EL顯示裝置，等離子體顯示裝置等)的電子設備的應用例。圖12(a)是表示便攜式電話的一個例子的立體圖。在圖12(a)中，標號1000表示便攜式電話主體，標號1001表示利用上述電光學裝置的顯示部。圖12(b)是表示手表型電子設備的一個例子的立體圖。在圖12(b)中，標號1100表示手表主體，標號1101表示利用上述電光學裝置的顯示部。圖12(c)是表示文字處理機、個人計算機等便攜式信息處理裝置的一個例子的立體圖。在圖12(c)中，標號1200表示信息處理裝置，標號1202表示鍵盤等輸入部，標號1204表示信息處理裝置主體，標號1206表示利用上述電光學裝置的顯示部。圖12(a)～(c)所示的電子設備，由于配備有上述實施形式的電光學裝置，所以，能夠以低的成本實現(xiàn)配備有顯示等級(特別是分辨率)優(yōu)異、明亮的畫面顯示部的電子設備。
此外，除上述例子之外，作為其它的例子，可以列舉出液晶電視，取景器型機監(jiān)視器以及直視型磁帶錄象機，自動導航裝置，尋呼機，電子記事本，臺式電子計算機，文字處理器，工作站，電視電話，POS終端，電子文件，觸摸屏等設備。本發(fā)明的電光學裝置，適合用作這種電子設備的顯示部。
<微型透鏡>
圖13是表示使用本發(fā)明的薄膜圖形，形成微型透鏡的工藝的一個例子的圖示。本實施形式中的薄膜，利用由FAS膜等構(gòu)成的具有疏液性的單分子膜構(gòu)成。
在本例中，首先，如圖13(a)所示，用噴出頭20在基板(基材)P上噴出由透光性樹脂構(gòu)成的液滴622a，將其涂布。此外，在從各個噴出頭20噴出液滴622a時，在該噴出之前，在基板P上形成本發(fā)明的薄膜圖形，將液滴622a配置在具有親液性的除去區(qū)域3上。
作為基板P，例如，在將獲得的微型透鏡應用于屏幕用的光學膜的情況下，采用醋酸纖維素或丙基纖維素等纖維素系樹脂，聚氯乙稀，聚乙烯，聚丙烯，聚酯等透明樹脂(透光性樹脂)構(gòu)成的透光性片或者透光性薄膜。此外，作為基板，可以使用玻璃，聚碳酸酯，聚丙烯酸酯，聚醚砜，非晶質(zhì)聚烯烴，聚對苯二甲酸乙二醇酯，聚甲基丙烯酸甲酯等透明材料(透光性材料)等構(gòu)成的基板。
作為透光性樹脂，可以列舉出聚甲基丙烯酸甲酯，多羥基甲基丙烯酸乙酯，聚環(huán)己基甲基丙烯酸酯等丙烯酸系樹脂，聚二乙二醇二烯丙基碳酸酯，碳酸酯等烯丙系樹脂，甲基丙烯酸樹脂，聚氨酯系樹脂，聚酯系樹脂，聚氯乙稀系樹脂，聚乙酸乙烯酯系樹脂，纖維素系樹脂，聚酰胺系樹脂，氟系樹脂，聚丙烯系樹脂，聚苯乙烯系樹脂等熱塑性或熱固化性樹脂，可以使用它們中的一種，或者混合使用它們中的多種。
但是，在本例中，作為透光性樹脂，特別使用放射線照射固化型樹脂。這種放射線照射固化型樹脂，在前述透光性樹脂中配合有雙咪唑系化合物等光聚合引發(fā)劑，通過這種光聚合引發(fā)劑的配合，付與放射線固化性。所謂放射線，是可見光線，紫外線，遠紫外線，X射線，電子束等的總稱，特別是，一般地，使用紫外線。
根據(jù)所需的單個微型透鏡的大小，將一個和多個這種放射線固化型的透光性樹脂的液滴662a，噴出到基板P上。這樣，由該液滴622構(gòu)成的透光性樹脂623，借助其表面張力，變成圖13(a)所示的凸的形狀(大致的半球狀)。這樣，對于將要形成的單一的微型透鏡，噴出涂布規(guī)定量的透光性樹脂，進而，在根據(jù)微型透鏡的個數(shù)進行過這種涂布處理之后，將紫外線等放射線照射到這些透光性樹脂623上，如圖13(b)所示，使之固化，制成固化體623a。此外，從噴出頭20噴出的液滴622a的每一滴的容量，盡管因噴出頭20或噴出的油墨材料而異，但通常為1pL～20pL左右。
然后，如圖13(c)所示，在這些固化體623a的每一個上，從噴出頭20噴出所需個數(shù)的分散有多個光散射性微粒子626的液滴622b，附著在固化體623a的表面上。作為光散射性微粒子626，可以列舉出二氧化硅，氧化鋁，二氧化鈦，碳酸鈣，氫氧化鋁，丙烯酸樹脂，有機硅酮樹脂，聚苯乙烯，尿素樹脂，甲醛縮合物等微粒子。使用它們當中的一種，或者將多種混合使用。但是，為了充分發(fā)揮光散射性微粒子626的光擴散性，在該微粒子為透光性的情況下，其折射率和前述透光性樹脂的折射率必須具有足夠大的差別。從而，在光散射性微粒子626是透光性時的情況下，為了滿足這種條件，根據(jù)所使用的透光性樹脂，適當?shù)剡M行選擇使用。
