專利名稱：用于襯底表面處理的裝置，設(shè)備和方法
用于襯底表面處理的裝置，設(shè)備和方法
應(yīng)用領(lǐng)域和現(xiàn)有技術(shù) 本發(fā)明涉及用于襯底表面處理的裝置及帶有這樣的裝置的設(shè)備、包 括傳輸機(jī)構(gòu)，其用于在傳輸機(jī)構(gòu)所確定的傳輸平面上輸送襯底，和至少 一個(gè)輸送機(jī)構(gòu)，用于用液體處理介質(zhì)濕潤(rùn)襯底。本發(fā)明還涉及用處理介 質(zhì)濕潤(rùn)面向下的襯底表面，優(yōu)選直接接觸或機(jī)械接觸的方法。
從德國(guó)專利DE 102 25 848A1已知一種用來從平面襯底一個(gè)表面去 除一層的裝置和方法。這時(shí)，溶劑用噴嘴從上面傾斜噴射在襯底上。該 村底處于輸送輥上并被其傳送。該襯底伸出該傳送輥的至少一個(gè)側(cè)端 部，以便讓從襯底流出的含有被溶解掉的層的組成成分的溶劑通過該襯 底的伸出部分從該輸送機(jī)構(gòu)旁邊流過。以此想要防止污染該輸送才幾構(gòu)。 用溶劑除去涂層用來在腐蝕過程之前去除感光涂層，以便保證只有曝光 和顯影的襯底表面區(qū)域才設(shè)有對(duì)腐蝕過程有效的保護(hù)層。 一種涂層結(jié)構(gòu) 化方法也通過感光涂層的曝光和顯影進(jìn)行。
在進(jìn)行表面處理的其他過程，特別是在襯底上，例如在稱為晶圓片 的硅圓片或硅片上，特別是對(duì)于半導(dǎo)體元件和太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)用的除 去敷層的過程中，可以用處理介質(zhì)濕潤(rùn)襯底的個(gè)別表面。該濕潤(rùn)應(yīng)該這 樣進(jìn)行，使得沒有上述類型的保護(hù)層或其他覆層的其他襯底表面不被要 涂抹的處理介質(zhì)腐蝕，以便只在被處理介質(zhì)濕潤(rùn)的襯底表面才發(fā)生覆層 去除。這一點(diǎn)在該已知的裝置上得不到保證。
任務(wù)和技術(shù)方案
本發(fā)明的任務(wù)在于，提供一種能夠?qū)σr底進(jìn)行選擇性表面處理的裝 置、設(shè)備和方法。
按照本發(fā)明的第一方面，這個(gè)任務(wù)用具有權(quán)項(xiàng)1的特征的裝置解決， 此時(shí)輸送機(jī)構(gòu)布置在該傳輸平面以下，使之與該傳輸平面接觸或至少大 體上達(dá)到該傳輸平面，以便使在該輸送機(jī)構(gòu)和該襯底表面直接接觸的情 況下用處理介質(zhì)濕潤(rùn)面向下的襯底表面成為可能。本發(fā)明有利的以及優(yōu) 選的配置是其他權(quán)項(xiàng)的主題并在下面作較詳細(xì)的說明。該裝置、設(shè)備和 方法有時(shí)一起闡述，其中這個(gè)闡明以及相應(yīng)的特征仍然彼此獨(dú)立地對(duì)裝
6置和方法有效。權(quán)利要求書的撰寫方式是明確地與該描述的內(nèi)容相聯(lián)系的。
面向下的襯底表面基本上是平面，而且采取這樣的取向，使得該襯底表面平面的法線至少在基本上垂直的方向上垂直向下延伸。該面向下的襯底表面布置在由該輸送機(jī)構(gòu)確定的傳輸平面上并且就是要由處理介質(zhì)濕潤(rùn)的表面。另一個(gè)不處于該傳輸平面上的面向下的襯底表面應(yīng)該與此相反不纟皮處理介質(zhì)濕潤(rùn)。
傳輸平面乃是這樣的平面，即其中要輸送的襯底與該傳輸機(jī)構(gòu)接觸，而且基本上采取水平取向或者與水平線成銳角。根據(jù)該傳輸機(jī)構(gòu)的布置，該傳輸平面可以做成彎曲的輸送面，其中設(shè)置得輸送面的截面至少基本上水平取向。
為了保證用處理介質(zhì)選擇性地濕潤(rùn)該面向下的襯底表面，在輸送機(jī)構(gòu)和面向下的襯底表面之間設(shè)置成直接接觸。以此^f吏處理介質(zhì)的液體膜
可以粘附在該輸送裝置的外表面，轉(zhuǎn)移到要濕潤(rùn)的向下的襯底表面，而不會(huì)使液態(tài)、氣態(tài)或霧狀的處理介質(zhì)出現(xiàn)不希望的和不可控的擴(kuò)展。不如說卸掉或擦掉襯底表面上的液體膜，以便只讓處理介質(zhì)發(fā)生非常小的擴(kuò)展。以此做到，預(yù)定不濕潤(rùn)的襯底表面不用不希望用的方法施加處理介質(zhì)。這便保證濕潤(rùn)過程高的選擇性和該處理介質(zhì)引起的加工過程。
在本發(fā)明的配置中規(guī)定，給輸送機(jī)構(gòu)配置一個(gè)供給裝置，用以把處理介質(zhì)輸入該輸送機(jī)構(gòu)的外表面上。供給裝置可以做成噴霧嘴，例如通過一個(gè)噴射孔板噴射到該輸送機(jī)構(gòu)外表面的一個(gè)區(qū)域，這通過輸送機(jī)構(gòu)在與該襯底表面的機(jī)械接觸中的移動(dòng)造成。在本發(fā)明 一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施例中，該供給裝置設(shè)置為用以接收液體處理介質(zhì)的桶，而該輸送機(jī)構(gòu)可以臨時(shí)地，優(yōu)選連續(xù)地，特別是分區(qū)地移動(dòng)到處理介質(zhì)液面以下，以便可以把處理介質(zhì)傳遞到該輸送機(jī)構(gòu)的外表面，由此傳遞到該面向下的襯底表面上。
在本發(fā)明的另一個(gè)配置中規(guī)定，該輸送介質(zhì)具有多孔的外表面，它形成得特別是為了把處理介質(zhì)從設(shè)置在輸送機(jī)構(gòu)中的至少 一個(gè)給料位置輸送到輸送機(jī)構(gòu)的外表面，優(yōu)選把施加了壓力的處理介質(zhì)引入該輸送機(jī)構(gòu)。采用這樣的多孔表面，例如用帶有開口空隙的泡沫塑料做成輸送機(jī)構(gòu)的覆層，或者實(shí)現(xiàn)為通過壓合金屬顆粒形成的燒結(jié)層，可以保證粘附在輸送機(jī)構(gòu)外表面上的處理介質(zhì)膜可靠的轉(zhuǎn)移。該處理介質(zhì)可以通過
