專利名稱：藥液涂敷裝置及藥液涂敷方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種在半導(dǎo)體裝置等的制造中使用的藥液涂敷裝置及藥液涂敷方法。
背景技術(shù)：
根據(jù)以往的藥液涂敷裝置及藥液涂敷方法，在半導(dǎo)體裝置的制造中，進(jìn)行一邊使襯底轉(zhuǎn)動，一邊對該襯底表面涂敷藥液的旋轉(zhuǎn)涂敷。并且，在液晶面板的制造中，進(jìn)行藥液涂敷噴嘴一邊在襯底上移動，一邊對該襯底表面涂敷藥液的掃描涂敷等(例如，參照專利文獻(xiàn)1)。
以下，參照圖6對以往的藥液涂敷裝置及藥液涂敷方法加以說明。圖6為以往的藥液涂敷裝置的要部剖面圖。
如圖6所示，晶片夾盤46將搬送到涂敷器的襯底41真空吸住，保持為大致水平的狀態(tài)。其次，使位于襯底41上且能夠沿著襯底41的整個面移動的涂敷噴嘴43，從襯底41上方的一個襯底端移動到另一個襯底端。此時，根據(jù)在涂敷區(qū)域存儲用的計算機(jī)45中存儲的涂敷開始位置信息及涂敷停止位置信息，在涂敷噴嘴43移動到襯底41上的藥液滴下開始位置的時刻，開始藥液48的滴下，然后，在涂敷噴嘴43移動到襯底41上的藥液滴下停止位置的時刻，停止藥液48的滴下。另外，藥液48的涂敷厚度是通過藥液粘度等調(diào)整的。
專利文獻(xiàn)1日本特開平8-250389號公報但是，在上述以往技術(shù)中，存在這樣的問題由于在襯底上涂敷感光性樹脂等藥液后，必須要對被涂敷的藥液進(jìn)行曝光及顯像，因此設(shè)備結(jié)構(gòu)變得復(fù)雜，處理時間也增加了。

發(fā)明內(nèi)容
如上所鑒，本發(fā)明的目的在于能夠在不使用復(fù)雜的設(shè)備結(jié)構(gòu)的情況下，在短時間內(nèi)進(jìn)行圖案形成。
為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明所涉及的藥液涂敷裝置，包括保持襯底的保持器；能夠在由上述保持器所保持的上述襯底上移動且對該襯底的表面提供藥液的涂敷噴嘴；存儲用以在上述襯底上形成圖案的圖案信息的存儲器；算出上述涂敷噴嘴與設(shè)置在上述襯底上的測量標(biāo)記的相對位置的位置算出器；以及根據(jù)由上述位置算出器算出的上述相對位置、和存儲在上述存儲器的上述圖案信息，利用上述涂敷噴嘴對上述襯底上涂敷上述藥液，來形成上述圖案的控制器。
在本發(fā)明的藥液涂敷裝置中，上述涂敷噴嘴最好具有上述藥液噴出口、使上述藥液溶解的溶劑噴出口、廢液吸引口和氣體噴出口。
在本發(fā)明的藥液涂敷裝置中，最好上述涂敷噴嘴被設(shè)置有多個，該各涂敷噴嘴分別被單獨驅(qū)動控制。
本發(fā)明的藥液涂敷方法，包括將用以在襯底上形成圖案的圖案信息存儲在存儲器中的步驟(a)；算出涂敷噴嘴與設(shè)置在上述襯底上的測量標(biāo)記的相對位置的步驟(b)；以及根據(jù)上述相對位置和上述圖案信息，利用上述涂敷噴嘴對上述襯底上涂敷藥液，來形成上述圖案的步驟(c)。
在本發(fā)明的藥液涂敷方法中，最好上述步驟(c)，包括通過讓上述涂敷噴嘴移動，以使其將上述規(guī)定的區(qū)域經(jīng)過兩次或多于兩次，來在上述規(guī)定的區(qū)域重疊地涂敷上述藥液的步驟。
在本發(fā)明的藥液涂敷方法中，最好上述步驟(c)，包括利用上述涂敷噴嘴對上述襯底上涂敷兩種或多于兩種的藥液的步驟。
在本發(fā)明的藥液涂敷方法中，最好上述步驟(c)，包括在利用上述涂敷噴嘴對上述襯底上涂敷使上述藥液溶解的溶劑的同時，根據(jù)上述圖案信息將涂敷在上述襯底上的沒有用的上述藥液除去的步驟。并且，此時，最好上述步驟(c)，包括利用上述涂敷噴嘴吸引被上述溶劑溶解的上述藥液，將其除去的步驟。
(發(fā)明的效果)依據(jù)本發(fā)明，根據(jù)涂敷噴嘴與襯底上的測量標(biāo)記的相對位置的算出結(jié)果、和預(yù)先準(zhǔn)備的圖案信息，進(jìn)行涂敷噴嘴的驅(qū)動控制及藥液提供控制，藉此方法，在襯底上形成圖案。因此，例如，即使在利用感光性樹脂等藥液進(jìn)行圖案形成時，也能夠在不實施曝光步驟及顯像步驟的情況下，在涂敷藥液時在襯底上形成所希望的圖案。也就是說，能夠在不使用復(fù)雜的設(shè)備結(jié)構(gòu)的情況下，在短時間內(nèi)進(jìn)行圖案形成。
