專利名稱：：粘結(jié)劑制品和隔離襯片的制作方法粘結(jié)劑制品和隔離襯片
技術(shù)領(lǐng)域：
本專利申請涉及粘結(jié)劑制品和隔離襯片。技術(shù)背景壓敏粘結(jié)劑可用于連接兩種材料。而粘結(jié)劑和這兩種材料之間的界面對于所述被連接的材料的性能來說極為重要。出于各種原因，人們在過去就對粘結(jié)劑進行過結(jié)構(gòu)化處理。有幾種用于使粘結(jié)劑結(jié)構(gòu)化的方法是已知的，所述方法包括(例如)Wilson等人的美國專利No.5,296,277和No.5，362，516、Calhoun等人的No.5，141,790和No.5，897，930、以及Sher等人的No.6,197，397中示出的那些。這些專利公開了如何從粘結(jié)劑和隔離襯片間的界面來構(gòu)建該粘結(jié)劑中的結(jié)構(gòu)。已知的隔離襯片通常是通過對襯片的熱塑性聚合物表面進行結(jié)構(gòu)化而制成的。目前，具有微結(jié)構(gòu)化圖案的隔離襯片的制造方法包括以下步驟將擠出物澆注到微結(jié)構(gòu)化工具上，其中所述的微結(jié)構(gòu)化工具能賦予該襯片所需的圖案；然后根據(jù)需要采用有機硅隔離劑進行涂敷，或者在具有或沒有有機硅隔離涂層的條件下，在結(jié)構(gòu)化的壓區(qū)之間對熱塑性聚合物的表面壓制圖案，從而賦予該表面某種圖案。這些制造步驟在襯片上形成一定的表面特征，其中該表面特征接下來用于為粘結(jié)劑賦予一定的表面特征。圖la為本發(fā)明第一實施例的剖視圖。圖lb為本發(fā)明第二實施例的剖視圖。圖2a為本發(fā)明第三實施例的剖視圖。圖2b為本發(fā)明第四實施例的剖視圖。圖3為本發(fā)明第五實施例的剖視圖。圖4為本發(fā)明第六實施例的剖視圖。圖5為本發(fā)明第七實施例的剖視圖。圖6本發(fā)明實施例的俯視圖。圖7a-7d為本發(fā)明粘結(jié)劑制品中凹槽的代表性圖案。
發(fā)明內(nèi)容本專利申請涉及具有粘結(jié)劑層的制品，其中所述粘結(jié)劑層具有結(jié)構(gòu)化表面。該結(jié)構(gòu)化表面具有從參考平面凹入所述粘結(jié)劑層的第一凹槽和第二凹槽，其中所述參考平面由凹槽任意一邊緣上的粘結(jié)劑表面限定。第二凹槽包含在第一凹槽內(nèi)，并且第一凹槽和第二凹槽均具有壁。第一凹槽相對于參考平面的壁角不為零，并且小于第二凹槽相對于參考平面的壁角。本專利申請還涉及用于所述粘結(jié)劑制品的隔離襯片，其中所述隔離襯片的表面是粘結(jié)劑表面的反相。本專利申請還涉及具有粘結(jié)劑層的制品，其中所述粘結(jié)劑層具有結(jié)構(gòu)化表面。該結(jié)構(gòu)化表面具有從參考平面凹入粘結(jié)劑層的第一凹槽和第二凹槽，其中所述參考平面由凹槽任意一邊緣上的粘結(jié)劑表面限定。第一凹槽和第二凹槽具有大體對稱的壁，每個壁均以一定角度與參考平面相交，并且第一凹槽的壁角小于第二凹槽的壁角。本專利申請還涉及用于所述粘結(jié)劑制品的隔離襯片，其中所述隔離襯片的表面是所述粘結(jié)劑表面的反相。本專利申請還公開了一種將粘結(jié)劑粘附到基底上的方法，該方法包括使粘結(jié)劑層的第一主表面與基底接觸。粘結(jié)劑層的第一主表面具有結(jié)構(gòu)化表面，該結(jié)構(gòu)化表面具有從參考平面凹入粘結(jié)劑層的第一凹槽和第二凹槽，該參考平面由凹槽任意一邊緣上的粘結(jié)劑表面限定，并且第一凹槽相對于參考平面的壁角小于第二凹槽相對于參考平面的壁角。