專利名稱：硅片研磨液的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種研磨液，特別是一種硅片研磨液。
背景技術(shù)：
研磨是硅片切片后對其表面的第一次機(jī)械加工，磨片的目的是為了去除硅片表面的切片刀痕和凹凸不平，使表面加工損傷達(dá)到一致，使其在化學(xué)腐蝕過程中，表面腐蝕速率達(dá)到均勻一致。美國發(fā)明的多氨19-C是世界上唯一銷售量最大的懸浮狀磨削液。多氨19-C是一種白色微有刺激性氣味的奶狀液體，顯弱堿性，具有非常高的稀釋能力，很強(qiáng)的懸浮特性及生物降解能力。但多氨19-C價格昂貴，粘度大，表面吸附比嚴(yán)重，不容易清洗，導(dǎo)致磨片清洗后表面易出現(xiàn)花斑，這直接影響到磨片的成品率，并且還會對下道工序的加工帶來危害。因此，如何提高研磨液性能，提高研磨效率，減少硅粉、磨料等粒子和金屬離子在表面的吸附，便于清洗，是當(dāng)前研磨中需解決的問題之一。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種硅片研磨液，它可以解決上述現(xiàn)有產(chǎn)品存在的不足，能夠具有潤滑、冷卻、防銹的作用，對提高生產(chǎn)效率、加工表面光潔度等方面均有一定的效果，解決了懸浮能力差和金屬離子含量高等缺點(diǎn)。
本發(fā)明的技術(shù)方案一種硅片研磨液，其特征在于它是由磨料、滲透劑、潤滑劑、PH值調(diào)節(jié)劑、表面活性劑、螯合劑和去離子水組成，各種成分所占的重量百分比為磨料5.0％～20.0％；PH值調(diào)節(jié)劑10％～20％；滲透劑3％～5％；潤滑劑1％～3％；表面活性劑0.1％～1.0％；螯合劑0.1％～1.0％；去離子水為余量。
上述所說的磨料可以是SiO2、Al2O3、CeO2、TiO2或碳化硼。
上述所說的PH調(diào)節(jié)劑是氫氧化鈉、氫氧化鉀、多羥多胺中的一種或其組合。
上述所說的表面活性劑采用非離子型表面活性劑，可以是脂肪醇聚氧乙稀醚，也可以是烷基醇酰胺。
上述所說的滲透劑可以是聚氧乙烯醚類滲透劑中的環(huán)氧乙烷和高級脂肪醇的縮合物(JFC)，也可以是磷酸脂。
上述所說的潤滑劑可以是甘油。
上述所說的螯合劑不含金屬離子，可為EDTA、EDTA二鈉、羥胺、胺鹽和胺中的一種或其組合。
本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)是具有一定的潤滑、冷卻防銹作用，易于研磨后的清洗，且懸浮性能好，清洗后潔凈度好，無花斑，并且所用的螯合劑具有水溶性且不含金屬離子，其金屬離子螯合能力強(qiáng)。
具體實(shí)施例方式實(shí)施例1一種硅片研磨液，其特征在于它是由磨料中的碳化硼、滲透劑中的磷酸脂、潤滑劑中的甘油、PH值調(diào)節(jié)劑中的氫氧化鈉NaOH、表面活性劑中的烷基醇酰胺、螯合劑中的六羥基丙基丙二胺和去離子水組成，各種成分所占的重量百分比為碳化硼10％；NaOH為10％；磷酸脂3％；甘油1％烷基醇酰胺0.3％；六羥基丙基丙二胺0.6％；去離子水為余量。
應(yīng)用效果使用時將上述研磨液與去離子水按1∶100稀釋，在研磨機(jī)上研磨15分鐘，研磨后用水沖洗，晶片表面光潔，平坦度可以達(dá)到2個微米以內(nèi)，而且研磨后易于清洗。
實(shí)施例2一種硅片研磨液，其特征在于它是由磨料中的Al2O3、滲透劑中聚氧乙烯醚類滲透劑的環(huán)氧乙烷和高級脂肪醇的縮合物(JFC)、潤滑劑中的甘油、PH值調(diào)節(jié)劑中的三乙醇胺、表面活性劑中的脂肪醇聚氧乙稀醚、螯合劑中的四羥基乙基乙二胺和去離子水組成，各種成分所占的重量百分比為Al2O3為15％；三乙醇胺20％；聚氧乙烯醚類滲透劑的環(huán)氧乙烷和高級脂肪醇的縮合物(JFC)5％；甘油2％；脂肪醇聚氧乙稀醚0.4％；四羥基乙基乙二胺0.9％；去離子水為余量。
應(yīng)用效果使用時將上述研磨液與去離子水按1∶50稀釋，在研磨機(jī)上研磨10分鐘，研磨后用水沖洗，晶片表面光潔，平坦度可以達(dá)到2個微米以內(nèi)，而且研磨后易于清洗。
權(quán)利要求
1.一種硅片研磨液，其特征在于它是由磨料、滲透劑、潤滑劑、PH值調(diào)節(jié)劑、表面活性劑、螯合劑和去離子水組成，各種成分所占的重量百分比為磨料5.0％～20.0％；PH值調(diào)節(jié)劑10％～20％；滲透劑3％～5％；潤滑劑1％～3％；表面活性劑0.1％～1.0％；螯合劑0.1％～1.0％；去離子水為余量。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所說的一種硅片研磨液，其特征在于所說的磨料可以是SiO2、Al2O3、CeO2、TiO2或碳化硼。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所說的一種硅片研磨液，其特征在于所說的PH調(diào)節(jié)劑是氫氧化鈉、氫氧化鉀、多羥多胺中的一種或其組合。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所說的一種硅片研磨液，其特征在于所說的表面活性劑采用非離子型表面活性劑，可以是脂肪醇聚氧乙稀醚，也可以是烷基醇酰胺。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所說的一種硅片研磨液，其特征在于所說的滲透劑可以是聚氧乙烯醚類滲透劑中的環(huán)氧乙烷和高級脂肪醇的縮合物(JFC)，也可以是磷酸脂。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所說的一種硅片研磨液，其特征在于所說的潤滑劑可以是甘油。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所說的一種硅片研磨液，其特征在于所說的螯合劑不含金屬離子，可為EDTA、EDTA二鈉、羥胺、胺鹽和胺中的一種或其組合。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種研磨液，特別是一種硅片研磨液。由磨料、pH值調(diào)節(jié)劑、滲透劑、潤滑劑、表面活性劑、螯合劑和去離子水組成，各種成分所占的重量百分比為磨料5.0％～20.0％；pH值調(diào)節(jié)劑10％～20％；滲透劑3％～5％；潤滑劑1％～3％；表面活性劑0.1％～1.0％；螯合劑0.1％～1.0％；去離子水為余量；本發(fā)明的優(yōu)越性在于它具有一定的潤滑、冷卻防銹作用，易于研磨后的清洗，懸浮性能好，并且所用的螯合劑具有水溶性且不含金屬離子，其金屬離子螯合能力強(qiáng)。
文檔編號C09G1/04GK1872930SQ20061001460
公開日2006年12月6日 申請日期2006年6月30日 優(yōu)先權(quán)日2006年6月30日
發(fā)明者仲躋和, 劉玉嶺 申請人:天津晶嶺電子材料科技有限公司