附圖的簡單說明

圖1為本發(fā)明的第1實施例所涉及的藥液涂敷裝置的要部平面圖。
圖2為本發(fā)明的第1實施例所涉及的藥液涂敷裝置的要部剖面圖。
圖3為詳細(xì)地示出了本發(fā)明的第1實施例所涉及的藥液涂敷裝置的涂敷噴嘴的圖。
圖4為本發(fā)明的第2實施例所涉及的藥液涂敷裝置的要部平面圖。
圖5為本發(fā)明的第3實施例所涉及的藥液涂敷裝置的要部平面圖。
圖6為以往的藥液涂敷裝置的要部剖面圖。
(符號的說明)1、11、31-襯底；2、12、32-測量標(biāo)記；3、13a、13b、34-涂敷噴嘴；4、14、34-襯底位置測量機(jī)構(gòu)；5、15、35-計算機(jī)；6-晶片夾盤；7-噴嘴陣列；8、18a、18b、38-藥液；10、20、30-框體外壁；21-溶劑噴出口；22-廢液吸引口；23-高壓氣體噴出口；39a、39b-驅(qū)動軸。
具體實施例方式
(第1實施例)以下，參照圖1及圖2對本發(fā)明的第1實施例所涉及的藥液涂敷方法及藥液涂敷裝置加以說明。
圖1示出了第1實施例所涉及的藥液涂敷裝置的要部平面圖，圖2示出了第1實施例所涉及的藥液涂敷裝置的要部剖面圖。
如圖1及圖2所示，本實施例的藥液涂敷裝置(涂敷器)，包括保持襯底1的晶片夾盤6；用以對被晶片夾盤6保持的襯底1上涂敷藥液8的涂敷噴嘴3；算出涂敷噴嘴3與設(shè)置在襯底1上的測量標(biāo)記2的相對位置的襯底位置測量機(jī)構(gòu)4；存儲用以在襯底1上形成圖案的圖案信息的計算機(jī)5；以及根據(jù)由襯底位置測量機(jī)構(gòu)4算出的相對位置和存儲在計算機(jī)5的圖案信息進(jìn)行涂敷噴嘴3的驅(qū)動控制及藥液提供控制的裝置(例如，圖中沒有示出的其它計算機(jī)?；蛘哂嬎銠C(jī)5也可以兼作本裝置)。涂敷噴嘴3，位于被晶片夾盤6保持的襯底1上且能夠沿著襯底1的整個面移動。具體地說，涂敷噴嘴3，能夠在襯底1上沿著規(guī)定的涂敷方向(X方向)移動，且延在于與該X方向垂直的Y方向，好像橫斷襯底1的樣子。涂敷噴嘴3的Y方向(延在方向)的長度，長于成為襯底1的晶片的直徑。襯底位置測量機(jī)構(gòu)4，例如，被安裝在涂敷噴嘴3的在Y方向延伸的側(cè)面上。但是，如果能夠測量涂敷噴嘴3與測量標(biāo)記2的相對位置的話，對襯底位置測量機(jī)構(gòu)4的設(shè)置位置，并不作特別地限定。計算機(jī)5，例如，被安裝在涂敷器的框體外壁10。
以下，對使用了圖1及圖2所示的本實施例的藥液涂敷裝置(涂敷器)的藥液涂敷方法加以說明。另外，在藥液涂敷處理之前，預(yù)先進(jìn)行向計算機(jī)5存儲圖案信息的操作。
首先，晶片夾盤6將搬送到涂敷器的襯底1真空吸住，保持為大致成水平的狀態(tài)。其次，通過被安裝在涂敷噴嘴3的襯底位置測量機(jī)構(gòu)4，來測量在襯底1上形成的測量標(biāo)記2的位置(具體地說，從涂敷器中的基準(zhǔn)位置(0點)來看的測量標(biāo)記2的相對位置)。這里，能夠任意地進(jìn)行基準(zhǔn)位置的設(shè)定，例如，可以將涂敷噴嘴3的位置設(shè)置成基準(zhǔn)位置。
另外，最好在襯底1上設(shè)置4個或多于4個的測量標(biāo)記2，至少設(shè)置兩個或多于兩個的測量標(biāo)記2，襯底位置測量機(jī)構(gòu)4測量各測量標(biāo)記2的X方向及Y方向的位置信息。并且，襯底位置測量機(jī)構(gòu)4，進(jìn)行將該各測量值平均化的處理，藉此方法，算出涂敷噴嘴3與測量標(biāo)記2的相對位置。這里，通過對各測量標(biāo)記2的位置信息的測量值進(jìn)行標(biāo)注重要級的處理，能夠進(jìn)行最佳的位置調(diào)整(也就是，涂敷噴嘴3與測量標(biāo)記2的相對位置的正確算出)。也就是說，當(dāng)涂敷噴嘴3的相對位置的算出精度在各測量標(biāo)記2上均有偏差時，對能夠獲得高精度的測量標(biāo)記2的位置信息的測量值標(biāo)注較大的重要級。例如，當(dāng)襯底1的外周部的測量標(biāo)記加工精度，比襯底1的中心部的測量標(biāo)記加工精度差時，通過對設(shè)置在襯底1的中心部的測量標(biāo)記2的位置信息的測量值標(biāo)注較大的重要級，來使涂敷噴嘴3的相對位置的算出精度提高。