另外，粘結(jié)劑發(fā)生變形，使得第一凹槽壁的絕大部分接觸該基底，同時第二凹槽壁的絕大部分不接觸該基底。具體實施方式本發(fā)明涉及粘結(jié)劑制品和隔離襯片。粘結(jié)劑制品總體上具有粘結(jié)劑層。在許多實施例中，粘結(jié)劑層位于背襯的一個表面上。另外，該制品可具有隔離襯片，該隔離襯片位于粘結(jié)劑的與背襯相背的表面上。所述粘結(jié)劑可以是任何類型的粘結(jié)劑。例如，所述粘結(jié)劑可以是薄膜粘結(jié)劑(諸如粘性薄膜)、熱活化粘結(jié)劑或壓敏粘結(jié)劑。粘結(jié)劑的一個主表面上具有結(jié)構(gòu)化表面。該結(jié)構(gòu)化表面具有至少兩種從平面凹入粘結(jié)劑的凹槽，其中該平面由凹槽任意一邊緣上的粘結(jié)劑表面限定。就本專利申請的目的而言，該表面即為所述參考平面。在一些實施例中，粘結(jié)劑表面上所有凹槽的參考平面為同一個平面。在其它實施例中，由于所述粘結(jié)劑表面本身并非完全平坦，所以參考平面由每個凹槽單獨限定。凹槽剖面可以是任何幾何形狀。例如，凹槽可以是梯形的、三角形的或矩形的。凹槽具有壁。凹槽內(nèi)壁與參考平面呈一定角度，這個角稱為壁角。附圖中進一步示出了壁角。第一凹槽的壁角小于第二凹槽的壁角。在一些實施例中，壁與粘結(jié)劑表面的參考平面相交。在其它實施例中，壁被截斷，而不與所述平面相交。例如，在一些實施例中，第二凹槽包含在第一凹槽內(nèi)。當(dāng)?shù)诙疾郾话诘谝话疾蹆?nèi)時，第二凹槽在參考平面內(nèi)的寬度小于第一凹槽在參考平面內(nèi)的寬度，'并且所述第二凹槽的所述的寬被所述第一凹槽的所述的寬涵蓋。不過，在此類實施例中，凹槽壁包括借助虛擬壁(virtualwall)延伸至參考平面的真實壁(realwall)。換句話講，第一凹槽的真實壁在其與更陡的第二凹槽真實壁的相交處終止，而第二凹槽壁繼續(xù)向粘結(jié)劑內(nèi)部延伸。第一凹槽的壁角不為零，并通常比第二凹槽的壁角小約15度至約89度，例如，其比第二凹槽的壁角小約20度至約85度。在一些實施例中，第一凹槽的壁角為約1度至約75度，例如，為約3度至約45度。在一些實施例中，第一凹槽的壁角為約5度至約30度，例如，為約10度至6度。在一些實施例中，第二凹槽的壁角為約20度至約90度，例如，為約25度至約90度。在一些實施例中，第二凹槽的壁角為約30度至約80度。在假定與所述參考平面呈銳角的條件下來討論所述角。然而，本發(fā)明實施例還涵蓋了在以下位置具有圓角以及曲面的實施例，這些位置為凹槽壁與凹槽邊緣或凹槽最深部分的相交處，或者第二凹槽真實壁與第一凹槽真實壁的相交處。這些曲面的曲率半徑可不同。另外，真實壁自身的剖面也并不一定是完全筆直的，而是可能有一些彎曲，但只要第一凹槽和第二凹槽存在可測定程度的區(qū)別即可。就本發(fā)明的目的而言，壁角由最佳擬合線決定。在一些實施例中，凹槽具有大體對稱的壁。就本發(fā)明的目的而言，"大體對稱"是指凹槽中相對的壁的壁角相差不超過約io°，例如不超過5°。在一些實施例中，相似凹槽類型的凹槽之間按固定的重復(fù)距離排列，該距離稱為間距。對幾何構(gòu)造進行選擇，以使得間距(即，相似類型凹槽之間的中心距)通常大于約150微米，例如，大于約170微米，并且在特定實施例中，其大于約200微米。在一些實施例中，間距可能大于約400微米。第一凹槽類型的間距可與第二凹槽類型的間距不同。凹槽間距可以是一致的，但并不總是必須或期望這些間距保持一致。已經(jīng)認識到，在本發(fā)明的一些實施例中，保持一致的間距或者所有凹槽均相同可能既無必要，也不可取。凹槽距參考平面的深度可大于約3微米，例如，大于約5微米，并且在特定的實施例中，其大于約7微米。