這種光散射性微粒子626，通過預先分散在適當?shù)娜軇?例如用于透光性樹脂的溶劑)中，可以在能夠從噴出頭20中噴出的油墨中進行調(diào)整。這時，優(yōu)選地，通過利用表面活性劑將光散射性微粒子626的表面進行被覆處理，或者，進行用熔融樹脂的覆蓋處理，提高光散射性微粒子626向溶劑內(nèi)的分散性，通過進行這種處理，可以將從噴出頭20中噴出的良好的流動性附加到光散射性微粒子626上。此外，作為用于表面處理用的表面活性劑，可以根據(jù)光散射性微粒子624的種類適當?shù)剡x擇使用陽離子系，陰離子系，非離子性，兩性，硅酮系，氟系樹脂等。
此外，作為這種光散射性微粒子626，優(yōu)選地，使用其粒徑為200nm以上、500nm以下的微粒子。這是因為，如果在這種范圍內(nèi)的話，通過粒徑在200nm以上，確保其良好的光擴散性，通過使之在500nm以下，可以很好地從噴出頭20的噴嘴中噴出。此外，對于分散有光散射性微粒子626的液滴622b的噴出，可以利用和噴出透光性樹脂的液滴622a的噴出頭20同樣的噴出頭，也可以利用另外的噴出頭。在利用同一個噴出頭的情況下，可以簡化含有噴出頭20的裝置的結(jié)構(gòu)。另一方面，在利用另外的噴出頭的情況下，對于各種功能液(由透光性樹脂構(gòu)成的功能液和由光散射性微粒子24構(gòu)成的功能液)的每一個，可以設為專用的噴出頭，在涂布功能液的切換時，沒有必要進行噴出頭的清洗等，可以提高生產(chǎn)率。
然后，通過進行加熱處理，減壓處理，或者加熱減壓處理，使分散有光散射性微粒子624的液滴622b中的溶劑蒸發(fā)。這樣，通過固化體623a的表面由液滴622b的溶劑軟化，在其上附著光散射性微粒子626，伴隨著溶劑蒸發(fā)，固化體623a的表面再次固化，光散射性微粒子624固定到固化體623a的表面上。同時，通過這樣將光擴散性微粒子624固定到固化體623a的表面上，如圖13(d)所示，光擴散性微粒子624分散在其表面上。獲得本發(fā)明的微型透鏡625。
由于利用噴墨法形成由透光性樹脂623和光散射性微粒子624構(gòu)成的凸狀(大致的半球狀)的微型透鏡625，所以，不必像采用金屬模成形法及注塑成形法那樣利用金屬模，并且也沒有材料的耗損。從而，可以降低制造成本。此外，由于所獲得的微型透鏡625是凸狀(大致的半球狀)的，所以，可以將這種微型透鏡用于例如在360°這樣寬的角度范圍(方向)內(nèi)均勻地進行光擴散，而且，通過將光擴散性微粒子626復合化，可以付與獲得的微型透鏡以高的光擴散性能。
<DNA芯片>
圖14是用于說明使用本發(fā)明的薄膜圖形，形成作為檢查儀器的DNA芯片的實施形式的圖示，(a)是俯視圖，(b)及(c)是A-A剖面圖。此外，關(guān)于DNA芯片技術(shù)，在特開平10-168386毫公報，特開2000-232883號公報中進行過描述。
在圖14(a)及(b)中，本例的DNA芯片，通過在基材900上設置反應膜902構(gòu)成。在本實施形式中，在反應膜902的周圍，設置具有疏液性的薄膜903。薄膜903由具有疏液性的單分子膜構(gòu)成。作為形成DNA芯片用的反應膜902的反應劑，例如，使用DNA片段。使溶液中包含預先已經(jīng)搞清基因序列的幾十至幾百種DNA片段，固定到基材900上。進而，本例的DNA芯片，如圖13(c)所示，光從基材900的背面?zhèn)热肷?，?jīng)過反應膜902被提取出來。在本例的DNA芯片的使用過程中，制成液體的基因樣品905，將其配置在芯片上。在存在適合于樣品的基因的情況下，利用捕捉反應在反應膜902上反應，確定堿基序列，利用合成的熒光染料，發(fā)出熒光。
為了制造上述DNA芯片，首先，在基材900上形成薄膜903，其次，基于本發(fā)明的薄膜圖形的形成方法，形成具有除去區(qū)域3的薄膜圖形。然后，利用噴出頭20，在除去區(qū)域3上用噴出頭20噴出反應劑，向基材900上形成反應膜902。借此，制造DNA芯片。
此外，也可以在具有光熱轉(zhuǎn)換層的基材900的整個面上預先設置反應膜902，對該反應膜902照射光，通過除去對應于光照射的區(qū)域反應膜902，形成圖形，在基材900上離散地設置反應膜902。同時，也可以對離散地配置的反應膜902配置基因樣品905。