7表面張力保持在輸送機(jī)構(gòu)多孔外表面的孔隙中，并通過輸送機(jī)構(gòu)外表面和襯底表面之間的機(jī)械接觸至少部分地轉(zhuǎn)移到襯底表面上。這時(shí)，該空隙也是該處理介質(zhì)的儲(chǔ)庫(kù)，以便可以保證在輸送機(jī)構(gòu)和襯底表面之間出現(xiàn)的毛細(xì)管間隙中處理介質(zhì)的有利分布。
在用可特別彈性變形的泡沫材料類型形成有開口空隙的泡沫覆層的情況下，適當(dāng)?shù)木酆衔锊牧线x擇可以影響泡沫的大小和空隙分布。在燒結(jié)層的情況下，通過選擇適當(dāng)?shù)拇笮〉慕饘兕w?？蓻Q定空隙的大小，這可用于燒結(jié)過程。
在本發(fā)明 一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施例中，處理介質(zhì)通過一個(gè)設(shè)置在輸送機(jī)構(gòu)中的給料位置輸入于其上所施加的多孔外表面。處理介質(zhì)的這樣一種注入方法可以用設(shè)置在輸送機(jī)構(gòu)中的供料溝道和通過供料溝道引入的施加了壓力的處理介質(zhì)實(shí)現(xiàn)。該供料溝道在輸送機(jī)構(gòu)中布置得使它們?cè)谠摱嗫淄獗砻娴姆秶鷥?nèi)結(jié)束，并以此保證把液體處理介質(zhì)輸送到該外表面。采用這種類型的處理介質(zhì)輸入方法可以保證處理介質(zhì)很少霧化，因?yàn)橹辉谕獗砻婧鸵r底表面之間才發(fā)生在滾掉或蹭掉運(yùn)動(dòng)意義上的相對(duì)運(yùn)動(dòng)。反之，輸送介質(zhì)和由裝滿處理介質(zhì)的桶之間的相對(duì)運(yùn)動(dòng)或者處理介質(zhì)的噴射過程是不必要的。從而可以在該襯底表面上實(shí)現(xiàn)特別有選擇性的處理介質(zhì)施加。
在本發(fā)明的另一個(gè)配置中規(guī)定，該輸送機(jī)構(gòu)具有帶有大量通孔的外表面，它們優(yōu)選與從一 個(gè)設(shè)置在輸送機(jī)構(gòu)內(nèi)的給料位置的供應(yīng)處理介質(zhì)的用的供料溝道相連接。這些通孔可以在一個(gè)由金屬或者塑料制成的輸送機(jī)構(gòu)封閉的外表面，借助于傳統(tǒng)的切削機(jī)加工或者采用材料去除的方法，特別是用激光鉆孔設(shè)置。該通孔與供料溝道連接，使通過一個(gè)設(shè)置在輸送機(jī)構(gòu)的給料位置以處理介質(zhì)供應(yīng)外表面成為可能。以此特別可以有目的地把處理介質(zhì)交給襯底表面。在本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例中，該供料溝道這樣地與該給料位置，例如與該處理介質(zhì)用的壓力管道連接，使得各自 一個(gè)或幾個(gè)供料溝道同時(shí)與該壓力管道連接，以便在 一個(gè)時(shí)刻只向該輸送機(jī)構(gòu)外表面的一個(gè)區(qū)域供應(yīng)處理介質(zhì)。以此可以保證，該外表面只有直接與該襯底表面接觸的區(qū)域才能通過該通孔供給處理介質(zhì)。
在本發(fā)明的另一個(gè)配置中規(guī)定，輸送機(jī)構(gòu)做成輸送輥，它布置得與該傳輸平面接觸。輸送輥有 一個(gè)基本上呈圓柱形的形狀而且可旋轉(zhuǎn)地支承在該裝置上。這時(shí)，該輸送輥縱向中心軸的取向平行于傳輸平面而且
8與輸送平面隔開一個(gè)對(duì)應(yīng)于該輸送輥半徑的量。以此該輸送輥與該傳輸 平面的切線接觸，而且使該襯底表面的直線接觸成為可能。通過該輸送 輥可旋轉(zhuǎn)軸承達(dá)到輸送輥外表面和該傳輸平面中襯底表面的符號(hào)相同 和同樣迅速的表面速度，以便可以該外表面在襯底表面上的輥壓實(shí)現(xiàn)一 個(gè)基本上無摩擦的至少大體無滑動(dòng)的濕潤(rùn)過程。以此保證該襯底表面的 濕潤(rùn)過程，其中只發(fā)生處理介質(zhì)的少量霧化。通過把該輸送機(jī)構(gòu)配置成 輸送輥，便可能在該襯底表面上涂上一層極薄處理液，以便可以大體上 排除在襯底非常薄時(shí)處理介質(zhì)溢流進(jìn)入另一個(gè)不要濕潤(rùn)的襯底表面。
在本發(fā)明的另 一個(gè)配置中規(guī)定，該輸送輥設(shè)有在圓周方向走向的 槽。以此可以用簡(jiǎn)單的方法實(shí)現(xiàn)該輸送輥外表面的斷面成型，其中該在 圓周方向走向的槽用來改善處理介質(zhì)的粘附。在輸送輥和襯底表面之間 的直線接觸的情況下，通過垂直于接觸線的走向的槽保證處理介質(zhì)的平
面供應(yīng)。槽深度可以在O.lmm至lmm的范圍內(nèi)，優(yōu)選0.2mm至0.8mm, 其中該槽可以有統(tǒng) 一 的深度者不同的槽深度。
在本發(fā)明的另一個(gè)配置中規(guī)定，該輸送輥帶有軸向走向的槽。當(dāng)該 輸送輥部分地浸入裝滿處理介質(zhì)的桶而且借助于旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)從這個(gè)桶輸 送該處理介質(zhì)時(shí)，這是特別令人感興趣的。軸向走向的槽防止該處理介 質(zhì)在該輸送輥旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)時(shí)完全從該輸送輥的外表面流走并以此保證處 理介質(zhì)的足夠供應(yīng)。
在本發(fā)明的另一個(gè)配置中規(guī)定，該輸送輥在外表面上具有大量的凹 槽，特別是孔洞。該凹槽可以通過切削或者材料消耗，特別是激光的或 者化學(xué)的方法在該輸送輥巨大的外表面上形成，這些凹槽類似于空隙使 處理介質(zhì)有利地粘附在外表面上，并以此能夠保證向襯底表面供應(yīng)處理 介質(zhì)。該凹槽一般可以具有規(guī)則或不規(guī)則的輪廓，而且在延長(zhǎng)和深度方 面可以處于1/10mm范圍內(nèi)的宏乂見尺寸和小到1/1000mm范圍內(nèi)的樣O見 尺寸之間。