在一些實施例中，凹槽深度小于約75微米，例如，小于45微米，并且在特定的實施例中，其小于約35微米。凹槽深度可小于25微米。凹槽深度可以是一致的，但并不總是必須或期望其深度保持一致。已經(jīng)認識到，在本發(fā)明的一些實施例中，保持一致的間距或者所有凹槽均相同可能既無必要，也不可取。在一些實施例中，第二凹槽的深度大于第一凹槽的深度，例如，在第二凹槽包含在第一凹槽內(nèi)的一些實施例中即是如此。在某些實施例中，一種或兩種凹槽類型的深度與粘結(jié)劑層的厚度相同，從而導(dǎo)致分段的或不連續(xù)的粘結(jié)劑。在其它實施例中，凹槽深度小于粘結(jié)劑層的厚度，因此粘結(jié)劑是連續(xù)的。在第二凹槽包含在第一凹槽內(nèi)的實施例中，第一凹槽的深度由第一凹槽真實壁所達到的最深點限定。凹槽在參考平面內(nèi)的寬度可小于約300微米，例如，小于約200微米，并且在特定實施例中，其小于約150微米。凹槽在參考平面內(nèi)的寬度可大于約15微米，例如，大于約25微米，并且在特定實施例中，其大于約50微米。在參考平面內(nèi)的寬度可以是凹槽的虛擬延長線與參考平面相交的兩點之間的距離，如圖1所示，其中第二凹槽包含在第一凹槽內(nèi)。一般來講，第一凹槽在參考平面內(nèi)的寬度至少是第二凹槽在參考平面內(nèi)的寬度的約120%。在一些實施例中，第一凹槽的寬度至少是第二凹槽的寬度的150%，在某些實施例中，第一凹槽的寬度至少是第二凹槽的寬度的200%。凹槽的最深處也可具有一定的寬度。該寬度可為0微米到約100微米，在某些實施例中，其為6微米到55微米，例如在約10微米到約45微米之間。所有凹槽以及沿著凹槽整個長度的寬度可以是一致的，但并不總是必須或期望該寬度保持一致。已經(jīng)認識到，在本發(fā)明的一些實施例中，保持一致的凹槽寬度或者所有凹槽均相同可能既無必要，也不可取。凹槽的排列圖案可以是規(guī)則的、無規(guī)的或這二者的組合。"規(guī)則的"是指凹槽的圖案是經(jīng)過設(shè)計的且是可再現(xiàn)的。"無規(guī)的"是指凹槽的圖案以無規(guī)則的方式變化。組合圖案可包括這樣的圖案，該圖案在一個區(qū)域內(nèi)無規(guī)排列，但在總體圖案內(nèi)的較遠距離上，這些無規(guī)圖案是可再現(xiàn)的。參考平面內(nèi)的凹槽面積可以由與參考平面實際相交的凹槽的長和寬限定(例如凹槽真實壁，其與本文所討論的虛擬壁相對)。凹槽面積分?jǐn)?shù)(即，每單位參考平面面積內(nèi)的凹槽面積)可能為約1%到約100%，例如為5%到約95%，并且在一些實施例中，其為30%到70%。在某些實施例中，如果參考平面內(nèi)的凹槽寬度等于間距，則凹槽在一條線或一個點處與相鄰的凹槽相交，并且凹槽面積分?jǐn)?shù)基本為100%。就本發(fā)明的目的而言，在假定參考平面在整個制品上為絕對平面的條件下來討論所述參考平面。然而，如以上所述，參考平面可以是近似平坦的，或在凹槽附近區(qū)域是局部平坦的或近似平坦的。在一些實施例中，粘結(jié)劑制品的結(jié)構(gòu)化表面上可具有附加結(jié)構(gòu)，該附加結(jié)構(gòu)疊加在本文所述的結(jié)構(gòu)之上。例如，可以在美國專利No.5，141，790中找到這些附加結(jié)構(gòu)的實例。所述附加結(jié)構(gòu)可包括位于結(jié)構(gòu)化粘結(jié)劑表面上的粘結(jié)劑或非粘結(jié)劑的凸起物，例如，凸出于參考平面或凸出于粘結(jié)劑的真實壁的凸起物。通常，本發(fā)明的制品具有位于粘結(jié)劑一個表面上的隔離襯片。