<其它實施形式>
在上述實施形式中，也可以代替升華性色素層5(或升華性色素)，設置包含有通過光的照射發(fā)生氣體的氣體發(fā)生材料的氣體發(fā)生層。這樣，通過在基材1上或基材1內(nèi)設置氣體發(fā)生材料，利用照射的光從所需的區(qū)域發(fā)生氣體，通過該氣體的發(fā)生，可以將所需區(qū)域的薄膜2從基材1上除去，可以對薄膜2進行圖形化。從而，無需現(xiàn)有技術(shù)中圖形成形中的掩模，此外，不用電子束或紫外線，可以簡單地并且以高分辨率對薄膜進行圖形化。即，根據(jù)本實施形式，可以拓寬所使用的光照射裝置的選擇范圍，即使不用高價大型的光照射裝置，也能夠很好地從基材上除去薄膜，高精度地形成圖形。
此外，上述氣體發(fā)生層。也可以是通過光照射不發(fā)生氣體，而是通過加熱發(fā)生氣體。同時，也可以鄰接光熱轉(zhuǎn)換層4設置氣體發(fā)生層，用光照射光熱轉(zhuǎn)換層4，使之發(fā)熱，利用該熱使氣體發(fā)生層發(fā)生氣體，對薄膜2進行圖形化。因此，可以采用在上述實施形式中的基材1或光熱轉(zhuǎn)換層4與升華性色素層5之間，設置包含有通過光照射或加熱發(fā)生氣體的氣體發(fā)生材料的氣體發(fā)生層的結(jié)構(gòu)。這樣，只通過光照射，只通過加熱，或者通過光照射和加熱兩者，使之發(fā)生氣體，可以對薄膜2進行圖形化。
氣體發(fā)生材料，吸收光，或者吸收從光能轉(zhuǎn)換的熱能，引起分解反應放出氮氣或氫氣，具有利用所發(fā)生的氣體提供除去薄膜2所需的能量的作用。作為這種氣體發(fā)生材料可以列舉出季戊四醇四硝酸酯(pentaerythriotoltetranitratePETN)及三硝基甲苯(trinitrotolueneTNT)構(gòu)成的組中選擇出來的至少其中的一種物質(zhì)等，或者，GAP(縮水甘油疊氮聚合物)等。
權(quán)利要求
1.一種圖形的形成方法，其特征在于，在包含升華性材料的基材上設置薄膜，通過對所述基材照射光，利用由所述光的照射而產(chǎn)生的熱使所需區(qū)域的所述升華性材料升華，除去對應于所述光照射的照射區(qū)域的所述薄膜，對該薄膜進行圖形化。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖形的形成方法，其特征在于，所述升華性材料包含升華性色素。
3.一種圖形的形成方法，其特征在于，在包含有氣體發(fā)生材料的基材上設置薄膜，通過對所述基材照射光，利用所述光的照射使從所需區(qū)域的所述氣體發(fā)生材料中發(fā)生氣體，除去對應于所述光照射的照射區(qū)域的所述薄膜，對該薄膜進行圖形化。
4.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項所述的圖形的形成方法，其特征在于，所述薄膜包含有機薄膜。
5.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任一項所述的圖形的形成方法，其特征在于，所述薄膜包含單分子膜。
6.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任一項所述的圖形的形成方法，其特征在于，所述薄膜包括含有光引發(fā)劑的單體。
7.根據(jù)權(quán)利要求1～6中任一項所述的圖形的形成方法，其特征在于，所述升華性材料在所述基材的表面?zhèn)然虮趁鎮(zhèn)?，作為與所述基材及所述薄膜獨立的升華性色素層形成。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的圖形的形成方法，其特征在于，所述升華性色素層，設置在所述基材的設置有所述薄膜的一側(cè)。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的圖形的形成方法，其特征在于，所述升華性色素層，與所述薄膜鄰接設置。
10.根據(jù)權(quán)利要求7～9中任一項所述的圖形的形成方法，其特征在于，所述升華性色素層，設置在所述基材和所述薄膜之間。
11.根據(jù)權(quán)利要求1～10中任一項所述的圖形的形成方法，其特征在于，在所述基材中，混入所述升華性材料。
