專利名稱：含有防霧組分的組合物的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及含有抑霧劑組合物的組合物(compositions containing mist suppressant compositions)以及它們在期望降低成霧(misting)或氣霧化 (aerosoling)水平的涂布方法中的具體用途。
背景技術(shù)：
眾所周知的是，在對硅氧烷基紙張剝離涂布制劑(silicone-based paper release coating formulations)進(jìn)4亍足句多高的S走轉(zhuǎn)或平移(translational)運(yùn)動的才喿 作中，例如對撓性載體(flexible support)和紙張進(jìn)行高速輥涂(roll coating)的 操作中，成霧和/或氣霧化可變成顯著的問題。當(dāng)以接近1000ft/min的輥涂 速度應(yīng)用這些剝離涂布時，這些問題變得特別顯著，而在紙張涂層工業(yè) (paper coating industry)中使用超過1500 ft/min，例如2000-3000 ft/min的速 度是一種趨勢。除了對制造業(yè)操作產(chǎn)生有害的影響之外，這些霧和氣霧化 粒子對在涂布設(shè)備附近操作或工作的人員帶來了工業(yè)衛(wèi)生和安全性問題。
通常稱為"抑霧劑"的專門化學(xué)制劑通常用于減少在所述操作中的霧 形成。例如，美國專利6,805,914和6，489,407(以下簡稱為專利'914和'407) 披露了硅氧烷抑霧劑組合物，所述組合物是由過量的至少一種有機(jī)氫化硅 氧烷(organohydrogensilicone)(組分(a))與至少 一種化合物(組分(b))反應(yīng)而獲 得的，至少 一種有機(jī)氫化硅氧烷(組分(a))在每分子中含有至少三個硅鍵合的 氫基團(tuán)(silicon-bonded hydrogen group),所述至少一種化合物(組分(b))在每 分子中含有至少兩個烯基，其中組分(a)中硅鍵合的氫原子數(shù)目與組分(b)中 烯基數(shù)目的比例為至少4.6:1,以及更優(yōu)選為4.6:1至500:1。
美國專利6,586,535基本上披露了專利'914和'407的相反方面，即硅氧 烷抑霧劑組合物是從至少一種含有至少兩個硅鍵合的氫基的有機(jī)氫化硅化 合物與過量的至少 一種含有至少三個與硅鍵合的烯基的有機(jī)烯基硅氧烷化 合物反應(yīng)得到的，其中組分(a)中硅鍵合的氫原子數(shù)目與組分(b)中烯基數(shù)目 的比例小于或等于1:4.6，以及優(yōu)選為1:4.6至1:500。美國專利6,764,717和6，956，096披露了從兩步方法得到的硅基抑霧劑 組合物(silicone-based mist suppressant compositions),所述方法包括(a)使含 有至少三個脂肪族雙鍵的烴與化學(xué)計(jì)量過量的含有末端硅鍵合的氫原子 (terminal silicon-bonded hydrogen atoms)的有機(jī)珪氧烷化合物反應(yīng)，其中硅4建 合的氫與脂肪族雙鍵的比例為1.3至10,以及優(yōu)選為1.5至5;以及(b)使形 成的含有硅鍵合的氫原子的烴-硅氧烷共聚物與化學(xué)計(jì)量過量的a,co-二烯基 硅氧烷聚合物反應(yīng)，其中a，co-二烯基硅氧烷聚合物中脂肪族雙4定與在第一 步中獲得的烴-硅氧烷共聚物中硅鍵合的氫的比例為1.2至10，優(yōu)選為1.5 至5.0。
美國專利6,887,949、 6，774，201和6，727，338披露了作為防霧添加劑 (anti-mist additive)的硅氧烷聚合物，其中在所述硅氧烷聚合物的合成中包括 不飽和的烴化合物。
美國專利5，625，023披露了一種抑霧劑組合物，其是通過使有機(jī)硅化合 物、含有氧化烯的化合物(oxyalkylene畫containing compound)和催4匕劑反應(yīng)而 得到的。
美國專利5,399,614披露了含有烯基封端的聚二有機(jī)硅氧烷 (alkenyl-terminated polydiorganosiloxane)和硅氬化物(silylhydride)封端的有 機(jī)化聚硅氧坑(silylhydride-terminated organohydroge叩olysiloxane)的粘合
劑組合物。
然而，仍然需要涂布組合物(coating composition),特別是紙剝離組合物 (paper release composition),其在產(chǎn)生霧的方法，特別是高速涂布方法中寸吏 用時，具有降低的成霧水平，同時提供了其它益處，例如節(jié)約成本、易于 生產(chǎn)和易于使用。