在許多實施例中，該隔離襯片是結(jié)構(gòu)化的，并且該隔離襯片上的結(jié)構(gòu)正好與粘結(jié)劑上的結(jié)構(gòu)相反。例如，對于粘結(jié)劑中的每一個凹槽而言，所述隔離襯片都具有一個相對應(yīng)的脊。這些脊凸出于所述襯片的參考平面，其中該襯片的參考平面由各脊底部的襯片表面來限定。每個脊的尺寸與粘結(jié)劑中每個凹槽的理想尺寸一致。例如，參考平面內(nèi)的凹槽寬度與襯片參考平面內(nèi)的脊寬度一致。在包含突出于粘結(jié)劑結(jié)構(gòu)化表面上的參考平面或真實壁的凸起物的實施例中，隔離襯片將包含相應(yīng)的凹陷。隔離襯片上的結(jié)構(gòu)可以采用已為人們所知的數(shù)種方法來創(chuàng)建，這些方法包括對襯片進行壓花以形成結(jié)構(gòu)化表面，或在表面上印刷出某種結(jié)構(gòu)。可以通過將粘結(jié)劑與隔離襯片的結(jié)構(gòu)化表面相接觸，來制成結(jié)構(gòu)化的粘結(jié)劑層，從而形成粘結(jié)劑制品。使粘結(jié)劑與結(jié)構(gòu)化表面接觸的方法可包括，涂布組合物(例如，粘結(jié)劑組合物溶液、組合物分散體或熱熔組合物)或?qū)訅阂延械恼辰Y(jié)劑層。在襯片涂布有隔離涂層的實施例中，粘結(jié)劑層位于所有隔離涂層之上。隔離襯片上的結(jié)構(gòu)向粘結(jié)劑層的一個主表面賦予某種結(jié)構(gòu)。任何適合用作隔離襯片基材的材料都適用于本發(fā)明的隔離襯片。這些材料的實例包括經(jīng)有機硅涂敷的材料，如紙和包括塑料在內(nèi)的聚合物薄膜。襯片基材可以是單層或者多層的。襯片基材的具體實例包括，聚酯(例如聚對苯二甲酸乙二醇酯)、聚乙烯、聚丙烯(包括流延和雙軸取向的聚丙烯)和紙(包括涂瓷土紙)。在一些實施例中，襯片是涂布有聚乙烯的紙或涂布有聚乙烯的聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜。通常，粘結(jié)劑的結(jié)構(gòu)化表面與背襯相背。背襯可以是任何材料，這取決于粘結(jié)劑制品的預(yù)期用途。例如，在將粘結(jié)劑制品用于大幅面圖形(例如超過32英寸寬)的實施例中，背襯可以是適合用于接收圖像的材料(即具有與粘結(jié)劑層相對的油墨受體層的乙烯基化合物或聚烯烴)。圖la示出本專利申請的第一實施例。圖la示出具有粘結(jié)劑層12的粘結(jié)劑制品10。粘結(jié)劑層12具有結(jié)構(gòu)化表面14。在一些實施例中，粘結(jié)劑制品10包括位于結(jié)構(gòu)化表面14上的隔離襯片和與該隔離襯片相背的背襯(未示出)。結(jié)構(gòu)化表面14具有第一凹槽16和第二凹槽18。第一凹槽具有虛擬表面16，，并且第二凹槽具有虛擬壁18'。第二凹槽18包含在第一凹槽16中。凹槽任意一邊緣上的結(jié)構(gòu)化表面限定參考平面20。第一凹槽16的壁相對于參考平面的夾角為als。第二凹槽18的壁相對于參考平面的夾角為a18。圖1示出了這樣的實施例，其中第二凹槽18的壁與參考平面20相交的點是虛擬的。角aI8大于角。]6。圖la中的凹槽在參考平面內(nèi)的寬度為w16和w18。圖lb示出第二實施例，它是對圖la中所示實施例的修改，其中凹槽的拐角是圓角。圖lb中示出了位于粘結(jié)劑的結(jié)構(gòu)化表面14b之上的隔離襯片22。圖2a示出本專利申請的第三實施例，其中第二凹槽的壁與參考平面相交。圖2a示出粘結(jié)劑制品210，其包括粘結(jié)劑層212和隔離襯片222。