并且，襯底位置測量機(jī)構(gòu)4，在測量標(biāo)記2的位置測量中，根據(jù)襯底1的表面狀態(tài)選擇性地使用激光的衍射光或者利用圖像傳感器等進(jìn)行的圖像認(rèn)識。并且，襯底位置測量機(jī)構(gòu)4，能夠根據(jù)藥液涂敷后的襯底1中的基礎(chǔ)圖案和涂敷圖案(使涂敷的藥液8干燥而成的圖案)的重疊吻合狀態(tài)的測定結(jié)果，進(jìn)行所測量的測量標(biāo)記2的位置信息的修正。
其次，使涂敷噴嘴3從襯底1上方的一個襯底端移動到另一個襯底端。此時，根據(jù)在涂敷圖案存儲用的計算機(jī)5中存儲的圖案信息、和由襯底位置測量機(jī)構(gòu)4算出的涂敷噴嘴3的相對位置信息，如圖2所示，在涂敷噴嘴3移動到襯底1上的藥液滴下開始位置S的時刻，從涂敷噴嘴3開始藥液8的滴下，然后，在涂敷噴嘴3移動到襯底1上的藥液滴下停止位置E的時刻，從涂敷噴嘴3停止藥液8的滴下。這里，例如，使用計算機(jī)5進(jìn)行涂敷噴嘴3的驅(qū)動控制及藥液提供控制。并且，襯底1上的藥液8的涂敷厚度的調(diào)整，是通過藥液8的粘度、涂敷噴嘴3的移動速度、及后述的從噴嘴陣列7的藥液8的滴下的有無等來進(jìn)行的。并且，在涂敷噴嘴3的延在方向(與涂敷方向垂直的方向)中的藥液8的涂敷的有無，是通過對噴嘴陣列7的各藥液噴出口的藥液8的滴下進(jìn)行控制(是從某噴出口滴下藥液8，從其它噴出口不滴下藥液8的控制)來調(diào)整的。另外，在圖2中，示出了構(gòu)成噴嘴陣列7的噴出口的數(shù)目，所示出的數(shù)目少于實際數(shù)目。
如上所述，依據(jù)本發(fā)明的第1實施例，根據(jù)涂敷噴嘴3與襯底1上的測量標(biāo)記2的相對位置的算出結(jié)果、和存儲在計算機(jī)5中的圖案信息，進(jìn)行涂敷噴嘴3的驅(qū)動控制及藥液提供控制，藉此方法，在襯底1上形成圖案。所以，由于能夠通過涂敷噴嘴3僅對襯底1上所希望的區(qū)域涂敷藥液8，因此在使用感光性樹脂作為藥液8進(jìn)行圖案形成時，能夠省略曝光步驟及顯像步驟。并且，也能夠使用非感光性樹脂作為藥液8進(jìn)行圖案形成。因此，能夠在不使用復(fù)雜的設(shè)備結(jié)構(gòu)的情況下，在短時間內(nèi)進(jìn)行圖案形成。
以下，對具有本實施例的噴嘴陣列的涂敷噴嘴3，加以詳細(xì)說明。
圖3為詳細(xì)地示出了本實施例的涂敷噴嘴3的圖，具體地說，為涂敷噴嘴3中的與襯底1(被晶片夾盤6保持的襯底1)對著的面(以下，稱為噴出面)的放大圖。另外，在圖3中，示出了比實際尺寸短的涂敷噴嘴3的延在方向的尺寸。
如圖3所示，涂敷噴嘴3，包括設(shè)置在該噴出面的中央部且由用以噴出藥液8的多個噴出口構(gòu)成的噴嘴陣列7；設(shè)置在該噴出面中的噴嘴陣列7的兩側(cè)的溶劑(使藥液8溶解的溶劑)噴出口21；設(shè)置在該噴出面中的、從溶劑噴出口21來看、在其端部側(cè)的廢液吸引口22；以及設(shè)置在該噴出面中的、從廢液吸引口22來看、在其端部側(cè)的高壓氣體噴出口23。
圖3所示的涂敷噴嘴3的動作如下。首先，在涂敷噴嘴3到達(dá)襯底1上的藥液滴下開始位置S(參照圖2)的時刻，從噴嘴陣列7將藥液8滴在襯底1上。此時，為了防止藥液8流出藥液涂敷區(qū)域的外側(cè)，從溶劑噴出口21對襯底1上滴下使藥液8溶解的溶劑，并且，通過廢液吸引口22吸引該溶劑和沒有用的藥液8，將其除去。
另外，在藥液涂敷噴嘴3在藥液涂敷區(qū)域(藥液滴下開始位置S到藥液滴下停止位置E為止的區(qū)域)移動期間，從噴嘴陣列7對襯底1上滴下藥液8。此時，根據(jù)需要，通過從高壓(比常壓(大氣壓)高的壓力)氣體噴出口23對襯底1噴上清凈的高壓氮氣，來促進(jìn)被涂敷在藥液涂敷區(qū)域的藥液8的干燥，同時，防止藥液8向非涂敷區(qū)域(被存儲在計算機(jī)5中的圖案信息的「不涂敷藥液的區(qū)域」)流出。
