專利名稱：：用于噴墨沉積的pled/oled器件的容器及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及用于形成聚合物發(fā)光二極管(PLED)或有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)顯示器的噴墨沉積法。具體地說，本發(fā)明涉及形成用于噴墨沉積的PLED/OLED器件的蒸鍍?nèi)萜?evaporatedreceptacles)。
背景技術(shù)：
：有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)是由半導(dǎo)體有機(jī)聚合物制成的發(fā)光二極管(LED)。這些器件有望成為比無機(jī)LED制造成本更便宜的器件?？梢允褂煤?jiǎn)單的“印刷”方法在屏幕上沉積按陣列形式布置的不同數(shù)量的OLED，以形成用作電視屏、計(jì)算機(jī)顯示器、便攜式系統(tǒng)屏幕和用于廣告信息板應(yīng)用的圖像彩色顯示器。OLED面板也可以用作發(fā)光器件。我們發(fā)現(xiàn)在計(jì)算機(jī)監(jiān)視器中，OLED顯示器大大優(yōu)于傳統(tǒng)液晶顯示器的一個(gè)地方在于，OLED顯示器不需要背光來工作。這就意味著它們消耗更少的電，并且可以與小的便攜式器件一起使用，為了節(jié)省電，小的便攜式器件大部分由單色的低分辨率顯示器構(gòu)成。這也表明，它們一次充電后能夠持續(xù)使用很長(zhǎng)時(shí)間。在OLED技術(shù)中有兩個(gè)主要方向。第一種OLED技術(shù)是由EastmanKodak公司(位于美國(guó)紐約州Rochester市)開發(fā)的，通常稱為“小分子”O(jiān)LED。生產(chǎn)小分子顯示器需要真空沉積法，這導(dǎo)致生產(chǎn)過程昂貴而且不靈活。第二種OLED技術(shù)是由CambridgeDisplayTechnology(位于英國(guó)劍橋市)開發(fā)的基于聚合物的OLED技術(shù)，有時(shí)稱為PLED技術(shù)。雖然PLED技術(shù)的開發(fā)比小分子OLED技術(shù)的開發(fā)落后幾年，但是由于一些優(yōu)點(diǎn)而使得它是有希望的。例如，可以用從市售噴墨印刷中得到的技術(shù)在基板上施加有機(jī)電致發(fā)光材料，這就表明，PLED顯示器可以用非常靈活且廉價(jià)的方式制造。生產(chǎn)多色有機(jī)顯示器并不是一種容易的事。雖然在形成較大特征尺寸的顯示器中人們已經(jīng)相當(dāng)接受使用噴墨印刷技術(shù)形成PLED顯示器，但是迄今為止該技術(shù)取決于在顯示基板上形成容器的復(fù)雜的昂貴的光刻過程。容器或井是形成在基板上的結(jié)構(gòu)，就PLED顯示器而言，在噴墨沉積過程中，成滴的聚合物溶液被收集在該結(jié)構(gòu)中。人們需要的是用較簡(jiǎn)單的、較廉價(jià)的方法在用于后續(xù)的噴墨沉積過程的顯示基板上形成容器，然后將聚合物溶液輸送到該基板上，以便完成顯示器的制造。在標(biāo)題為“ProducingMulti-colorStableLight-EmittingOrganicDisplays”的美國(guó)專利No.6,767,774中披露了使用噴墨沉積法形成發(fā)光顯示器的一種示例性方法。該美國(guó)專利No.6,767,774描述了可通過使用絲網(wǎng)印刷技術(shù)使發(fā)光材料圖案化而在基板上形成的聚合物或有機(jī)發(fā)光顯示器。這樣，顯示器可以經(jīng)濟(jì)地制成，并且可以克服與光學(xué)處理發(fā)光材料相關(guān)的困難。二元光學(xué)材料可以選擇性地結(jié)合到溶膠-凝膠涂料中，并且可以涂布在由發(fā)光材料形成的發(fā)光元件上?？梢允褂卯a(chǎn)生單色的發(fā)光材料生產(chǎn)三色顯示器。雖然該美國(guó)專利No.6,767,774描述了使用噴墨沉積法形成發(fā)光顯示器的合適的方法，但是它沒有提及下述內(nèi)容即，提供在用于噴墨沉積過程中的基板上形成容器結(jié)構(gòu)的較簡(jiǎn)單的或更廉價(jià)的方法。因此，本發(fā)明的目的在于提供在用于后續(xù)噴墨沉積過程中的顯示基板上形成容器的簡(jiǎn)單而廉價(jià)的方法，該方法用于形成大面積的PLED/OLED顯示器。