在本發(fā)明的另一個(gè)配置中規(guī)定，該輸送輥這樣地安裝在可裝滿處理 介質(zhì)的桶上，使得該輸送輥的外表面特別是通過穩(wěn)定地浸入處理介質(zhì)中 而可以,皮處理介質(zhì)浸潤(rùn)。以此可以保證特別簡(jiǎn)單地和可靠地把處理介質(zhì) 輸入輸送輥。該輸送輥這樣地安裝在裝滿處理介質(zhì)的桶上，使之至少與 處理介質(zhì)的液面接觸。該輸送輥優(yōu)選浸入處理介質(zhì)中并通過驅(qū)動(dòng)裝置或 者通過該襯底在旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)中錯(cuò)開，以便該輸送輥在處理介質(zhì)中穩(wěn)定的運(yùn)行，而且該輸送輥還穩(wěn)定地;故處理介質(zhì)濕潤(rùn)。以此通過該輸送輥的》走轉(zhuǎn) 達(dá)到穩(wěn)定地新鮮地用處理介質(zhì)濕潤(rùn)輸送輥外表面與該襯底表面的接觸 的部分圓周截面，以便可以使該傳輸平面上運(yùn)動(dòng)的襯底表面連續(xù)和平面 的濕潤(rùn)得以發(fā)生。
在本發(fā)明的另 一 個(gè)配置中規(guī)定，該輸送輥至少浸入該處理介質(zhì)到直 徑的三分之一或到縱向中心軸。以此可以保證該輸送輥外表面特別有利 的濕潤(rùn)。因此為了把處理介質(zhì)從桶提升到面向下的襯底表面，該輸送輥 只需要旋轉(zhuǎn)一個(gè)小于90度的角度。
在本發(fā)明的另一個(gè)配置中規(guī)定，該輸送輥與驅(qū)動(dòng)裝置嚙合，用以傳 遞旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，而且作為該襯底用的輸送機(jī)構(gòu)優(yōu)選形成為唯一 的輸送機(jī) 構(gòu)。該輸送輥除把處理介質(zhì)輸送到襯底表面以外，還用于襯底的輸送運(yùn) 動(dòng)，因而具有雙重功能。以此可以實(shí)現(xiàn)一種特別簡(jiǎn)單和緊湊的表面處理 裝置配置。
在本發(fā)明的另一個(gè)配置中可以規(guī)定，該輸送輥具有可變的直徑，帶 有至少兩個(gè)直徑較大的區(qū)域和至少一個(gè)直徑較小的區(qū)域。優(yōu)選直徑較大 的兩個(gè)區(qū)域各自處于該輸送輥的兩側(cè)，在它們之間是另一個(gè)區(qū)域。直徑
較大的區(qū)域可以比直徑4支小的區(qū)域高出約1至10mm,優(yōu)選2至5mm。 直徑較大的區(qū)域優(yōu)選一個(gè)比另一個(gè)窄長(zhǎng)得多，它們可以是例如至少 10mm,優(yōu)選12至30mm寬。
如上所述該直徑較大的區(qū)域可以如上所述地形成得把液體輸送到 該襯底的下側(cè)。直徑41小的區(qū)域可以具有光滑和/或封閉的表面。
在本發(fā)明的另 一個(gè)配置中規(guī)定，該多個(gè)輸送輥一個(gè)接一個(gè)地布置在 輸送方向上。以此可以保證可靠地濕潤(rùn)該襯底表面，因?yàn)樗幸粋€(gè)接一 個(gè)地布置的輸送輥浸入填充處理介質(zhì)的桶內(nèi)，并內(nèi)多次把處理介質(zhì)轉(zhuǎn)送 到該襯底表面上。
在本發(fā)明的另一個(gè)配置中規(guī)定，處理介質(zhì)規(guī)定為一種至少帶有以下 物質(zhì)中一種的水溶液氟氫酸(HF)、鹽酸HC1、硝酸(HN03)、苛性 鉀溶液(NaOH)。以此一般可以從該襯底表面去除在制造半導(dǎo)體元件或 太陽(yáng)能電池時(shí)涂上的導(dǎo)電層，以便例如防止該面向下的襯底表面以上的 襯底有源區(qū)域發(fā)生電連接。
在本發(fā)明的另一個(gè)配置中規(guī)定，至少設(shè)置一個(gè)抽吸裝置，用以從輸 送機(jī)構(gòu)的周圍抽吸氣態(tài)和/或霧狀分布的處理介質(zhì)，其中該至少 一個(gè)抽吸
10裝置在垂直方向上布置在該傳輸平面以下。在濕潤(rùn)該面向下的襯底表面 時(shí)可能在該輸送機(jī)構(gòu)的范圍內(nèi)出現(xiàn)蒸發(fā)的和/或霧化的處理介質(zhì)，它們可 能以不希望的方式沉淀該襯底的面不向下的另 一個(gè)表面上。為了防止該 處理介質(zhì)損害這個(gè)在給定情況下沒有受到保護(hù)的表面，設(shè)置抽吸裝置， 把該蒸汽狀和/或霧化的處理介質(zhì)從該輸送機(jī)構(gòu)周圍抽吸掉，并以此防止 沉淀在襯底的另 一個(gè)表面上。為了能夠造成一個(gè)基本上垂直向下的氣流 并以此防止發(fā)生蒸發(fā)的和/或霧化的處理介質(zhì)向上越過該傳輸平面，該至 少一個(gè)抽吸裝置布置在該傳輸平面以下。
一般的處理介質(zhì)，諸如氟氫酸、鹽酸、硝酸的水溶液或者苛性鉀溶 液會(huì)形成氣體或者霧，它們比空氣重而且首先通過該傳輸裝置，輸送機(jī) 構(gòu)和襯底之間所出現(xiàn)的相對(duì)運(yùn)動(dòng)而可能上升到傳輸平面以上。該抽吸裝 置基于負(fù)壓的應(yīng)用，優(yōu)選相對(duì)于該輸送機(jī)構(gòu)周圍的常壓這樣選擇，使得 至少可以建立一個(gè)至少大體上沒有渦流，特別是在垂直方向上向下的空 氣層流。
按照第二方面，本發(fā)明的任務(wù)用帶有權(quán)利要求17或18的特征的設(shè)
備解決。按照本發(fā)明，該設(shè)備至少有兩個(gè)上述裝置，其中該襯底從該第 一裝置轉(zhuǎn)移到該第二裝置上。
為此， 一方面，該第一和第二裝置布置得使它們的輸送方向彼此旋
轉(zhuǎn)90度。在該襯底從第一裝置轉(zhuǎn)到該第二裝置時(shí)，然后自動(dòng)改變?nèi)∠颍?或相對(duì)于輸送方向進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。