粘結(jié)劑層212具有結(jié)構(gòu)化表面214。結(jié)構(gòu)化表面214具有第一凹槽216和第二凹槽218。凹槽任意一邊緣上的結(jié)構(gòu)化表面限定參考平面220。第一凹槽216的壁相對于參考平面的夾角為a216。第二凹槽218的壁相對于參考平面的夾角為a213。角ci218大于角ci216。圖2a中的凹槽在參考平面內(nèi)的寬度為w216和w218。另外，圖2a中的凹槽在最深處的寬度為wd216和wd218。圖2b示出第四實施例，該實施例是對圖2a所示實施例的修改，其中第四實施例中凹槽的拐角是圓角，并且凹槽的深度幾乎相等。圖3示出本發(fā)明的第五實施例。在圖3中，第二凹槽318包含在第一凹槽316內(nèi)。然而與圖1中所示實施例不同的是，第二凹槽318更靠近第一凹槽316的一個邊緣，而不是以同一點為中心。圖4和圖5示出存在超過兩種凹槽的實施例，即每個實施例示出三種凹槽，其中這三種凹槽均互相包含在彼此之中。圖6示出本發(fā)明粘結(jié)劑制品在其隔離襯片被移除后的俯視圖。圖6中的實施例與圖1中的實施例的相似之處在于，第二凹槽618包含在第一凹槽616中，并且這些凹槽以網(wǎng)格圖案重復(fù)。圖7a至圖7d示出凹槽在粘結(jié)劑表面上所形成的代表性圖案。凹槽的圖案可以是相交的或平行的。所述圖案可以包含交替的第一類凹槽和第二類凹槽，或者可以包含相交的第一類凹槽與第二類凹槽。在許多實施例中，粘結(jié)劑中的結(jié)構(gòu)在壓敏粘結(jié)劑中形成排氣通道。例如，在將粘合劑與隔離襯片剝離開之后，粘結(jié)劑即具有與隔離襯片上形成的結(jié)構(gòu)化圖案相反的結(jié)構(gòu)化圖案，并且當(dāng)粘結(jié)劑的結(jié)構(gòu)化表面被施加到基底上時，這些凹槽限定了這樣一種排出路徑，當(dāng)把粘結(jié)劑的結(jié)構(gòu)化表面粘附于基底上的時侯，該排出路徑用于使空氣從粘結(jié)劑層下方排出。在這類實施例中，凹槽以通至粘結(jié)劑制品的至少一個邊緣的形式存在。在本專利申請中，可通過將粘結(jié)劑粘附到基底的方法來使用該粘結(jié)劑制品。在這類實施例中，將粘結(jié)劑的結(jié)構(gòu)化表面施加到被粘基底上。粘結(jié)劑層的結(jié)構(gòu)化表面發(fā)生變形，使得第一凹槽真實壁的絕大部分接觸該基底，同時第二凹槽真實壁的絕大部分不接觸該基底。就本專利申請的目的而言，當(dāng)包含凹槽壁的粘結(jié)劑表面有超過50%的面積與被粘基底接觸時，即認為壁的絕大部分與被粘基底接觸?？刹捎酶郊邮侄蝸韺⒄辰Y(jié)劑制品施加到被粘基底上，這些附加手段例如為升高溫度、施壓、以及將粘結(jié)劑老化以使其流動。在一些實施例中，在第一凹槽的絕大部分接觸到基底之后，第二凹槽壁的絕大部分也與該基底接觸。以下實例進一步公開了本發(fā)明的實施例。實例使用光學(xué)顯微法(借助JENAJEMVERT(由位于德國的Jena公司出品)入射光顯微鏡)，或干涉顯微法(使用可得自位于美國亞利桑那州Tucson市WYK0公司的WYKOOpticalProfiler)來評估結(jié)構(gòu)化材料的表面特征。粘結(jié)劑浸潤(wetout)分析使用所述入射光顯微鏡。在隔離襯片的結(jié)構(gòu)化表面上涂布丙烯酸壓敏粘結(jié)劑(PSA)組合物。該隔離襯片的結(jié)構(gòu)化表面具有一層薄的有機硅隔離涂層。對于溶劑型涂布制劑，用烘箱烘干涂布了粘結(jié)劑的襯片。將2密耳(50微米)厚的增塑的白色柔性PVC背襯膜層壓到外露的PSA層上。