本發(fā)明的另一目的在于提供使用陰影掩模真空沉積法在用于后續(xù)噴墨沉積過程中的顯示基板上形成容器的方法。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明涉及用于噴墨沉積的PLED/OLED器件的蒸鍍?nèi)萜饕约爸圃爝@種器件的方法。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，通過以下方式形成發(fā)光顯示器形成其上設(shè)置有電極的基板；通過陰影掩模真空沉積法在所述電極上形成容器結(jié)構(gòu)；以及通過標(biāo)準(zhǔn)噴墨沉積法將包含發(fā)光材料的一定量的聚合物溶液輸送到輸送容器結(jié)構(gòu)中。本發(fā)明避免了使用復(fù)雜而昂貴的光刻法在顯示基板上形成容器。結(jié)果，使用陰影掩模真空沉積法形成噴墨容器和使用噴墨沉積法輸送發(fā)光材料的結(jié)合提供較不復(fù)雜且節(jié)省成本的方式制造任何所需尺寸的聚合物顯示器。從下面參照附圖所提供的對(duì)示例性實(shí)施例的詳細(xì)描述，本發(fā)明的其它特征和優(yōu)點(diǎn)將更顯而易見。圖1示出根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的圖像元素的頂視圖。圖2示出由本發(fā)明的多個(gè)圖像元素形成的示例發(fā)光顯示器。圖3A示出沿圖1的線A-A截取的本發(fā)明的圖像元素的剖視圖。圖3B示出沿圖1的線B-B截取的本發(fā)明的圖像元素的剖視圖。圖4示出根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的用于通過陰影掩模真空沉積法形成容器交叉部分的布置的示例性陰影掩模的頂視圖。圖5示出根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的用于通過陰影掩模真空沉積法形成容器連接部分的布置的示例性陰影掩模的頂視圖。圖6示出根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的圖像元素的頂視圖。圖7示出根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的用于通過陰影掩模真空沉積法形成容器交叉部分的布置的示例性陰影掩模的頂視圖。圖8示出根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的用于通過陰影掩模真空沉積法形成容器連接部分的布置的示例性陰影掩模的頂視圖。圖9示出根據(jù)本發(fā)明的用陰影掩模真空沉積法制造噴墨容器以及使用該噴墨容器的方法的流程圖。具體實(shí)施例方式圖1示出根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的圖像元素100的頂視圖。圖像元素100是平板顯示器例如PLED或OLED顯示器的典型像素。圖像元素100包括基板110，在該基板110上形成有容器112。容器112是通過具有一定布置形式的蒸鍍部分形成。容器112由按網(wǎng)格形式布置的多個(gè)交叉部分114形成，所述交叉部分通過多個(gè)連接部分116和連接部分118相互連接，從而形成用于在噴墨沉積過程中保持液體溶劑的容器112的壁。在該實(shí)例中，容器112由按網(wǎng)格形式布置的交叉部分114a、交叉部分114b、交叉部分114c和交叉部分114d構(gòu)成，這如圖1所示。交叉部分114a和交叉部分114b通過連接部分116a相互連接形成容器112的第一壁；交叉部分114c和交叉部分114d通過連接部分116b相互連接形成容器112的第二壁；交叉部分114a和114c通過連接部分118a相互連接形成容器112的第三壁；以及交叉部分114b和114d通過連接部分118b相互連接形成容器112的第四壁。沉積在容器112的壁內(nèi)的是一定量的發(fā)光介質(zhì)120，其中容器112的壁是通過交叉部分114、連接部分116和連接部分118結(jié)合而形成的?；?10由適用于陰影掩模蒸鍍法的任何標(biāo)準(zhǔn)基板材料例如金屬箔、塑料或玻璃形成。容器112的交叉部分114、連接部分116和連接部分118由陰影掩模蒸鍍法形成。