另一方面，在第一裝置之后設(shè)置一個(gè)旋轉(zhuǎn)工位，它從該第一裝置接 收該襯底，并進(jìn)一步交給該第二裝置，其中該旋轉(zhuǎn)工位在該傳輸平面上 使該襯底旋轉(zhuǎn)90度，然后在旋轉(zhuǎn)后進(jìn)一步交給該第二裝置。然后該兩 個(gè)裝置處在一條直線上。這里按照本發(fā)明該旋轉(zhuǎn)工位的旋轉(zhuǎn)角和該裝置 所圍成的角度和輸送方向形成得使該襯底在旋轉(zhuǎn)并進(jìn)一步交給該第二 裝置之后，在其上旋轉(zhuǎn)90度。
該旋轉(zhuǎn)工位可以形成得舉起和旋轉(zhuǎn)該襯底，并為此設(shè)置旋轉(zhuǎn)裝置。 它可以設(shè)有彼此相鄰的多個(gè)單獨(dú)的旋轉(zhuǎn)裝置。相鄰的旋轉(zhuǎn)裝置可能各自 在輸送方向上略為向前或者略為向后錯(cuò)開，特別是交替布置在垂直于輸 送方向的方向上并隔開的兩條直線上。這樣在旋轉(zhuǎn)時(shí)該襯底不受干擾。 整個(gè)旋轉(zhuǎn)過程應(yīng)該盡可能迅速地進(jìn)行，以此對(duì)該襯底進(jìn)行盡可能快速的
通過傳豐lr。按照第三方面本發(fā)明的任務(wù)用帶有權(quán)利要求21的特征的用處理介 質(zhì)濕潤(rùn)一個(gè)襯底的襯底表面的方法解決，包括以下步驟用輸送機(jī)構(gòu)在 一個(gè)傳輸平面上輸送襯底；用處理介質(zhì)濕潤(rùn)至少基本上布置在該傳輸平 面上、面向下的襯底表面；該處理介質(zhì)用輸送機(jī)構(gòu)在直接機(jī)械接觸下涂 在該襯底表面上。
該襯底的輸送優(yōu)選在基本上呈直線的輸送方向上在由該輸送機(jī)構(gòu) 所確定的傳輸平面內(nèi)進(jìn)行。為此目的，帶有面向下的襯底表面的襯底放 在在輸送方向上一個(gè)接一個(gè)地布置的輸送機(jī)構(gòu)的布置上。該輸送機(jī)構(gòu)至 少部分地與驅(qū)動(dòng)裝置嚙合，并用此驅(qū)動(dòng)，以便可以引起襯底的向前運(yùn)動(dòng)。
還以此用作該處理介質(zhì)的輸送機(jī)構(gòu)。作為補(bǔ)充或替代方案，該濕潤(rùn)還通 過單獨(dú)的輸送機(jī)構(gòu)進(jìn)行，后者布置在這些輸送機(jī)構(gòu)之間該傳輸平面以 下。
在本發(fā)明的另 一個(gè)配置中規(guī)定，可被該輸送輥帶到該襯底表面上的 處理介質(zhì)數(shù)量，可以通過改變?cè)撦斔洼伣朐撎幚斫橘|(zhì)的深度和/或改變 該輸送輥的旋轉(zhuǎn)速度調(diào)節(jié)。該輸送輥的浸入深度的改變實(shí)際上通過改變 該桶被處理介質(zhì)填充的程度進(jìn)行，以便可以用桶中處理介質(zhì)的液面和該 傳輸平面之間的距離調(diào)節(jié)。這個(gè)距離決定在液面和襯底表面之間，該輸 送輥必須通過什么旋轉(zhuǎn)角輸送該處理介質(zhì)。在液面和傳輸平面的最大距 離下，其中該輸送輥不^f又與該傳輸平面而且與該液面接觸，傳輸平面采 取水平取向時(shí)旋轉(zhuǎn)角為180度。在減小液面和傳輸平面之間的距離時(shí)， 液面起圓柱形輸送輥正割線的作用，使得在液面和襯底表面之間自由地 輸送處理介質(zhì)必須通過的旋轉(zhuǎn)角縮小。例如輸送輥浸入處理介質(zhì)達(dá)到直 徑的三分之一時(shí)，該旋轉(zhuǎn)角等于90度。在該輸送輥的旋轉(zhuǎn)速度保持恒 定時(shí)，該旋轉(zhuǎn)角越小，越多處理介質(zhì)到達(dá)襯底表面。
改變旋轉(zhuǎn)速度，同樣可以影響可供使用的處理介質(zhì)數(shù)量。不同于旋 轉(zhuǎn)角，對(duì)于旋轉(zhuǎn)速度，有一個(gè)不為零的旋轉(zhuǎn)速度范圍，在該范圍內(nèi)輸送 輥所輸送的處理介質(zhì)數(shù)量最大。在旋轉(zhuǎn)速度較小時(shí)，該處理介質(zhì)基本上 向下流到桶內(nèi)，而旋轉(zhuǎn)速度較高時(shí)可能被甩出。在本發(fā)明一個(gè)優(yōu)選的實(shí) 施例中，設(shè)置一個(gè)控制或調(diào)節(jié)裝置，它能夠根據(jù)處理介質(zhì)和要處理的村 底控制或者調(diào)節(jié)的旋轉(zhuǎn)速度和/或浸入深度或液面。
在本發(fā)明的另 一個(gè)配置中規(guī)定，通過在該襯底表面濕潤(rùn)之前和/或同時(shí)和/或之后，用布置在垂直方向上低于該傳輸平面的抽吸裝置，抽吸蒸 發(fā)和/或霧狀的處理介質(zhì)，防止處理介質(zhì)沉淀在布置在該傳輸平面上的襯 底表面以外的襯底表面上。抽吸蒸發(fā)和/或霧狀處理介質(zhì)通過抽吸裝置進(jìn) 行，該抽吸裝置在垂直方向上布置得在該傳輸平面以下，而且使氣流垂 直向下，以便防止處理介質(zhì)沉淀在布置在該傳輸平面上的襯底表面以外 的另一個(gè)表面上。
在本發(fā)明的另一個(gè)配置中規(guī)定，進(jìn)行襯底的連續(xù)輸送，和/或處理介 質(zhì)通過該輸送機(jī)構(gòu)濕潤(rùn)該襯底表面的連續(xù)制備，和/或氣態(tài)或者霧狀處理
面的制備和/或抽吸可以保證在一個(gè)加工過程中完成，其中只有最小，優(yōu) 選小得可以忽略，特別是優(yōu)選沒有處理介質(zhì)沉淀在不要濕潤(rùn)的襯底表面 上。
在本發(fā)明的另 一個(gè)配置中，可以只在該襯底的邊緣區(qū)域上把處理介 質(zhì)施加在面向下的襯底表面上。
一個(gè)這樣的邊緣區(qū)域可以等于5至
15mm。這時(shí)處理介質(zhì)優(yōu)選涂抹在矩形襯底輸送方向的左側(cè)和右側(cè)，其 中為此使用具有直徑較大的側(cè)邊區(qū)域和直徑較小的中心區(qū)域的輸送輥。
該襯底可以首先以第 一方向進(jìn)行輸送，用處理介質(zhì)濕潤(rùn)面向下的襯 底表面的側(cè)邊。然后使該襯底在該傳輸平面上旋轉(zhuǎn)90度，然后在其余 兩側(cè)再度進(jìn)行面向下的襯底表面?zhèn)冗叺臐駶?rùn)。這樣各自邊緣區(qū)域都被濕 潤(rùn)和腐蝕。