其次，在涂敷噴嘴3到達(dá)襯底1上的藥液滴下停止位置E(參照圖2)的時刻，從噴嘴陣列7停止藥液的滴下。此時(藥液滴下停止時)，為了防止從藥液涂敷區(qū)域流出到其外側(cè)的藥液8凝固，形成沒有用的圖案，從溶劑噴出口21對襯底1上滴下能夠?qū)⒛痰乃幰?液化的溶劑，并且，通過廢液吸引口22吸引該溶劑和所液化的藥液8，將其除去。而且，此時，通過從高壓氣體噴出口23向襯底1噴上清凈的高壓氮氣，來促進(jìn)被涂敷在藥液涂敷區(qū)域的藥液8的干燥，同時防止藥液8向非涂敷區(qū)域流出。
如上所述，根據(jù)第1實施例，涂敷噴嘴3通過反復(fù)進(jìn)行上述動作，能夠在較高的精度下對襯底1上所希望的區(qū)域涂敷藥液8。
另外，在第1實施例中，使涂敷噴嘴3從襯底1上的一個襯底端移動到另一個襯底端的次數(shù)并不限定為一次。也就是說，可以通過一邊使涂敷噴嘴3移動，以使其經(jīng)過藥液涂敷區(qū)域兩次或者多于兩次，一邊對該藥液涂敷區(qū)域重疊地涂敷藥液8，來將藥液8的涂敷厚度設(shè)定成所希望的厚度。
并且，在第1實施例中，沒有使晶片夾盤6驅(qū)動。但是，也可以代替它，通過設(shè)置發(fā)動機(jī)使晶片夾盤6與襯底1共同旋轉(zhuǎn)所希望的圈數(shù)，藉此方法，來使襯底1干燥。
并且，在第1實施例中，可以從涂敷噴嘴3的噴嘴陣列7向襯底1上滴下多種藥液。例如，可以依次對襯底1上滴下象下層反射防止膜形成用藥液、抗蝕形成用藥液及上層反射防止膜形成用藥液那樣的相互性質(zhì)不同的多種藥液。
并且，在第1實施例中，可以通過使用多個藥液噴嘴，或者通過對一個或多個藥液噴嘴設(shè)置多個噴嘴陣列，以襯底1上的各區(qū)域為單位改變涂敷厚度，進(jìn)行藥液的涂敷，并且，也可以以該各區(qū)域為單位選擇性地涂敷例如負(fù)型抗蝕劑和正型抗蝕劑。這樣一來，由于能夠?qū)⒕哂卸喾N性質(zhì)的多種藥液分別選擇性地涂敷在襯底1上所希望的區(qū)域，因此能夠大幅度地減少藥液涂敷時間。并且，在利用電子線描繪的圖案形成中恰當(dāng)?shù)厥褂帽景l(fā)明時，由于能夠?qū)σr底1上選擇性地涂敷藥液，同時能夠以各區(qū)域為單位選擇性地涂敷種類不同的抗蝕劑，因此也能夠使處理能力提高。
(第2實施例)以下，參照附圖對本發(fā)明的第2實施例所涉及的藥液涂敷方法及藥液涂敷裝置加以說明。
圖4示出了第2實施例所涉及的藥液涂敷裝置的要部平面圖。第2實施例的藥液涂敷裝置的特征在于具備多個與圖2及圖3所示的第1實施例的涂敷噴嘴3一樣結(jié)構(gòu)的涂敷噴嘴，能夠通過該各涂敷噴嘴對襯底上涂敷多種藥液。
如圖4所示，本實施例的藥液涂敷裝置(涂敷器)，包括保持襯底11的晶片夾盤(省略圖示)；用以對被晶片夾盤保持的襯底11上涂敷第1藥液18a及第2藥液18b的第1涂敷噴嘴13a及第2涂敷噴嘴13b；算出涂敷噴嘴13a及13b與設(shè)置在襯底11上的測量標(biāo)記12的相對位置的襯底位置測量機(jī)構(gòu)14；存儲用以在襯底11上形成圖案的圖案信息的計算機(jī)15；以及根據(jù)由襯底位置測量機(jī)構(gòu)14算出的涂敷噴嘴13a及13b的相對位置、和存儲在計算機(jī)15中的圖案信息，進(jìn)行涂敷噴嘴13a及13b的驅(qū)動控制及藥液提供控制的裝置(例如，圖中沒有示出的其它計算機(jī)?；蛘哂嬎銠C(jī)15可以兼作本裝置)。涂敷噴嘴13a及13b，都位于被上述晶片夾盤保持的襯底11上且能夠沿襯底11的整個面移動。具體地說，涂敷噴嘴13a及13b，都能夠在襯底11上沿規(guī)定的涂敷方向(X方向)移動，并且，延在于與該X方向垂直的Y方向上，象是橫斷襯底11的樣子。涂敷噴嘴13a及13b的各Y方向(延在方向)的長度，長于成為襯底11的晶片的直徑。襯底位置測量機(jī)構(gòu)14，例如，被安裝在第1涂敷噴嘴13a中的在Y方向延伸的側(cè)面上。但是，如果能夠測量涂敷噴嘴13a及13b、與測量標(biāo)記12的相對位置的話，對襯底位置測量機(jī)構(gòu)14的設(shè)置位置，并不作特別地限定。例如，可以僅對涂敷噴嘴13a及13b的任意一方設(shè)置襯底位置測量機(jī)構(gòu)14，或者也可以對涂敷噴嘴13a及13b的兩方設(shè)置襯底位置測量機(jī)構(gòu)14。計算機(jī)15，例如，被安裝在涂敷器的框體外壁20上。