用于形成交叉部分114、連接部分116和連接部分118的材料是一種有機(jī)疏水性材料，該有機(jī)疏水性材料適合與噴墨沉積法一起使用，并且也適合與陰影掩模蒸鍍制造法一起使用。雖然詞語(yǔ)“疏水”的字面定義大致為排斥水，但是對(duì)本發(fā)明而言，“疏水”是指對(duì)包含發(fā)光材料的聚合物溶液的粘附性(親和力)低。相反，雖然詞語(yǔ)“親水”的字面定義大致為吸水，但是對(duì)本發(fā)明而言，“親水”是指對(duì)包含發(fā)光材料的聚合物溶液的粘附性(親和力)高。為了方便的目的，使用這兩種表述作為比較，以闡明對(duì)聚合物溶液的親和力程度。用于形成容器112的交叉部分114、連接部分116和連接部分118的有機(jī)疏水性材料的例子是(聚)乙烯醇、(聚)丙烯酸酯或聚酰亞胺。這樣設(shè)計(jì)目的是使形成容器112的交叉部分114、連接部分116和連接部分118的固體材料具有比設(shè)置在容器112內(nèi)的聚合物溶液的表面張力高的表面能，由此，形成容器12的結(jié)構(gòu)排斥聚合物溶液。此外，參照?qǐng)D4和圖5，可得到用陰影掩模蒸鍍法形成容器112的交叉部分114、連接部分116和連接部分118的細(xì)節(jié)。發(fā)光介質(zhì)120是典型的發(fā)光固體聚合物層，該發(fā)光固體聚合物層是通過標(biāo)準(zhǔn)噴墨法沉積的，因此將一定量的其中溶解有聚合物材料的溶劑沉積在容器112里，并且干燥該溶劑，從而僅留下固體的發(fā)光材料層。市售的聚合物溶劑是，例如，二甲苯；甲苯；苯化合物，例如三甲基苯、氯苯；由ShellChemical公司(位于美國(guó)得克薩斯州Houston市)提供的二氯苯；或者包含這些化工產(chǎn)品的專用混合物，例如由DowCorning公司(位于美國(guó)馬里蘭州Midland市)提供的那些化工產(chǎn)品。圖2示出由圖1中所述的多個(gè)圖像元素100形成的發(fā)光顯示器200的例子。圖像元素100的容器112由陰影掩模真空沉積法形成在基板110上。隨后，為了完成發(fā)光顯示器200的形成，通過標(biāo)準(zhǔn)噴墨法將發(fā)光介質(zhì)沉積在容器112里。此外，參照?qǐng)D3A和圖3B，可得到噴墨法的細(xì)節(jié)。圖3A示出沿圖1的線A-A截取的圖像元素100的剖視圖。交叉部分114c和114d以及連接部分116b沉積在電極122上面，該電極是沉積在基板110上的圖像元素100的電路的一部分。交叉部分114c和114d與連接部分116b相互連接以形成容器112的連續(xù)壁。連接部分116b沉積成這樣其在一端上與交叉部分114c稍微重疊，并且在相對(duì)的另一端上與交叉部分114d稍微重疊，使得該連接部分116b填充交叉部分114c和114d之間的間隙，以形成連續(xù)的壁，這如圖3A所示。電極122由親水性導(dǎo)電材料(例如常用于底部發(fā)光的PLED顯示器的銦錫氧化物(ITO))或者金屬(例如由通過鎳膜暴露于存在氧氣的等離子體而形成的薄的(5-50埃厚)鎳氧化物覆蓋的鎳)形成。這樣設(shè)計(jì)目的是使得形成電極122的固體材料具有比設(shè)置在該電極122上的聚合物溶液的表面張力低的表面能，由此，電極122吸引聚合物溶液。圖3B示出沿圖1的線B-B截取的圖像元素100的剖視圖。圖3B示出發(fā)光介質(zhì)120以容器112的井結(jié)構(gòu)為邊界，該容器112的井結(jié)構(gòu)由交叉部分114、連接部分116和連接部分118結(jié)合而形成。圖3B還示出填充有溶液124的容器112，該溶液是典型的聚合物溶液，如參照?qǐng)D1所述。為了簡(jiǎn)單起見，圖3A和圖3B沒有示出電子有源矩陣電路，電子有源矩陣電路通常設(shè)置在電極122和基板110之間。參照?qǐng)D1、圖2、圖3A和圖3B，容器112的交叉部分114、連接部分116和連接部分118通過陰影掩模蒸鍍系統(tǒng)形成，例如參照轉(zhuǎn)讓給Amedeo公司(位于美國(guó)賓夕法尼亞州Pittsburgh市)的美國(guó)專利申請(qǐng)No.2003/0228715所述，該專利申請(qǐng)的標(biāo)題為“ActiveMatrixBackplaneforControllingControlledElementsandMethodofManufactureThereof”，該專利申請(qǐng)以引用方式并入本文中。