一方面，該襯底的旋轉(zhuǎn)可以在帶有處理介質(zhì)的裝置之外進(jìn)行，例如 如上所述在兩個(gè)裝置之間的一個(gè)旋轉(zhuǎn)工位上進(jìn)行。另一方面，該襯底可 以從一個(gè)裝置傳送到另一個(gè)這樣的裝置，其中該裝置帶有以卯度角度 彼此相對(duì)的輸送方向，該村底在這些裝置上各自不同的輸送方向上輸送。
從權(quán)利要求書和描述和附圖中可以看出這些和其他特征，其中在本 發(fā)明一個(gè)實(shí)施例中，這些單個(gè)的特征可以各自單獨(dú)使用或者多個(gè)彼此結(jié) 合地使用，而在其他領(lǐng)域上實(shí)現(xiàn)，可以表示有利的以及可以保護(hù)的實(shí)施 例，對(duì)此在這里提出權(quán)利保護(hù)要求，該申請(qǐng)書在單獨(dú)的段落以及中間標(biāo)
附圖簡(jiǎn)要描述在附圖中示意地顯示本發(fā)明的實(shí)施例并在下面作較詳細(xì)的說明。附
圖中
圖l是一個(gè)側(cè)視圖，示意地表示襯底表面處理用的裝置； 圖2是一個(gè)部分剖開的正視圖，示意地表示按照

圖1的裝置； 圖3是按照?qǐng)D1和2的裝置做成運(yùn)輸輥的輸送輥的放大顯示圖； 圖4顯示兩個(gè)對(duì)應(yīng)于圖1的裝置如何配置成一條線并在它們之間帶
有村底用的旋轉(zhuǎn)工位；和
圖5是一個(gè)類似于圖2的視圖，表示按照本發(fā)明第二方面的兩個(gè)輸送輥。
實(shí)施例的詳細(xì)描述
圖l和2所示的襯底2表面處理用的裝置l具有多個(gè)做成輸送輥3， 3a的傳輸機(jī)構(gòu)。輸送輥3， 3a用于線性輸送特別是由硅原料制造的襯底 2并使之協(xié)調(diào)。輸送輥3， 3a形成水平取向的傳輸平面5的邊界，該傳 輸平面水平取向，而且它與輸送輥3， 3a在一個(gè)表面上相切。輸送輥3， 3a可旋轉(zhuǎn)地支承在裝置1中，至少部分地由未示出的驅(qū)動(dòng)裝置優(yōu)選以一 個(gè)恒定的、可調(diào)整的旋轉(zhuǎn)速度驅(qū)動(dòng)。
襯底2 —般是扁平的硅片，具有直徑約60mm至250mm的圓形輪 廓或邊長(zhǎng)60mm至250mm的矩形4侖廓。襯底優(yōu)選的厚度在0, lmm至 2mm的范圍內(nèi)。襯底2以面向下的襯底表面4放在輸送輥3， 3a上，而 且在輸送方向6上通過輸送輥3, 3a的符號(hào)相同和快慢相等的旋轉(zhuǎn)而移 動(dòng)。
裝置1的任務(wù)例如可以在于，用濕化學(xué)方法利用液體處理介質(zhì)除去 全面涂敷襯底2上的覆層，特別是涂敷在面向下的襯底表面4上的導(dǎo)電 覆層，而不損壞在襯底另一表面上涂敷的覆層。
為此目的，襯底2以襯底表面4放在輸送輥3， 3a上，而且襯底2 通過只以圖形示意表示的進(jìn)入孔7在至少大體完全封閉的處理室8中移 動(dòng)。在處理室8中設(shè)有桶9，其中可以填充氟氫酸水溶液(HF (aq)) 和/或鹽酸水溶液(HC1 (aq))和/或硝酸水溶液(HN03 (aq))和/或苛 性鉀溶液(Kalilauge) (NaOH (叫))。桶9布置在離處理室8底部14 一段距離上，以便在桶9和底部14之間形成一個(gè)保證桶9邊緣區(qū)域抽 吸的抽吸圍壁通道15。正如圖2更詳細(xì)地顯示的，抽吸圍壁通道15延伸在整個(gè)桶9的下面，并以此使抽吸越過桶9側(cè)邊出來而沒有凈皮4由吸裝 置11抓住的氣態(tài)和/或霧狀處理介質(zhì)10成為可能。抽吸圍壁通道15與 安裝在裝置1 一側(cè)的施加負(fù)壓排氣圍壁通道16耦合。向桶9供應(yīng)新鮮 處理介質(zhì)IO是通過介質(zhì)管道13進(jìn)行的。
為了保證濕潤(rùn)面向下的襯底表面4,輸送輥3a采取雙重功能，亦即 它們不^叉用作襯底2的輸送坤幾構(gòu)，而且用作處理介質(zhì)10的輸送才幾構(gòu)。 為了在傳輸平面5上從桶9輸送處理介質(zhì)10,輸送輥3a在桶9安裝得 使它們部分地浸入處理介質(zhì)10中，而且液面23高于圓柱形輸送輥3a 的旋轉(zhuǎn)軸20。做成輸送輥3a的輸送輥有一個(gè)可濕潤(rùn)的表面，使得它們 可以在傳輸平面5逆著重力以一個(gè)小的層厚向上提升處理介質(zhì)10,而且 可以在輥壓過程中，亦即在直接機(jī)的械接觸中傳遞到襯底表面4。因?yàn)?處理介質(zhì)10在輸送輥3a上只有小的層厚，在襯底2的一個(gè)小的厚度下 保證處理介質(zhì)10不會(huì)到達(dá)襯底面向上的表面。
為了保證面向上的襯底表面不留下處理介質(zhì)10，設(shè)置抽吸裝置11， 用以抽吸可能處于在起輸送機(jī)構(gòu)作用的輸送輥3a周圍的氣態(tài)和/或霧狀 處理介質(zhì)。處理介質(zhì)IO具有一個(gè)蒸氣壓力，它表現(xiàn)為，取決于周圍的 大氣狀態(tài)，例如環(huán)境溫度和空氣壓力處理介質(zhì)IO發(fā)生或強(qiáng)或弱的蒸發(fā)， 而且與大氣混合。此外輸送輥3a和處理介質(zhì)IO之間的相對(duì)運(yùn)動(dòng)，以及 輸送機(jī)構(gòu)3a在襯底表面4的輥壓過程，也會(huì)引致最細(xì)的處理介質(zhì)液滴 逸脫，作為細(xì)小分布的霧粒存在于處理介質(zhì)10的液面以上。確切地說， 氣態(tài)和/或霧狀處理介質(zhì)10與大氣的混合物一般比大氣重。然而通過輸 送機(jī)構(gòu)3a和襯底2的相對(duì)運(yùn)動(dòng)會(huì)發(fā)生大氣的渦流，沒有抽吸裝置11它 就會(huì)導(dǎo)致氣態(tài)和/或霧狀處理介質(zhì)上升到傳輸平面5以上。