以下，對使用了圖4所示的本實施例的藥液涂敷裝置(涂敷器)的藥液涂敷方法加以說明。另外，在藥液涂敷處理之前，預(yù)先進(jìn)行向計算機(jī)15存儲圖案信息的操作。
首先，上述晶片夾盤將搬送到涂敷器的襯底11真空吸住，保持為大致成水平的狀態(tài)。其次，通過被安裝在第1涂敷噴嘴13a上的襯底位置測量機(jī)構(gòu)14，來測量在襯底11上形成的測量標(biāo)記12的位置(具體地說，從涂敷器中的基準(zhǔn)位置(O點)來看的測量標(biāo)記12的相對位置)。這里，能夠任意地進(jìn)行基準(zhǔn)位置的設(shè)定，例如，可以將第1涂敷噴嘴13a的位置設(shè)置成基準(zhǔn)位置。
另外，最好在襯底11上設(shè)置4個或多于4個的測量標(biāo)記12，至少設(shè)置兩個或多于兩個的測量標(biāo)記12，襯底位置測量機(jī)構(gòu)14測量各測量標(biāo)記12的X方向及Y方向的位置信息。并且，襯底位置測量機(jī)構(gòu)14，進(jìn)行將該各測量值平均化的處理，藉此方法，算出涂敷噴嘴13a及13b與測量標(biāo)記12的相對位置。這里，通過對各測量標(biāo)記12的位置信息的測量值進(jìn)行標(biāo)注重要級的處理，能夠進(jìn)行最佳的位置調(diào)整(也就是，涂敷噴嘴13a及13b、與測量標(biāo)記12的相對位置的正確算出)。也就是說，當(dāng)涂敷噴嘴13a及13b的相對位置的算出精度在各測量標(biāo)記12上均有偏差時，對能夠獲得高精度的測量標(biāo)記12的位置信息的測量值標(biāo)注較大的重要級。例如，當(dāng)襯底11的外周部的測量標(biāo)記加工精度，比襯底11的中心部的測量標(biāo)記加工精度差時，通過對設(shè)置在襯底11的中心部的測量標(biāo)記12的位置信息的測量值標(biāo)注較大的重要級，來使涂敷噴嘴13a及13b的相對位置的算出精度提高。
并且，襯底位置測量機(jī)構(gòu)14，在測量標(biāo)記12的位置測量中，根據(jù)襯底11的表面狀態(tài)選擇性地使用激光的衍射光或者利用圖像傳感器等進(jìn)行的圖像認(rèn)識。并且，襯底位置測量機(jī)構(gòu)14，能夠根據(jù)藥液涂敷后的襯底11中的基礎(chǔ)圖案和涂敷圖案(使涂敷的藥液18a及18b干燥而成的圖案)的重疊吻合狀態(tài)的測定結(jié)果，進(jìn)行所測量的測量標(biāo)記12的位置信息的修正。
其次，使第1涂敷噴嘴13a從襯底11上方的一個襯底端移動到另一個襯底端。此時，根據(jù)在涂敷圖案存儲用的計算機(jī)15中存儲的圖案信息(由第1藥液18a構(gòu)成的圖案信息)、和由襯底位置測量機(jī)構(gòu)14算出的第1涂敷噴嘴13a的相對位置信息，在第1涂敷噴嘴13a移動到襯底11上的藥液滴下開始位置S的時刻，從第1涂敷噴嘴13a開始第1藥液18a的滴下，然后，在第1涂敷噴嘴13a移動到襯底11上的藥液滴下停止位置E的時刻，從第1涂敷噴嘴13a停止第1藥液18a的滴下。這里，例如，使用計算機(jī)15進(jìn)行第1涂敷噴嘴13a的驅(qū)動控制及藥液提供控制。并且，襯底11上的第1藥液18a的涂敷厚度的調(diào)整，是通過第1藥液18a的粘度、第1涂敷噴嘴13a的移動速度、及從第1涂敷噴嘴13a的噴嘴陣列(參照圖3)的第1藥液18a的滴下的有無等來進(jìn)行的。并且，在第1涂敷噴嘴13a的延在方向(與涂敷方向垂直的方向)中的第1藥液18a的涂敷的有無，是通過對第1涂敷噴嘴13a的噴嘴陣列的各藥液噴出口的第1藥液18a的滴下進(jìn)行控制(是從某噴出口滴下第1藥液18a，從其它噴出口不滴下第1藥液18a的控制)來調(diào)整的。