該專利申請(qǐng)No.2003/0228715中描述了由沉積在基板上的電子元件形成的電子器件。電子元件是將基板進(jìn)給通過多個(gè)沉積真空室而沉積在基板上的，所述沉積真空室具有設(shè)置在其內(nèi)的至少一個(gè)材料沉積源和陰影掩模。來自設(shè)置在每個(gè)沉積真空室中的至少一個(gè)材料沉積源的材料通過設(shè)置在該沉積真空室中的陰影掩模沉積在基板上，從而在基板上形成由電子元件陣列形成的電路。該電路僅僅通過在基板上連續(xù)沉積材料來形成。容器112的交叉部分114、連接部分116和連接部分118形成為例如2微米厚、一定的寬度，實(shí)際寬度取決于基板110上的圖像元素100的間距。例如，由交叉部分114、連接部分116和連接部分118形成的每個(gè)容器112的壁的寬度可以在10微米至20微米的范圍內(nèi)。繼續(xù)參照?qǐng)D1、圖2、圖3A和圖3B，在標(biāo)準(zhǔn)噴墨沉積過程中，印刷頭橫掃目標(biāo)顯示的區(qū)域(例如圖2的發(fā)光顯示器200)，并且將預(yù)定容量的成滴的溶液124輸送到其容器112中。這樣做，用預(yù)定量的溶液124將每個(gè)容器112填充或稍微充滿到同一水平，這如圖3B所示。成滴的溶液124被用于形成每個(gè)容器112的壁的疏水性材料排斥，但是，同時(shí)，由于電極122的親水性材料的表面能而導(dǎo)致成滴的溶液124被引入每個(gè)容器112中。這樣，每滴溶液124都被引入目標(biāo)顯示器(例如圖2的發(fā)光顯示器200)的每個(gè)圖像元素100中的所希望位置上。然后，使該顯示器經(jīng)過干燥過程，從而溶液124中的液體蒸發(fā)并僅留下溶液124中的固體作為薄而均勻的固體發(fā)光材料層，即，發(fā)光介質(zhì)120。圖4示出根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的用于通過陰影掩模真空沉積法形成多個(gè)容器112的交叉部分114的布置的示例性陰影掩模400的頂視圖。陰影掩模400包括由例如鎳、鉻、鋼、銅、科瓦鐵鎳鈷合金(Kovar)或因瓦鐵鎳合金(Invar)形成的薄片410?？仆哞F鎳鈷合金或因瓦鐵鎳合金是商業(yè)上以KOVARTM或INVARTM知名的低熱膨脹系數(shù)(CTE)的材料，并且由ESPICorp公司(位于美國(guó)俄勒岡州Ashland市)供應(yīng)。形成在薄片410內(nèi)的是用于形成具有一定布置形式的交叉部分114的孔412的圖案，這些孔是具有預(yù)定的尺寸、形狀和位置的開口。參照?qǐng)D1和圖4，陰影掩模400包括，例如，用于形成交叉部分114a的孔412a、用于形成交叉部分114b的孔412b、用于形成交叉部分114c的孔412c和用于形成交叉部分114d的孔412d?？?12的位置由間距設(shè)定，該間距由對(duì)給定顯示設(shè)計(jì)的圖像元素100的相關(guān)的設(shè)計(jì)布局確定。更具體地說，孔412的間距取決于給定顯示設(shè)計(jì)的每英寸像素?cái)?shù)。例如，孔412的間距可以在100μm至500μm的范圍內(nèi)，其分別等于每英寸250個(gè)像素至每英寸50個(gè)像素。陰影掩模400適用于蒸鍍系統(tǒng)的一個(gè)沉積階段的真空室中。在專利申請(qǐng)No.2003/0228715中描述了用于形成容器112的交叉部分114、連接部分116和連接部分118的陰影掩模蒸鍍系統(tǒng)和方法的例子。可任選地，對(duì)于任何給定顯示設(shè)計(jì)來形成整個(gè)布置的交叉部分114，根據(jù)設(shè)計(jì)的間距，可以需要一個(gè)或多個(gè)陰影掩模例如陰影掩模400，其分別對(duì)應(yīng)于蒸鍍過程的一個(gè)或多個(gè)連續(xù)沉積階段。要求陰影掩模例如陰影掩模400的結(jié)構(gòu)整體性和強(qiáng)度合適地保持與孔412的任何給定設(shè)計(jì)布局匹配。圖5示出根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的用于通過陰影掩模真空沉積法形成多個(gè)容器112的連接部分116和連接部分118的布置的示例性陰影掩模500的頂視圖。陰影掩模500包括由例如鎳、鉻、鋼、銅、科瓦鐵鎳鈷合金或因瓦鐵鎳合金形成的薄片510。