因此氣態(tài)和/或霧狀的處理介質(zhì)10便會(huì)沉淀在面向上的襯底表面2 上。因?yàn)檫@是不希望的，所以設(shè)置抽吸裝置ll,它作為施加了負(fù)壓的管 子安裝在輸送輥3a之間，而且具有多個(gè)抽吸孔12，通過這些孔可以吸 走傳輸平面5以下范圍內(nèi)的氣態(tài)和/或霧狀處理介質(zhì)10,因而無法達(dá)到 傳輸平面5以上的面向上的襯底表面。因此，在垂直方向上抽吸裝置ll 布置在傳輸平面5以下，它們?cè)斐梢还苫旧显诖怪狈较蛏狭鲃?dòng)的氣流， 它們優(yōu)選形成得少漩渦，特別是優(yōu)選形成為層流。
抽吸裝置11通過排液管17連接抽吸管18，后者通過一個(gè)未示出的 泵裝置施加負(fù)壓。為了分別調(diào)整抽吸裝置11,在排液管17和抽吸管18
15之間設(shè)有調(diào)節(jié)閥19,它做成節(jié)流閥而且可以影響從抽吸管18抽吸的容
積流量。
為了特別緊湊地把抽吸裝置11布置在裝置1中，管形的抽吸裝置
11的縱向中心軸21與輸送輥3a的旋轉(zhuǎn)軸20平行，而且抽吸裝置11布 置在由輸送輥3a和輸送表面5以及向下由處理介質(zhì)10的液面限定的中 間空間內(nèi)。因而，盡管輸送輥3的距離小，但可以實(shí)現(xiàn)抽吸裝置11的 一個(gè)較大截面。這樣，即使在通過抽吸裝置11吸走的大的容積流量下， 也可以保證抽吸裝置11中小的流速。為此，抽吸裝置11還具有大的外 表面積，這可以布置大量的抽吸孔12,以便以此實(shí)現(xiàn)一個(gè)少有漩渦，特 別是垂直向下層狀氣流，這保證可靠地抽吸氣態(tài)或者霧狀分布的處理介 質(zhì)10。
在圖3中示出圖1和2所示做成運(yùn)輸輥的輸送輥3a的局部放大示 意圖，4要照?qǐng)D3所示可以看出，處理介質(zhì)10如何通過輸送輥3a的旋轉(zhuǎn) 穿過液面23從桶9向面向下的襯底表面4的方向輸送，并在直接的枳j 械接觸下用處理介質(zhì)10濕潤(rùn)襯底表面4。部分地浸入處理介質(zhì)10的輸 送輥3a在一個(gè)浸入^:完全被處理介質(zhì)10包圍并^皮其濕潤(rùn)。通過l命送輥 3a的旋轉(zhuǎn)可以在旋轉(zhuǎn)方向27上由輸送輥3a帶起一個(gè)處理介質(zhì)薄膜24。 通過輸送輥3a外表面的形態(tài)，特別是通過適當(dāng)?shù)牟牧线x擇和在給定情 況下預(yù)設(shè)的構(gòu)造，亦即通過孔、條紋或者凹槽，可以決定輸送輥各段從 處理介質(zhì)10出來時(shí)帶出的以及至少部分地傳遞到襯底表面4上的處理 介質(zhì)膜24的厚度。此外，處理介質(zhì)膜24的厚度取決于浸入處理介質(zhì)10 的深度、由此確定的自由旋轉(zhuǎn)角29以及輸送輥3a的旋轉(zhuǎn)速度，后者還 決定襯底2在輸送方向28上的輸送速度。處理介質(zhì)IO在顯示平面中延 伸的直線狀接觸位置26上被傳遞到面向下的襯底表面4，其中通過襯底 2的自重和襯底表面4和處理介質(zhì)10的特性，特別是襯底表面4的可濕 潤(rùn)性和處理介質(zhì)IO的表面張力，在接觸位置26上形成一個(gè)至少大體上 完全被液體填充的毛細(xì)管間隙25,這決定了襯底表面4上處理介質(zhì)10 的均勻分布。處理介質(zhì)10在襯底表面4上的直接機(jī)械傳遞，保證了襯 底表面4的有利的和少有霧化和少有蒸發(fā)的濕潤(rùn)，以便保證襯底2選祠， 性的表面處理。
圖4顯示，設(shè)備35如何用兩個(gè)按照?qǐng)D1的裝置1建立。這時(shí)裝置1 排成一條直線，彼此相隔一段較大的距離，其中在它們之間設(shè)有旋轉(zhuǎn)工
16位37。襯底2在兩個(gè)裝置1之間的輸送路徑有其他輸送輥3，它們?cè)谕?樣的高度上和同樣的方向上進(jìn)一步輸送襯底2。旋轉(zhuǎn)工位37有多個(gè)旋轉(zhuǎn) 裝置38，可以看出它們形成來舉起該襯底。這時(shí)，襯底被從輸送輥3舉 起，旋轉(zhuǎn)90度和然后重新放在輸送輥3上以便從左邊的裝置1進(jìn)一步 輸送到右邊的裝置1。優(yōu)選用空氣壓力舉起，其中襯底2以其下側(cè)可以 同時(shí)被吸牢在旋轉(zhuǎn)裝置38上。這樣的旋轉(zhuǎn)裝置本身，不僅在舉起方面， 而且在旋轉(zhuǎn)方面，對(duì)專業(yè)人員都是已知的，因此不必進(jìn)一步解釋。還要 再提一下旋轉(zhuǎn)工位37,旋轉(zhuǎn)裝置38布置得垂直于從左向右進(jìn)行的輸送 方向，使得多個(gè)彼此相鄰處于軌道上輸送的襯底2每一個(gè)都由旋轉(zhuǎn)裝置 38旋轉(zhuǎn)。因而這時(shí)，襯底或旋轉(zhuǎn)工位38不妨礙，相鄰的旋轉(zhuǎn)工位各自 向前和向后彼此4昔開。
圖5表示與圖2放大顯示的類似的裝置r的替代實(shí)施方案。輸送輥 3a'在旋轉(zhuǎn)軸20上旋轉(zhuǎn)，其中它們約一半浸入處理介質(zhì)10中。輸送輥3a' 端部有加粗的邊緣區(qū)域40',在它們之間帶有略為較窄的中間區(qū)域41'。 這時(shí)，輸送輥3a'在邊緣區(qū)域40'方面形成得使襯底2外側(cè)放在各自邊緣 區(qū)域40'上，而且中間區(qū)域基本上自由延伸。以此，即使不完全平的襯 底2,例如，由于制造順序或加工方法略微不平或者呈波形的襯底，也 能持久而且良好地放置在輸送輥3a'或邊緣區(qū)域40'上，用處理介質(zhì)10濕 潤(rùn)。如前所述，正是襯底的外部區(qū)域或邊緣的蝕刻并以此用處理介質(zhì)10 濕潤(rùn)是非常重要的。若例如襯底2在中間向下彎曲，則至少在邊緣區(qū)域 不再接觸輸送輥，因此在這里也不進(jìn)行腐蝕過程。這正是通過可以說剪 裁的輸送輥3a'或較窄的中間區(qū)域41'達(dá)到的。
盡管中間區(qū)域41'的構(gòu)成在它們對(duì)液體10的液體吸收能力或者輸送 能力方面不重要，但是邊緣區(qū)域40'優(yōu)選在整個(gè)輸送輥3a方面像針對(duì)以 前的實(shí)施例送所描述的那樣構(gòu)成。就這點(diǎn)而言只要提出這一點(diǎn)。邊緣區(qū) 域40'和中間區(qū)域41'之間的粗細(xì)差異或直徑差異可以達(dá)到若干毫米，例 如構(gòu)成直徑的2至10%。