通過已知的動態(tài)力學(xué)分析方法和主曲線構(gòu)建算法來表征PSA組合物。下表示出了在25°C的基準(zhǔn)溫度下，所用PSA組合物在多個頻率下的復(fù)數(shù)剪切模量的絕對值，|G*|(帕斯卡)<table>tableseeoriginaldocumentpage13</column></row><table>每個隔離襯片的結(jié)構(gòu)化表面均具有兩組凸出的脊。第一組是由第一連續(xù)脊形成的圖案。第二組是由第二連續(xù)脊形成的圖案。每一組連續(xù)脊沿襯片的順維涂布方向形成由線狀平行脊構(gòu)成的重復(fù)圖案。第二組脊包含在第一組脊內(nèi)，使得從每個順維連續(xù)的第一脊中凸起一個順維連續(xù)的第二脊，并且每個第一脊的兩個斜壁均在更陡的第二脊的斜壁的凸起處終止。第一脊中心間的重復(fù)間距為340微米，在襯片參考平面內(nèi)的寬度為159微米，第一脊的壁相對于襯片參考平面的傾斜角為10度，并且其至第二脊凸起部分的高度為約13微米。第二脊在第一脊之上與第一脊中心對齊。第二脊具有與第一脊相同的重復(fù)間距，第二脊距襯片參考平面的標(biāo)稱高度為約20微米，第二脊的壁相對于襯片參考平面的傾斜角為約80度，并且平頂寬度為約12微米。該襯片還具有由填充了陶瓷小珠的小凹坑形成的附加結(jié)構(gòu)。從小塊樣品上將襯片剝離開，以露出具有對應(yīng)凹槽的粘結(jié)劑層。將一塊透明的丙烯酸樹脂板放在電子天平的秤盤上，將天平調(diào)零，然后將所述薄膜樣品的粘結(jié)劑面輕放在該板上。通過食指來回移動，向天平施加約500克的輕微壓力，使粘結(jié)劑層粘附在該板上。在該樣品經(jīng)歷以下駐留條件(dwellcondition)后測定板表面上的凹槽開口寬度，并計算出浸潤至該板上的凹槽壁的百分比范圍，所述駐留條件為A:環(huán)境室溫下駐留24小時，B:然后在22°C/50°z。的相對濕度下再駐留6天，以及C:最后在66°C的烘箱中再駐留24小時。粘結(jié)劑駐留條件與板接觸的第一凹槽與板接觸的第二凹槽<table>tableseeoriginaldocumentpage14</column></row><table>重復(fù)實例1，但是使用具有形成為不同圖案的脊結(jié)構(gòu)的隔離襯片，以及只具有一組脊的對比用隔離襯片。本實例使用粘結(jié)劑A。脊結(jié)構(gòu)與實例1中的脊結(jié)構(gòu)類似，不同之處在于第一組脊和第二組脊中的每個脊以兩個亞組的相互交叉的線狀平行圖案重復(fù)，其中這些相互交叉的線狀平行圖案在襯片上形成方格圖案。第二組脊與第一組脊配對對齊，并且從第一組脊上凸起。第一脊的中心重復(fù)間距為292微米，第一脊的壁相對于襯片參考平面的傾斜角為10度，并且至第二脊凸起部分的高度為約10微米。第二脊在第一脊之上，并與第一脊中心對齊。第二脊具有與第一脊相同的重復(fù)間距，第二脊距襯片參考平面的標(biāo)稱高度為約20微米，第二脊的壁相對于襯片參考平面的傾斜角為約80度，并且平頂寬為約12微米。對照用襯片具有類似的網(wǎng)格結(jié)構(gòu)，但其只采用第一組脊。所述脊具有傾斜角為10度的壁，并且具有更高的高度，該高度為約25微米，而且其平頂寬為約6微米。該對照用襯片沒有第二組脊。使施加到丙烯酸樹脂板的樣品經(jīng)受駐留條件C。平均而言，粘結(jié)劑中第一組凹槽的真實壁基本完全浸潤該板，而第二組凹槽的真實壁未浸潤該板。大部分第二組凹槽仍保持開放狀態(tài)。對照樣品顯示其具有許多局部密封的凹槽區(qū)域。在不脫離本發(fā)明的精神和范圍的前提下，對本發(fā)明的各種改進和改變對于本領(lǐng)域技術(shù)人員將是顯而易見的。