形成在薄片510內(nèi)的是用于分別形成具有一定布置形式的連接部分116和連接部分118的孔516和孔518的圖案，這些孔是具有預(yù)定的尺寸、形狀和位置的開口。參照?qǐng)D1和圖5，陰影掩模500包括，例如，用于形成連接部分116a的孔516a、用于形成連接部分116b的孔516b、用于形成連接部分118a的孔518a和用于形成連接部分118b的孔518b?？?16和518的位置由間距設(shè)定，該間距由對(duì)給定顯示設(shè)計(jì)的圖像元素100的相關(guān)設(shè)計(jì)布局確定。更具體地說，孔516和518的間距取決于給定顯示設(shè)計(jì)的每英寸像素?cái)?shù)。例如，孔516和518的間距可以在100μm至500μm的范圍內(nèi)，其分別等于每英寸250個(gè)像素至每英寸50個(gè)像素。陰影掩模500適用于蒸鍍系統(tǒng)的一個(gè)沉積階段的真空室中。在專利申請(qǐng)No.2003/0228715中描述了用于形成容器112的交叉部分114、連接部分116和連接部分118的陰影掩模蒸鍍系統(tǒng)和方法的例子?？扇芜x地，對(duì)于任何給定顯示設(shè)計(jì)來形成連接部分116和連接部分118的整個(gè)布置，根據(jù)設(shè)計(jì)的間距，可以需要一個(gè)或多個(gè)陰影掩模例如陰影掩模500，其分別對(duì)應(yīng)于蒸鍍過程的一個(gè)或多個(gè)連續(xù)沉積階段，例如，僅僅包含孔516的一種陰影掩模，僅僅包含孔518的另一種陰影掩模。要求陰影掩模例如陰影掩模500的結(jié)構(gòu)整體性和強(qiáng)度合適地保持與孔516和/或孔518的任何給定設(shè)計(jì)布局匹配。圖6示出根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的圖像元素600的頂視圖。圖像元素600是平板顯示器例如PLED或OLED顯示器的典型像素。圖像元素600包括基板110，在基板110上形成有容器612。容器612通過具有一定布置形式的蒸鍍部分形成，并且由按網(wǎng)格形式布置的多個(gè)交叉部分614形成，這些交叉部分通過多個(gè)連接部分616和連接部分618相互連接，從而形成用于在噴墨沉積過程中保持液體溶劑的容器612的壁。在該實(shí)例中，容器612由按網(wǎng)格形式布置的交叉部分614a、交叉部分614b、交叉部分614c和交叉部分614d形成，這如圖6所示。交叉部分614a和交叉部分614b通過連接部分616a相互連接形成容器612的第一壁；交叉部分614c和交叉部分614d通過連接部分616b相互連接形成容器612的第二壁；交叉部分614a和交叉部分614c通過連接部分618a相互連接形成容器612的第三壁；交叉部分614b和交叉部分614d通過連接部分618b相互連接形成容器612的第四壁。沉積在容器612的壁內(nèi)的是一定量的發(fā)光介質(zhì)120，該容器612的壁由交叉部分614、連接部分616和連接部分618結(jié)合形成。容器612的交叉部分614、連接部分616和連接部分618由陰影掩模蒸鍍法形成。用于形成交叉部分614、連接部分616和連接部分618的材料是一種有機(jī)疏水性材料，該有機(jī)疏水性材料適合與噴墨沉積法一起使用，并且也適合與陰影掩模蒸鍍制造法一起使用，這如圖1中所述。此外，參照?qǐng)D7和圖8，可得到用陰影掩模蒸鍍法形成容器612的交叉部分614、連接部分616和連接部分618的細(xì)節(jié)。與圖1的圖像元素100相比較，圖像元素600示出了用于顯示器的容器的另一種可選的示例形狀。更具體地說，圖1的圖像元素100產(chǎn)生形成正方形的發(fā)光介質(zhì)120，而圖6的圖像元素600產(chǎn)生形成圓形的發(fā)光介質(zhì)120。本發(fā)明的容器的形狀并不局限于正方形或圓形，任何所需的形狀或幾何結(jié)構(gòu)，例如，矩形、正方形、圓形或橢圓形，都在本發(fā)明的范圍內(nèi)。圖7示出根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的用于通過陰影掩模真空沉積法形成多個(gè)容器612的交叉部分614的布置的示例性陰影掩模700的頂視圖。陰影掩模700包括由例如鎳、鉻、鋼、銅、科瓦鐵鎳鈷合金或因瓦鐵鎳合金形成的薄片710。