因?yàn)閺膱D5可以清楚看出，襯底2只在輸送方向側(cè)面的外部區(qū)域才 被腐蝕，而前面和后面的外部區(qū)域不腐蝕，這一點(diǎn)還需要跟進(jìn)。為此 恰恰按照?qǐng)D4帶有設(shè)備35的布置非常有利，因?yàn)槟抢镌谧筮叺难b置1 中一對(duì)處于相對(duì)位置的側(cè)面外部區(qū)域或者邊緣被腐蝕。通過帶有旋轉(zhuǎn)裝 置38的旋轉(zhuǎn)工位37,襯底2在該傳輸平面上旋轉(zhuǎn)90度并重新腐蝕。采用輸送輥3將其向右邊的裝置l輸送，然后在那里重新腐蝕兩個(gè)其他外
部區(qū)域。顯而易見，按照?qǐng)D5的實(shí)施例采用中間區(qū)域41'較窄的輸送輥 3a',不僅在村底2彎曲或者拱起時(shí)可以有利地使用，而且在平面時(shí)也可 使用。這取決于個(gè)別情況，剛好可以達(dá)到最佳結(jié)果。
在另一個(gè)配置中邊緣區(qū)域40'還可以不固定在輸送輥3a'上，而是例 如可以移到，以便例如在襯底2和邊緣區(qū)域40'之間的重疊10mm。這樣 一般可以通過環(huán)一類形成的邊緣區(qū)域40',使之可以在輸送輥3a'上沿著 旋轉(zhuǎn)軸20'移到，處理不同的襯底2或使按照本發(fā)明的設(shè)備l'適應(yīng)不同的 襯底寬度。
權(quán)利要求
1.用于襯底(2)表面處理的裝置(1)，帶有在一個(gè)由輸送機(jī)構(gòu)(3，3a)確定的傳輸平面中輸送襯底(2)用的輸送機(jī)構(gòu)(3，3a)和做成用液體處理介質(zhì)(10)濕潤(rùn)襯底(2)用的至少一個(gè)輸送機(jī)構(gòu)(3a)，其特征在于，該輸送機(jī)構(gòu)(3a)這樣地布置得低于該傳輸平面(5)，使之接觸該傳輸平面(5)或至少接近傳輸平面(5)，用以在輸送機(jī)構(gòu)(3a)和襯底表面(4)之間直接接觸的情況下用處理介質(zhì)(10)濕潤(rùn)面向下的襯底表面(4)。
2. 按照權(quán)利要求1的裝置，其特征在于，給該輸送機(jī)構(gòu)(3a)設(shè)有供給裝置(9),用以把處理介質(zhì)(10)輸入輸送機(jī)構(gòu)(3a)的外表面。
3. 按照權(quán)利要求1或2的裝置，其特征在于，該輸送機(jī)構(gòu)(3a)具有 一 個(gè)多孔的外表面，它形成得專門用來從至少 一 個(gè)設(shè)置在輸送機(jī)構(gòu)(3a)中的給料位置把處理介質(zhì)(IO)輸送到輸送機(jī)構(gòu)(3a)的外表面，優(yōu)選通過把施加了壓力的處理介質(zhì)引入輸送機(jī)構(gòu)(3a )。
4. 按照權(quán)利要求1或2的裝置，其特征在于，該輸送機(jī)構(gòu)(3a)具有帶有大量通孔的外表面，它們優(yōu)選與從設(shè)置在輸送機(jī)構(gòu)(3a)中的給料位置供應(yīng)處理介質(zhì)(10)的供料溝道連接。
5. 按照上列權(quán)項(xiàng)中一項(xiàng)的裝置，其特征在于，該輸送機(jī)構(gòu)(3a)形成為輸送輥，它布置得使之與傳輸平面(5)接觸。
6. 按照權(quán)利要求5的裝置，其特征在于，該輸送輥(3a)帶有其走向?yàn)閳A周方向的槽，槽深度在0.1mm至lmm范圍內(nèi)，優(yōu)選在0.2mm至0.8mm范圍內(nèi)。
7. 按照權(quán)利要求5的裝置，其特征在于，該輸送輥(3a)設(shè)有軸向走向的槽，槽深度在O.lmm至lmm范圍內(nèi)，優(yōu)選在0.2mm至0.8mm范圍內(nèi)。
8. 按照權(quán)利要求5至7中的一項(xiàng)的裝置，其特征在于，該輸送輥(3a)在外表面上具有大量的凹槽，特別是孔洞。
9. 按照權(quán)利要求5至8中的一項(xiàng)的裝置，其特征在于，該輸送輥(3a)這樣地安裝在一個(gè)可裝滿處理介質(zhì)(10 )的桶(9 )上，使得輸送輥(3a)的外表面特別穩(wěn)定地浸入處理介質(zhì)(10)，可用處理介質(zhì)(10)浸潤(rùn)，其中該輸送輥(3a)優(yōu)選至少浸入該處理介質(zhì)(10)中到直徑的三分之
10. 按照權(quán)利要求5至9中的一項(xiàng)的裝置，其特征在于，該輸送輥(3a)與驅(qū)動(dòng)裝置嚙合，用以傳遞旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，并作為該襯底用的輸送機(jī)構(gòu)(3, 3a)，優(yōu)選形成為唯一的輸送機(jī)構(gòu)(3， 3a)。
11. 按照權(quán)利要求5至10中的一項(xiàng)的裝置，其特征在于，該多個(gè)輸送輥(3a, 3a') —個(gè)接一個(gè)地布置在輸送方向上。
12. 按照權(quán)利要求5至11中的一項(xiàng)的裝置，其特征在于，該輸送輥(3a')具有一個(gè)可變的直徑，帶有至少兩個(gè)直徑較大的區(qū)域(40')，它們比至少一個(gè)直徑較小的區(qū)域(41')凸出，其中優(yōu)選兩個(gè)直徑較大的區(qū)域(40，)各自在該輸送輥(3a')的側(cè)邊上。
13. 按照權(quán)利要求12的裝置，其特征在于，該直徑較大的區(qū)域(40')比直徑較小的至少一個(gè)區(qū)域(41')約凸出1至10mm,優(yōu)選2mm至5mm。
14. 按照權(quán)利要求12或13的裝置，其特征在于，該直徑較大的區(qū)域(40，)寬10mm，優(yōu)選寬12至30mm。
15. 按照權(quán)利要求12至14中的一項(xiàng)的裝置，其特征在于，該直徑較大的區(qū)域(40，)按照權(quán)利要求6至8的特征形成，而且特別是至少一個(gè)直徑較小的區(qū)域(41')具有光滑和/或封閉的表面。