其次，在第1涂敷噴嘴13a開始移動，到經(jīng)過預(yù)先指定的時間后，或者在第1涂敷噴嘴13a的移動距離到達(dá)預(yù)先指定的距離后，使第2涂敷噴嘴13b從襯底11上方的一個襯底端移動到另一個襯底端。那時，根據(jù)在涂敷圖案存儲用的計算機(jī)15中存儲的圖案信息(由第2藥液18b構(gòu)成的圖案信息)、和由襯底位置測量機(jī)構(gòu)14算出的第2涂敷噴嘴13b的相對位置信息，在第2涂敷噴嘴13b移動到襯底11上的藥液滴下開始位置S的時刻，從第2涂敷噴嘴13b開始第2藥液18b的滴下，然后，在第2涂敷噴嘴13b移動到襯底11上的藥液滴下停止位置E的時刻，從第2涂敷噴嘴13b停止第2藥液18b的滴下。這里，例如，利用計算機(jī)15進(jìn)行第2涂敷噴嘴13b的驅(qū)動控制及藥液提供控制。并且，襯底11上的第2藥液18b的涂敷厚度的調(diào)整，是通過第2藥液18b的粘度、第2涂敷噴嘴13b的移動速度、及從第2涂敷噴嘴13b的噴嘴陣列(參照圖3)的第2藥液18b的滴下的有無等來進(jìn)行的。并且，在第2涂敷噴嘴13b的延在方向(與涂敷方向垂直的方向)上的第2藥液18b的涂敷的有無，是通過對從第2涂敷噴嘴13b的噴嘴陣列的各藥液噴出口的第2藥液18b的滴下進(jìn)行控制(是從某噴出口滴下第2藥液18b，從其它噴出口不滴下第2藥液18b的控制)來調(diào)整的。
如上所述，依據(jù)本發(fā)明的第2實施例，根據(jù)涂敷噴嘴13a及13b與襯底11上的測量標(biāo)記12的相對位置的算出結(jié)果、和存儲在計算機(jī)15中的圖案信息，以噴嘴為單位獨立地進(jìn)行涂敷噴嘴13a及13b的驅(qū)動控制及藥液提供控制，藉此方法，在襯底11上形成圖案。所以，由于能夠通過涂敷噴嘴13a及13b僅對襯底11上所希望的區(qū)域分別涂敷多種藥液(第1藥液18a及第2藥液18b)，因此當(dāng)使用感光性樹脂作為藥液18a及18b進(jìn)行圖案形成時，能夠省略曝光步驟及顯像步驟。并且，也能夠使用非感光性樹脂作為藥液18a及18b進(jìn)行圖案形成。因此，能夠在不使用復(fù)雜的設(shè)備結(jié)構(gòu)的情況下，在短時間內(nèi)進(jìn)行圖案形成。
另外，在第2實施例中，分別在襯底11上將兩種藥液18a及18b涂敷了一層。但是，使涂敷噴嘴13a及13b從襯底11上的一個襯底端移動到另一個襯底端的次數(shù)，并不限定為一次。也就是說，可以通過一邊使涂敷噴嘴13a及13b移動，以使其將藥液涂敷區(qū)域經(jīng)過兩次或多于兩次，一邊對該藥液涂敷區(qū)域的一部分或者全部重疊涂敷藥液18a及18b，來將藥液18a及18b的涂敷厚度設(shè)定成所希望的厚度。
并且，在第2實施例中，采用了與圖2及圖3所示的第1實施例的涂敷噴嘴3一樣的結(jié)構(gòu)，作為涂敷噴嘴13a及13b的結(jié)構(gòu)。但是，對涂敷噴嘴13a及13b的結(jié)構(gòu)并沒有作特別地限定。并且，可以對藥液涂敷裝置設(shè)置3個或多于3個的涂敷噴嘴。
(第3實施例)以下，參照附圖對本發(fā)明的第3實施例所涉及的藥液涂敷方法及藥液涂敷裝置加以說明。
圖5示出了第3實施例所涉及的藥液涂敷裝置的要部平面圖。第3實施例的藥液涂敷裝置的特征在于涂敷噴嘴的延在方向的長度短于成為襯底的晶片的直徑、以及該涂敷噴嘴能夠自由地(平面上)在襯底上移動。
如圖5所示，本實施例的藥液涂敷裝置(涂敷器)，包括保持襯底31的晶片夾盤(省略圖示)；用以對被晶片夾盤保持的襯底31上涂敷藥液38的涂敷噴嘴33；算出涂敷噴嘴33與設(shè)置在襯底31上的測量標(biāo)記32的相對位置的襯底位置測量機(jī)構(gòu)34；存儲用以在襯底31上形成圖案的圖案信息的計算機(jī)35；以及根據(jù)由襯底位置測量機(jī)構(gòu)34算出的涂敷噴嘴33的相對位置、和存儲在計算機(jī)35的圖案信息，進(jìn)行涂敷噴嘴33的驅(qū)動控制及藥液提供控制的裝置(例如，圖中沒有示出的其它計算機(jī)。或者計算機(jī)35可以兼作本裝置)。涂敷噴嘴33，位于被上述晶片夾盤保持的襯底31上且能夠沿襯底31的整個面移動。具體地說，涂敷噴嘴33，能夠通過驅(qū)動軸39a沿箭頭A方向移動且能夠通過驅(qū)動軸39b沿箭頭B方向(與箭頭A方向垂直的方向)移動。也就是說，涂敷噴嘴33，能夠在襯底31上平面移動。另外，涂敷噴嘴33的箭頭A方向(延在方向)的長度，短于成為襯底31的晶片的直徑。并且，涂敷噴嘴33的噴出面的結(jié)構(gòu)，基本上與圖3所示的第1實施例的涂敷噴嘴3一樣。襯底位置測量機(jī)構(gòu)34，例如，被安裝在涂敷噴嘴33中上的在箭頭A方向延伸的側(cè)面。但是，如果能夠測量涂敷噴嘴33與測量標(biāo)記32的相對位置的話，對襯底位置測量機(jī)構(gòu)34的設(shè)置位置并不作特別地限定。計算機(jī)35，例如，被安裝在涂敷器的框體外壁30上。