形成在薄片710內(nèi)的是用于形成具有一定布置形式的交叉部分614的孔712的圖案，這些孔是具有預(yù)定的尺寸、形狀和位置的開口。參照?qǐng)D6和圖7，陰影掩模700包括，例如，用于形成交叉部分614a的孔712a、用于形成交叉部分614b的孔712b、用于形成交叉部分614c的孔712c和用于形成交叉部分614d的孔712d?？?12的位置由間距設(shè)定，該間距由對(duì)給定顯示設(shè)計(jì)的圖像元素600的相關(guān)設(shè)計(jì)布局確定。更具體地說，孔712的間距取決于給定顯示設(shè)計(jì)的每英寸像素?cái)?shù)。例如，孔712的間距可以在100μm至500μm的范圍內(nèi)，其分別等于每英寸250個(gè)像素至每英寸50個(gè)像素。陰影掩模700適用于蒸鍍系統(tǒng)的一個(gè)沉積階段的真空室中。在專利申請(qǐng)No.2003/0228715中，描述了用于形成容器612的交叉部分614、連接部分616和連接部分618的陰影掩模蒸鍍系統(tǒng)和方法的例子?？扇芜x地，對(duì)于任何給定顯示設(shè)計(jì)來形成交叉部分614的整個(gè)布置，根據(jù)設(shè)計(jì)的間距，可以需要一個(gè)或多個(gè)陰影掩模例如陰影掩模700，其分別對(duì)應(yīng)于蒸鍍過程的一個(gè)或多個(gè)連續(xù)沉積階段。要求陰影掩模例如陰影掩模700的結(jié)構(gòu)整體性和強(qiáng)度合適地保持與孔712的任何給定設(shè)計(jì)布局匹配。圖8示出根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的用于通過陰影掩模真空沉積法形成多個(gè)容器612的連接部分616和連接部分618的布置的示例性陰影掩模800的頂視圖。陰影掩模800包括由例如鎳、鉻、鋼、銅、科瓦鐵鎳鈷合金或因瓦鐵鎳合金形成的薄片810。形成在薄片810內(nèi)的是用于分別形成具有一定布置形式的連接部分616和連接部分618的孔816和孔818的圖案，這些孔是具有預(yù)定的尺寸、形狀和位置的開口。參照?qǐng)D6和圖8，陰影掩模800包括，例如，用于形成連接部分616a的孔816a、用于形成連接部分616b的孔816b、用于形成連接部分618a的孔818a和用于形成連接部分618b的孔818b。孔816和818的位置由間距設(shè)定，該間距由對(duì)給定顯示設(shè)計(jì)的圖像元素600的相關(guān)設(shè)計(jì)布局確定。更具體地說，孔816和818的間距取決于給定顯示設(shè)計(jì)的每英寸像素?cái)?shù)。例如，孔816和818的間距可以在100μm至500μm的范圍內(nèi)，其分別等于每英寸250個(gè)像素至每英寸50個(gè)像素。陰影掩模800適用于蒸鍍系統(tǒng)的一個(gè)沉積階段的真空室中。在專利申請(qǐng)No.2003/0228715中描述了用于形成容器612的交叉部分614、連接部分616和連接部分618的陰影掩模蒸鍍系統(tǒng)和方法的例子?？扇芜x地，對(duì)于任何給定顯示設(shè)計(jì)來形成連接部分616和連接部分618的整個(gè)布置，根據(jù)設(shè)計(jì)的間距，可以需要一個(gè)或多個(gè)陰影掩模例如陰影掩模800，其分別對(duì)應(yīng)于蒸鍍過程的一個(gè)或多個(gè)連續(xù)沉積階段，例如，僅僅包含孔816的一種陰影掩模和僅僅包含孔818的另一種陰影掩模。要求陰影掩模例如陰影掩模800的結(jié)構(gòu)整體性和強(qiáng)度合適地保持與孔816和/或孔818的任何給定設(shè)計(jì)布局匹配。另外，對(duì)容器部件的沉積順序并不是關(guān)鍵的，并且在沒有對(duì)最終所得到的容器進(jìn)行材料改變的情況下可以改變?cè)摮练e順序。圖9示出根據(jù)本發(fā)明的用陰影掩模真空沉積法制造噴墨容器以及使用該噴墨容器的方法900的流程圖。繼續(xù)參照?qǐng)D1至圖8，方法900包括以下步驟。在步驟910，以一系列的布置方式安裝具有一定布置形式的沉積真空室，以形成陰影掩模真空沉積系統(tǒng)，例如參考專利申請(qǐng)No.2003/0228715所述。在步驟912，確定要通過陰影掩模真空沉積系統(tǒng)形成的特定發(fā)光顯示器的設(shè)計(jì)規(guī)格。