權(quán)利要求1.一種制品，其包括粘結(jié)劑層；位于所述粘結(jié)劑層的第一主表面上的結(jié)構(gòu)化表面，所述結(jié)構(gòu)化表面具有從參考平面凹入所述粘結(jié)劑層的第一凹槽和第二凹槽，所述參考平面由所述凹槽任意一邊緣上的所述粘結(jié)劑表面限定，其中所述第二凹槽包含在所述第一凹槽內(nèi)，并且所述第一凹槽和所述第二凹槽均具有壁，所述第一凹槽相對于所述參考平面的壁角不為零并且小于所述第二凹槽相對于所述參考平面的壁角。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制品，其中所述第二凹槽的真實壁與所述第一凹槽的真實壁相交。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制品，其中所述第一凹槽在所述參考平面內(nèi)的寬度為所述第二凹槽在所述參考平面內(nèi)的寬度的至少120°/。。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制品，其中所述第二凹槽距所述參考平面的深度大于所述第一凹槽的深度。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制品，其中所述第一凹槽的所述壁角比所述第二凹槽的所述壁角小至少15度。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制品，其中所述第一凹槽通至該制品的至少一個邊緣。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制品8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制品9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制品約95%的范圍內(nèi)。10.根據(jù)權(quán)利要求1所fe凸起。11.一種制品，其包括粘結(jié)劑層；B卩其中所述凹槽以相交的圖案重復(fù)。其中所述凹槽以平行的圖案重復(fù)。其中所述凹槽的面積分?jǐn)?shù)在約5%至該制品具有突出于所述粘結(jié)劑表面的位于所述粘結(jié)劑層的第一主表面上的結(jié)構(gòu)化表面，所述結(jié)構(gòu)化表面具有從參考平面凹入所述粘結(jié)劑層的第一凹槽和第二凹槽，所述參考平面由所述凹槽任意一邊緣上的所述粘結(jié)劑表面限定，其中所述第一凹槽和所述第二凹槽均具有大體對稱的壁，每個所述的壁均以一定的角度與所述參考平面相交，并且所述第一凹槽的壁角小于所述第二凹槽的壁角。12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的制品，其中所述第一凹槽的所述壁角比所述第二凹槽的所述壁角小至少15度。13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的制品，其中所述第-一凹槽的寬度大于所述第二凹槽的寬度。14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的制品，其中所述凹槽的面積分?jǐn)?shù)在約5%至約95%的范圍內(nèi)。15.根據(jù)權(quán)利要求11所述的制品，其中所述凹槽以相交的圖案重復(fù)。16.根據(jù)權(quán)利要求11所述的制品，其中所述凹槽以平行的圖案重復(fù)。17.根據(jù)權(quán)利要求11所述的制品，該制品具有突出于所述粘結(jié)劑表面的凸起。