以下，對使用了圖5所示的本實施例的藥液涂敷裝置(涂敷器)的藥液涂敷方法加以說明。另外，在藥液涂敷處理之前，預(yù)先進(jìn)行將圖案信息存儲在計算機(jī)35的操作。
首先，上述晶片夾盤將搬送到涂敷器的襯底31真空吸住，保持為大致成水平的狀態(tài)。其次，通過被安裝在涂敷噴嘴33上的襯底位置測量機(jī)構(gòu)34，來測量在襯底31上形成的測量標(biāo)記32的位置(具體地說，從涂敷器中的基準(zhǔn)位置(O點)來看的測量標(biāo)記32的相對位置)。這里，能夠任意地進(jìn)行基準(zhǔn)位置的設(shè)定，例如，可以將涂敷噴嘴33的位置設(shè)置成基準(zhǔn)位置。
另外，最好在襯底31上設(shè)置4個或多于4個的測量標(biāo)記32，至少設(shè)置兩個或多于兩個的測量標(biāo)記32，襯底位置測量機(jī)構(gòu)34測量各測量標(biāo)記32的X方向(箭頭B方向)及Y方向(與X方向垂直的方向，也就是，箭頭A方向)的位置信息。并且，襯底位置測量機(jī)構(gòu)34，進(jìn)行將該各測量值平均化的處理，藉此方法，算出涂敷噴嘴33與測量標(biāo)記32的相對位置。這里，通過對各測量標(biāo)記32的位置信息的測量值進(jìn)行標(biāo)注重要級的處理，能夠進(jìn)行最佳的位置調(diào)整(也就是，涂敷噴嘴33與測量標(biāo)記32的相對位置的正確算出)。也就是說，當(dāng)涂敷噴嘴33的相對位置的算出精度在各測量標(biāo)記32上均有偏差時，對能夠獲得高精度的測量標(biāo)記32的位置信息的測量值標(biāo)注較大的重要級。例如，當(dāng)襯底31的外周部的測量標(biāo)記加工精度，比襯底31的中心部的測量標(biāo)記加工精度差時，通過對設(shè)置在襯底31的中心部的測量標(biāo)記32的位置信息的測量值標(biāo)注較大的重要級，來使涂敷噴嘴33的相對位置的算出精度提高。
并且，襯底位置測量機(jī)構(gòu)34，在測量標(biāo)記32的位置測量中，根據(jù)襯底31的表面狀態(tài)選擇性地使用激光的衍射光或者利用圖像傳感器等進(jìn)行的圖像認(rèn)識。并且，襯底位置測量機(jī)構(gòu)34，能夠根據(jù)藥液涂敷后的襯底31中的基礎(chǔ)圖案和涂敷圖案(使涂敷的藥液38干燥而成的圖案)的重疊吻合狀態(tài)的測定結(jié)果，進(jìn)行所測量的測量標(biāo)記32的位置信息的修正。
其次，使涂敷噴嘴33在襯底31上方，例如，沿著箭頭A方向從一個襯底端移動到另一個襯底端。那時，根據(jù)在涂敷圖案存儲用的計算機(jī)35中存儲的圖案信息、和由襯底位置測量機(jī)構(gòu)34算出的涂敷噴嘴33的相對位置信息，在涂敷噴嘴33移動到襯底31上的藥液滴下開始位置S的時刻，從涂敷噴嘴33開始藥液38的滴下，然后，在涂敷噴嘴33移動到襯底31上的藥液滴下停止位置E的時刻，從涂敷噴嘴33停止藥液38的滴下。這里，例如，使用計算機(jī)35進(jìn)行涂敷噴嘴33的驅(qū)動控制及藥液提供控制。并且，襯底31上的藥液38的涂敷厚度的調(diào)整，是通過藥液38的粘度、涂敷噴嘴33的移動速度、及從涂敷噴嘴33的噴嘴陣列(參照圖3)的藥液38的滴下的有無等來進(jìn)行的。
如上所述，依據(jù)本發(fā)明的第3實施例，根據(jù)涂敷噴嘴33與襯底31上的測量標(biāo)記32的相對位置的算出結(jié)果、和存儲在計算機(jī)35中的圖案信息，進(jìn)行涂敷噴嘴33的驅(qū)動控制及藥液提供控制，藉此方法，來在襯底31上形成圖案。所以，由于能夠通過涂敷噴嘴33僅對襯底31上所希望的區(qū)域涂敷藥液38，因此當(dāng)使用感光性樹脂作為藥液38進(jìn)行圖案形成時，能夠省略曝光步驟及顯像步驟。并且，也能夠使用非感光性樹脂作為藥液38進(jìn)行圖案形成。因此，能夠在不使用復(fù)雜的設(shè)備結(jié)構(gòu)的情況下，在短時間內(nèi)進(jìn)行圖案形成。