在步驟914，形成適合與噴墨印刷沉積法一起使用的一組陰影掩模，例如，陰影掩模400、500、700或800，所述陰影掩模用于形成容器，例如多個(gè)容器112或612。根據(jù)容器結(jié)構(gòu)的每個(gè)部分的預(yù)定圖案，布置每個(gè)陰影掩模中的多個(gè)孔。在步驟916，通過任何公知的制造方法在基板例如基板110上形成與顯示器相關(guān)聯(lián)的電路。其中最外層是具有一定布置形式的電極(例如電極122)，該電極由親水性導(dǎo)電材料形成，這如參照?qǐng)D3A所述。在步驟918，在基板上形成具有一定布置形式的容器結(jié)構(gòu)，例如在基板110上的多個(gè)容器112或612。在步驟910的陰影掩模真空沉積系統(tǒng)中，使用步驟914的那一組陰影掩模，經(jīng)過一次或多次陰影掩模真空沉積形成這些容器。更具體地說，如參照?qǐng)D1所述的疏水性材料沉積在親水性電極上，以形成容器的結(jié)構(gòu)。在步驟920，用標(biāo)準(zhǔn)噴墨沉積法將溶劑中溶解有聚合物的溶液例如溶液124沉積在步驟918中形成的容器中。在標(biāo)準(zhǔn)噴墨沉積過程中，印刷頭橫掃目標(biāo)顯示的區(qū)域(例如圖2的發(fā)光顯示器200)，并且將預(yù)定容量的成滴的溶液124輸送到其容器112中。這樣做，用預(yù)定量的溶液124將每個(gè)容器112填充或稍微充滿到同一水平，這如圖3B所示。成滴的溶液124被用于形成每個(gè)容器112的壁的疏水性材料排斥，但是，同時(shí)，由于電極122的親水性材料的表面能而導(dǎo)致成滴的溶液124引入每個(gè)容器112中。這樣，每滴溶液124都被引入目標(biāo)顯示器(例如圖2的發(fā)光顯示器200)的每個(gè)圖像元素100中所希望的位置上。然后，使該顯示器經(jīng)過干燥過程，從而溶液124中的液體蒸發(fā)并僅留下溶液124中的固體作為薄而均勻的固體發(fā)光材料層，即，發(fā)光介質(zhì)120。然后方法900結(jié)束。雖然結(jié)合示例性實(shí)施例已詳細(xì)地描述了本發(fā)明，但是，應(yīng)該這樣理解，本發(fā)明并不局限于上面所披露的實(shí)施例。相反，可以對(duì)本發(fā)明進(jìn)行修改，以包含前面沒有描述但與本發(fā)明的實(shí)質(zhì)和范圍相稱的各種改變、變更、替換或等同形式。因此，本發(fā)明并不是由上述說明部分或附圖限定，而是僅僅由所述權(quán)利要求的范圍限定。權(quán)利要求1.一種用于提供電子顯示組件的系統(tǒng)，包括基板；至少一個(gè)容器結(jié)構(gòu)，其置于所述基板之上，所述容器結(jié)構(gòu)是通過利用與所述基板的表面對(duì)準(zhǔn)的陰影掩模來形成的；以及發(fā)光材料，其容納在所述容器結(jié)構(gòu)中。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，所述容器結(jié)構(gòu)具有允許預(yù)定容量的發(fā)光材料容納在所述容器結(jié)構(gòu)中的預(yù)定構(gòu)形。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，所述容器結(jié)構(gòu)包括按網(wǎng)格形式置于所述基板之上的多個(gè)交叉部分；以及用于使所述交叉部分相互連接的多個(gè)連接部分。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，所述發(fā)光材料是噴墨沉積的發(fā)光材料。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，還包括置于所述基板上且位于所述容器結(jié)構(gòu)之下的至少一個(gè)電極。6.一種電子顯示組件，包括基板；電極，其形成在所述基板上；多個(gè)容器，其置于所述基板之上，所述容器是通過與所述基板的表面對(duì)準(zhǔn)的陰影掩模進(jìn)行材料的沉積而形成的；以及發(fā)光介質(zhì)，其置于通過所述陰影掩模進(jìn)行沉積而形成的所述多個(gè)容器內(nèi)。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的電子顯示組件，其中，所述發(fā)光介質(zhì)形成為有源顯示元件。