18.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制品，其中與所述第一凹槽的兩個邊緣中的一個邊緣相比，所述第二凹槽更靠近這兩個邊緣中的另一個邊緣。19.一種將粘結(jié)劑粘附到基底的方法，包括使粘結(jié)劑層的第一主表面與基底接觸；其中所述粘結(jié)劑層的所述第一主表面具有結(jié)構(gòu)化表面，該結(jié)構(gòu)化表面具有從參考平面凹入所述粘結(jié)劑層的第一凹槽和第二凹槽，所述參考平面由所述凹槽任意一邊緣的粘結(jié)劑表面限定，并且所述第一凹槽相對于所述參考平面的壁角小于所述第二凹槽相對于所述參考平面的壁角，其中所述粘結(jié)劑發(fā)生變形，使得所述第一凹槽真實壁的絕大部分接觸所述基底，同時所述第二凹槽真實壁的絕大部分不接觸所述基底。20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的方法，其包括以與所述結(jié)構(gòu)化表面相背的方式向粘結(jié)劑層施加壓力的步驟。21.根據(jù)權(quán)利要求19所述的方法，其包括使所述粘結(jié)劑層在所述基底上駐留限定的一段時間。22.根據(jù)權(quán)利要求19所述的方法，其包括升高溫度。23.根據(jù)權(quán)利要求19所述的方法，其中在所述第一凹槽的絕大部分接觸所述基底后，所述第二凹槽壁的絕大部分與所述基底接觸。24.—種隔離襯片，包括位于所述隔離襯片的第一主表面上的結(jié)構(gòu)化表面，該結(jié)構(gòu)化表面具有從襯片參考平面凸起的第一脊和第二脊，所述襯片參考平面由位于所述隔離襯片上的所述脊的底部的襯片表面限定，其中所述第二脊包含在所述第一脊內(nèi)，所述第一脊和所述第二脊均具有壁，所述第一脊相對于所述襯片參考平面的壁角不為零并且其小于所述第二脊相對于所述襯片參考平面的壁角。25.根據(jù)權(quán)利要求24所述的隔離襯片，其具有凹陷。26.—種隔離襯片，其包括位于所述隔離襯片的第一主表面上的結(jié)構(gòu)化表面，該結(jié)構(gòu)化表面具有從襯片參考平面凸起的第一脊和第二脊，所述襯片參考平面由位于所述隔離襯片上的所述脊的底部的襯片表面限定，其中所述第一脊和所述第二脊均具有大體對稱的壁，所述的壁以一定角度與所述襯片參考平面相交，并且所述第一脊的壁角小于所述第二脊的壁角。27.根據(jù)權(quán)利要求26所述的隔離襯片，其具有凹陷。全文摘要本發(fā)明申請涉及粘結(jié)劑制品和隔離襯片。即，本發(fā)明申請涉及具有粘結(jié)劑層的制品，并且所述粘結(jié)劑層具有結(jié)構(gòu)化表面。所述結(jié)構(gòu)化表面具有從參考平面凹入所述粘結(jié)劑層的第一凹槽和第二凹槽，該參考平面由凹槽任意一邊緣上的粘結(jié)劑表面限定。在一些實施例中，所述第二凹槽包含在所述第一凹槽內(nèi)，并且在其它實施例中，凹槽是分開的。所述第一凹槽和所述第二凹槽具有壁。所述第一凹槽相對于所述參考平面的壁角不為零并且小于所述第二凹槽相對于所述參考平面的壁角。本發(fā)明申請也涉及用于所述粘結(jié)劑制品的隔離襯片，其中，所述隔離襯片的表面是所述粘結(jié)劑表面的反相。文檔編號C09J7/00GK101243150SQ200680030531公開日2008年8月13日申請日期2006年8月22日優(yōu)先權(quán)日2005年8月22日發(fā)明者丹尼·L·弗萊明,大衛(wèi)·J·亞魯索,弗蘭克·T·謝爾,理查德·L·珀洛坎,約翰·A·尼爾森,邁克爾·R·凱斯蒂申請人:3M創(chuàng)新有限公司