16. 按照上列權(quán)項(xiàng)中一項(xiàng)的裝置，其特征在于，設(shè)置至少一個(gè)抽吸裝置(11),用以從輸送機(jī)構(gòu)(3a)的周圍抽吸氣態(tài)和/或霧狀分布的處理介質(zhì)(10),其中在垂直方向上該至少一個(gè)抽吸裝置(11)布置得低于傳輸平面(5)。
17. 帶有至少兩個(gè)按照上列權(quán)項(xiàng)中一項(xiàng)的裝置(1， l')的設(shè)備(35),其特征在于，該第一裝置(l, l')設(shè)計(jì)具有第一輸送方向，接著是帶有第二輸送方向的第二裝置(i, r),其中該襯底(2)從該第一裝置轉(zhuǎn)移到該第二裝置上，其中該第一輸送方向?qū)υ摰诙斔头较蛐D(zhuǎn)90度。
18. 帶有至少兩個(gè)按照上列權(quán)項(xiàng)i至16中一項(xiàng)的裝置(i, r)，其特征在于，在裝置(i, r)之后設(shè)置一個(gè)旋轉(zhuǎn)工位(37),它從該第一裝置承接該襯底(2),并進(jìn)一步交給該第二裝置，其中在該第二裝置上與第一裝置相比在該傳輸平面(5)內(nèi)該襯底(2)旋轉(zhuǎn)90度。
19. 按照權(quán)利要求18的設(shè)備(35),其特征在于，該旋轉(zhuǎn)工位(37)本身旋轉(zhuǎn)襯底(2),特別是在該傳輸平面(5)旋轉(zhuǎn)90度，其中它們形成得舉起和旋轉(zhuǎn)該襯底(2)或以此設(shè)計(jì)旋轉(zhuǎn)裝置(38)。
20. 按照權(quán)利要求18或19的設(shè)備，其特征在于，該旋轉(zhuǎn)工位(37)具有彼此相鄰的多個(gè)單獨(dú)的旋轉(zhuǎn)裝置(38),其中優(yōu)選相鄰的旋轉(zhuǎn)裝置(38)各自在輸送方向上略向前或者略向后錯(cuò)開，而且特別是該旋轉(zhuǎn)裝置(38)交替地布置在兩條直線上，該兩條直線沿著垂直于輸送方向延伸并隔開。
21. —種用處理介質(zhì)(10)濕潤(rùn)襯底(2)的襯底表面(4)用的方法，帶有以下步驟-用輸送機(jī)構(gòu)(3, 3a)在傳輸平面(5)上輸送襯底(2);-用處理介質(zhì)(10)濕潤(rùn)一個(gè)至少基本上布置在該傳輸平面(5)上的面向下的襯底表面(4)，該處理介質(zhì)用輸送機(jī)構(gòu)(3a)在直接機(jī)械接觸的情況下涂在該襯底表面(4)上。
22. 按照權(quán)利要求21的方法，其特征在于，可由該輸送輥帶到該襯底表面上的處理介質(zhì)數(shù)量，可通過改變?cè)撦斔洼?3a)浸入該處理介質(zhì)(10)中的深度和/或通過改變?cè)撦斔洼伒男D(zhuǎn)速度調(diào)節(jié)。
23. 按照權(quán)利要求21或22的方法，其特征在于，用在垂直方向上布置在該傳輸平面(5)以下的抽吸裝置(11)在該襯底表面(4)被濕潤(rùn)之前和/或同時(shí)和/或之后，抽吸蒸發(fā)的和/或霧狀的處理介質(zhì)(10),以便防止處理介質(zhì)(10)沉淀在布置在該傳輸平面(5)的襯底表面(4)以外的另 一個(gè)襯底表面上。
24. 按照權(quán)利要求21至23中的一項(xiàng)的方法，其特征在于，處理介質(zhì)是帶有下列物質(zhì)中至少一種的水溶液氟氫酸(HF)、鹽酸HC1、硝酸(HN03)、苛性鉀溶液(NaOH)。
25. 按照權(quán)利要求21至24中一項(xiàng)的方法，其特征在于，襯底(2)的連續(xù)輸送和/或處理介質(zhì)(2)的連續(xù)制備是通過濕潤(rùn)襯底表面(4)和/或連續(xù)抽吸氣態(tài)或者霧狀處理介質(zhì)(10)用的輸送機(jī)構(gòu)進(jìn)行的。
26. 按照權(quán)利要求21至25中的一項(xiàng)的方法，其特征在于，處理介質(zhì)(10)施加在面向下的襯底表面上是在襯底(2)的邊緣區(qū)域進(jìn)行的，優(yōu)選是在5至15mm的邊緣區(qū)域進(jìn)行的。
27. 按照權(quán)利要求26的方法，其特征在于，該處理介質(zhì)(10)涂在矩形襯底(2)輸送方向的左側(cè)和右側(cè)上，特別是用按照權(quán)利要求12至15的輸送輥(3a')。
28. 按照權(quán)利要求26或27的方法，其特征在于，該村底(2)首先以第一方向輸送，這時(shí)，用處理介質(zhì)(10)濕潤(rùn)面向下的襯底表面的側(cè)邊，然后該襯底(2)在該傳輸平面上旋轉(zhuǎn)90度，然后在其余兩個(gè)側(cè)面再濕潤(rùn)該面向下的襯底表面的側(cè)邊。
29. 按照權(quán)利要求28的方法，其特征在于，該襯底(2)的旋轉(zhuǎn)是在帶有處理介質(zhì)(10)的裝置(1, l')之外進(jìn)行的，特別是在兩個(gè)帶有處理介質(zhì)(10)的裝置(1, l')之間的一個(gè)旋轉(zhuǎn)工位(37)上進(jìn)行的。
30. 按照權(quán)利要求26或27的方法，其特征在于，該襯底(2 )從按照權(quán)利要求書1-16中一個(gè)的裝置(1, l')轉(zhuǎn)移到另一個(gè)這樣的裝置(1，r)上，其中這些裝置(i, r)具有彼此成90度角度的輸送方向，而且該襯底(2)在這些裝置(i, r)上以各自不同的輸送方向輸送。
全文摘要
本發(fā)明涉及處理硅晶圓片(2)表面用的裝置(1，1′)，包括在一個(gè)由輸送輥(3)決定的輸送表面(5)上輸送硅晶圓片(2)用的輸送輥(3)和至少一個(gè)用液體處理介質(zhì)(10)處理硅晶圓片(2)用的輸送機(jī)構(gòu)(3a)。該輸送機(jī)構(gòu)(3a)以這樣一種方式布置在輸送表面(5)以下，使之與輸送平面接觸，用以在輸送機(jī)構(gòu)與襯底表面的直接接觸中用處理介質(zhì)(10)濕潤(rùn)面向下的襯底表面用的。
文檔編號(hào)B05C1/02GK101495242SQ200680047231
公開日2009年7月29日 申請(qǐng)日期2006年12月15日 優(yōu)先權(quán)日2005年12月16日
發(fā)明者H·卡普勒 申請(qǐng)人:吉布爾.施密德有限責(zé)任公司