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的電子顯示組件，其中，所述有源顯示元件是發(fā)光器件。9.一種有機(jī)發(fā)光二極管，包括基板；電極，其形成在所述基板上；至少一個(gè)容器，其置于所述基板之上，所述至少一個(gè)容器是通過與所述基板的表面對(duì)準(zhǔn)的陰影掩模進(jìn)行材料的沉積而形成的；以及發(fā)光聚合物，其置于通過所述陰影掩模進(jìn)行沉積而形成的所述至少一個(gè)容器內(nèi)。10.一種用于容納發(fā)光顯示器的發(fā)光材料的容器結(jié)構(gòu)，所述容器結(jié)構(gòu)是通過包括以下步驟的方法形成的利用置于第一沉積真空室內(nèi)的第一陰影掩模在基板之上沉積第一材料，從而形成多個(gè)交叉部分；以及利用置于第二沉積真空室內(nèi)的第二陰影掩模在所述基板之上沉積第二材料，從而形成用于使所述多個(gè)交叉部分相互連接的多個(gè)連接部分。11.一種形成電子器件的方法，包括以下步驟提供在其上形成有至少一個(gè)電極的基板；將至少一個(gè)陰影掩模與所述基板的表面對(duì)準(zhǔn)；以及使用所述陰影掩模在所述基板的表面上形成至少一個(gè)容器結(jié)構(gòu)。12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中，在所述基板的表面上形成所述容器結(jié)構(gòu)的步驟還包括以下步驟使所述基板進(jìn)給通過多個(gè)沉積真空室，每個(gè)沉積真空室具有置于其內(nèi)的至少一個(gè)材料沉積源和陰影掩模；以及通過所述陰影掩模將來自所述材料沉積源的材料沉積在所述基板的表面上，以在所述基板的表面上形成所述容器結(jié)構(gòu)。13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，所述方法還包括通過噴墨沉積在所述容器結(jié)構(gòu)內(nèi)設(shè)置發(fā)光材料的步驟。14.一種形成發(fā)光顯示器的方法，包括以下步驟提供在其上形成有至少一個(gè)電極的基板；使用第一陰影掩模和第二陰影掩模在所述基板的表面上形成至少一個(gè)容器；以及將發(fā)光材料噴墨沉積在所述容器內(nèi)。15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其中，使用所述第一陰影掩模和所述第二陰影掩模以形成所述容器的步驟還包括以下步驟將所述基板進(jìn)給通過第一沉積真空室和第二沉積真空室，所述第一沉積真空室具有置于其內(nèi)的第一材料沉積源和所述第一陰影掩模，所述第二沉積真空室具有置于其內(nèi)的第二材料沉積源和所述第二陰影掩模；以及通過所述第一陰影掩模將來自所述第一材料沉積源的第一材料沉積在所述基板的表面上，以在所述基板的表面上形成所述容器的第一圖案部分。16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法，還包括通過所述第二陰影掩模將來自所述第二材料沉積源的第二材料沉積在所述基板的表面上，以在所述基板的表面上形成所述容器的第二圖案部分。17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法，其中，所述第一圖案部分與置于所述基板的表面上的多個(gè)交叉部分對(duì)應(yīng)，并且所述第二圖案部分與用于使所述多個(gè)交叉部分相互連接的多個(gè)連接部分對(duì)應(yīng)。全文摘要本發(fā)明公開一種用于噴墨沉積的聚合物發(fā)光二極管(PLED)/有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)的蒸鍍?nèi)萜骷捌渲圃旆椒āＴ撜翦內(nèi)萜魇峭ㄟ^陰影掩模真空沉積法形成的。形成發(fā)光顯示器的方法包括在基板上形成電極；通過陰影掩模真空沉積法在所述電極之上形成容器結(jié)構(gòu)；以及通過標(biāo)準(zhǔn)噴墨沉積法將包含發(fā)光材料的一定量的聚合物溶液輸送到所述容器中。文檔編號(hào)B05D5/00GK101031366SQ200580032559公開日2007年9月5日申請(qǐng)日期2005年9月26日優(yōu)先權(quán)日2004年9月27日發(fā)明者托馬斯·P·布羅迪,簡(jiǎn)·貝恩科普夫申請(qǐng)人:阿德文泰克全球有限公司