另外，在本實施例中，對使涂敷噴嘴33移動的方法并沒有作特別地限定。也就是說，驅(qū)動軸39a及39b分別沿著箭頭A方向及箭頭B方向移動，隨著此移動，涂敷噴嘴33能夠在襯底31上所希望的位置自由地移動。
并且，在本實施例中，可以使襯底31和涂敷噴嘴33(正確地說，該噴出面)之間的距離能夠調(diào)整。
(實用性)本發(fā)明涉及一種藥液涂敷裝置及藥液涂敷方法，當(dāng)恰當(dāng)?shù)厥褂迷谥圃彀雽?dǎo)體裝置的光刻步驟中或者制造液晶面板等中時，能夠獲得在不使用復(fù)雜的設(shè)備結(jié)構(gòu)的情況下，在短時間內(nèi)進(jìn)行圖案形成的效果，非常地有用。
權(quán)利要求
1.一種藥液涂敷裝置，其特征在于包括保持襯底的保持器；能夠在由上述保持器所保持的上述襯底上移動且對該襯底的表面提供藥液的涂敷噴嘴；存儲用以在上述襯底上形成圖案的圖案信息的存儲器；算出上述涂敷噴嘴與設(shè)置在上述襯底上的測量標(biāo)記的相對位置的位置算出器；以及根據(jù)由上述位置算出器算出的上述相對位置、和存儲在上述存儲器的上述圖案信息，利用上述涂敷噴嘴對上述襯底上涂敷上述藥液，來形成上述圖案的控制器。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的藥液涂敷裝置，其特征在于上述涂敷噴嘴，具有上述藥液噴出口、使上述藥液溶解的溶劑噴出口、廢液吸引口和氣體噴出口。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的藥液涂敷裝置，其特征在于上述涂敷噴嘴被設(shè)置有多個，該各涂敷噴嘴分別被單獨驅(qū)動控制。
4.一種藥液涂敷方法，其特征在于包括將用以在襯底上形成圖案的圖案信息存儲在存儲器中的步驟(a)；算出涂敷噴嘴與設(shè)置在上述襯底上的測量標(biāo)記的相對位置的步驟(b)；以及根據(jù)上述相對位置和上述圖案信息，利用上述涂敷噴嘴對上述襯底上涂敷藥液，來形成上述圖案的步驟(c)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的藥液涂敷方法，其特征在于上述步驟(c)，包括通過讓上述涂敷噴嘴移動，以使其將規(guī)定的藥液涂敷區(qū)域經(jīng)過兩次或多于兩次，來在上述規(guī)定的藥液涂敷區(qū)域重疊地涂敷上述藥液的步驟。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的藥液涂敷方法，其特征在于上述步驟(c)，包括利用上述涂敷噴嘴對上述襯底上涂敷兩種或多于兩種的藥液的步驟。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的藥液涂敷方法，其特征在于上述步驟(c)，包括在利用上述涂敷噴嘴對上述襯底上涂敷使上述藥液溶解的溶劑的同時，根據(jù)上述圖案信息將涂敷在上述襯底上的沒有用的上述藥液除去的步驟。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的藥液涂敷方法，其特征在于上述步驟(c)，包括利用上述涂敷噴嘴吸引被上述溶劑溶解的上述藥液，將其除去的步驟。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種藥液涂敷裝置及藥液涂敷方法。本發(fā)明的目的在于能夠在不使用復(fù)雜的設(shè)備結(jié)構(gòu)的情況下，在短時間內(nèi)進(jìn)行圖案形成。藥液涂敷裝置(涂敷器)，包括保持襯底1的晶片夾盤6；用于對被晶片夾盤6保持的襯底1上涂敷藥液8的涂敷噴嘴3；算出涂敷噴嘴3與設(shè)置在襯底1上的測量標(biāo)記2的相對位置的襯底位置測量機(jī)構(gòu)4；以及在存儲用以在襯底1上形成圖案的圖案信息的同時，根據(jù)上述相對位置和上述圖案信息進(jìn)行涂敷噴嘴3的驅(qū)動控制及藥液提供控制的計算機(jī)5。
文檔編號B05C11/10GK1710489SQ200510074289
公開日2005年12月21日 申請日期2005年6月2日 優(yōu)先權(quán)日2004年6月18日
發(fā)明者水戶秀明 申請人:松下電器產(chǎn)業(yè)株式會社