12.根據(jù)權(quán)利要求1～11中任一項所述的圖形的形成方法，其特征在于，所述基材包含有將光能轉(zhuǎn)換成熱能的光熱轉(zhuǎn)換材料。
13.根據(jù)權(quán)利要求7～12中任一項所述的圖形的形成方法，其特征在于，在所述升華性色素層中混入所述光熱轉(zhuǎn)換材料。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的圖形的形成方法，其特征在于，包含所述光熱轉(zhuǎn)換材料的光熱轉(zhuǎn)換層，與所述基材、所述薄膜及所述升華性色素層獨立地設置。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的圖形的形成方法，其特征在于，所述光熱轉(zhuǎn)換層和所述升華性色素層鄰接設置。
16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的圖形的形成方法，其特征在于，所述光熱轉(zhuǎn)換層，設置在所述基材的設置有所述薄膜的一側(cè)。
17.根據(jù)權(quán)利要求14～16中任一項所述的圖形的形成方法，其特征在于，所述光熱轉(zhuǎn)換層設置在所述基材和所述薄膜之間。
18.根據(jù)權(quán)利要求14～17中任一項所述的圖形的形成方法，其特征在于，所述光熱轉(zhuǎn)換層設置在所述基材的沒有設置所述薄膜的另一側(cè)。
19.根據(jù)權(quán)利要求13～18中任一項所述的圖形的形成方法，其特征在于，在所述基材上，混入所述光熱轉(zhuǎn)換材料。
20.根據(jù)權(quán)利要求13～19中任一項所述的圖形的形成方法，其特征在于，在所述基材的表面及背面中的至少一方上形成所述光熱轉(zhuǎn)換層，在所述光熱轉(zhuǎn)換層的上面形成所述升華性色素層，在所述升華性色素層的上面形成所述薄膜，然后，進行所述光的照射。
21.根據(jù)權(quán)利要求14～20中任一項所述的圖形的形成方法，其特征在于，在所述基材或所述光熱轉(zhuǎn)換層與所述升華性色素層之間，設置包含有通過光照射或加熱而發(fā)生氣體的氣體發(fā)生材料的氣體發(fā)生層。
22.根據(jù)權(quán)利要求1～21中任一項所述的圖形的形成方法，其特征在于，從所述基材的設置有所述薄膜的一側(cè)，照射所述光。
23.根據(jù)權(quán)利要求1～22中任一項所述的圖形的形成方法，其特征在于，從所述基材的沒有設置所述薄膜的另一側(cè)，照射所述光。
24.根據(jù)權(quán)利要求22或23所述的圖形的形成方法，其特征在于，根據(jù)所述薄膜、所述升華性色素層、所述光熱轉(zhuǎn)換層及所述基材中的至少一個的透光率，確定是從所述的一側(cè)還是從另一側(cè)照射所述光。
25.根據(jù)權(quán)利要求1～24中任一項所述的圖形的形成方法，其特征在于，所述光具有與所述升華性材料及所述光熱轉(zhuǎn)換材料中的至少一方對應的波長。
26.一種布線圖形的形成方法，其特征在于，在具有利用權(quán)利要求1～25中任一項所述的形成方法形成的薄膜圖形的所述基材上，形成布線圖形。
27.根據(jù)權(quán)利要求26所述的布線圖形的形成方法，其特征在于，包括在形成有所述薄膜圖形的基材上，配置包含有布線圖形形成用材料的液滴的工序。
28.一種電光學裝置，具有利用權(quán)利要求26或27所述的形成方法形成的布線圖形。
29.一種電子設備，其特征在于，具有權(quán)利要求28所述的電光學裝置。
全文摘要
本發(fā)明提供一種圖形形成方法，在包含升華性色素的基材(1)上設置薄膜(2)，對基材(1)照射光，利用通過光的照射產(chǎn)生的熱，使所需區(qū)域的升華性色素升華，除去對應于光照射的照射區(qū)域的薄膜(2)，對該薄膜(2)進行圖形化。根據(jù)本發(fā)明的圖形形成方法，能夠利用簡單低成本的方法高精度地對薄膜進行圖形化。
文檔編號B05D3/06GK1582093SQ20041005606
公開日2005年2月16日 申請日期2004年8月10日 優(yōu)先權(quán)日2003年8月12日
發(fā)明者豐田直之 申請人:精工愛普生株式會社