發(fā)明內(nèi)容
首先通過提供下述組合物(即涂料制劑)實(shí)現(xiàn)了這些和其它目的，所述組 合物包含
(i) 基于石圭氧烷的涂布組分(silicone-based coating component),所述基于 硅氧烷的涂布組分在形成霧的條件下易于成霧(susceptible to misting);以及
(ii) 防霧量(anti-mistingamount)的支化聚硅氧烷組分，所述支化聚硅氧 烷組分是在硅氫化條件下對下述的組分混合物進(jìn)行共聚而形成的，所述組分混合物包含
(a) —種或多種有機(jī)硅化合物，所述有機(jī)硅化合物在每分子中含有至少 兩個不飽和烴官能團(tuán)，所述不飽和烴官能團(tuán)能夠在硅氫化條件 (hydrosilylation condition)下與含娃氬基的化合物(silylhydride-containing compound)進(jìn)行娃氬化反應(yīng)(hydrosilylation reaction); 以及
(b) —種或多種含硅氫基的化合物，所述化合物在每分子中含有至少兩 個硅氪基官能團(tuán)(silylhydride functional group);
條件是(i)組分(a)或(b)中的至少 一種在每分子中含有至少三個官能團(tuán)； (ii)當(dāng)組分(a)或(b)中的一種組分在每分子中含有較多數(shù)目的官能團(tuán)，以及 組分(a)或(b)中的另一種組分在每分子中含有較少數(shù)目的官能團(tuán)時，則組分 (a)或(b)中在每分子中含有較多數(shù)目官能團(tuán)的組分的摩爾量等于或低于組分 (a)或(b)中在每分子中含有較少數(shù)目官能團(tuán)的另一種組分的摩爾量；以及(iii) 所述組分混合物中不包括不飽和烴化合物。
在一個實(shí)施方案中，組分(a)中的不飽和烴官能團(tuán)與組分(b)中的硅氫基 官能團(tuán)的摩爾比在式(6-s):l或l:(l+t)的范圍內(nèi)，其中s表示等于或大于0并 且小于5的數(shù)，以及t表示大于0并且等于或小于5的數(shù)。
在另一個實(shí)施方案中，組分(a)中的不飽和烴官能團(tuán)與組分(b)中的硅氫 基官能團(tuán)的摩爾比在式(4.6-s):l或l:(l+s)的范圍內(nèi)，其中s表示大于0并且 小于3.6的數(shù)。
在另 一個實(shí)施方案中，組分(a)中的不飽和烴官能團(tuán)與組分(b)中的硅氫 基官能團(tuán)的摩爾比在式(4.25-s):l或l:(l+t)的范圍內(nèi)，其中s表示等于或大于 0并且小于3.25的數(shù)，以及t表示大于0并且等于或小于3.25的數(shù)。
在另一個實(shí)施方案中，組分(a)中的不飽和烴官能團(tuán)與組分(b)中的硅氫 基官能團(tuán)的摩爾比在約4.5:1至約2:1的范圍內(nèi)。
在具體的實(shí)施方案中，組分(a)或(b)中的一種組分在每分子中具有至少 四個，或至少六個，或至少八個，或更高數(shù)目的官能團(tuán)，組分(a)或(b)中的 另一種組分在每分子中兩個或三個官能團(tuán)，且前者的摩爾量低于后者的摩 爾量。
本發(fā)明還涉及涂布方法，所述方法包括在形成霧的條件下將上文所述 的涂料制劑涂布至基底。當(dāng)經(jīng)受這些形成霧的條件時，所述涂^f+制劑與缺 少防霧量的支化聚硅氧烷組分的相同組合物相比，顯示出降低的成霧。本發(fā)明還涉及通過對如上所述的用涂料制劑涂布的基底進(jìn)行一次或多
次固化步驟(curing steps)生產(chǎn)的硬化的硅氧烷基涂層或薄膜(hardened silicone-based coating or film)。
本發(fā)明有利地提供了含有新穎的支化聚硅氧烷抑霧劑的紙張剝離或防 粘(paperrelease),粘合劑和相關(guān)的涂布組合物。含有這些抑霧劑的組合物能 夠顯著降低高速涂布操作過程中的成霧，同時提供了額外的益處，即經(jīng)濟(jì)、 容易使用和制造。
具體實(shí)施例方式
本發(fā)明的組合物最少含有兩種組分(i)基于硅氧烷的涂布組分，所述 基于硅氧烷的涂布組分在形成霧的條件下易于成霧；以及(ii)防霧量的支化 聚硅氧烷組分(防霧組分)。
基于硅氧烷的涂布組分必須具有如此的可流動稠度(flowable
consistency),從而可將其通過例如輥涂、噴涂(spray)等方式涂布到基底上作 為涂層。例如，所述基于硅氧烷的涂布組分可以是未固化的或部分固化的 液體，其具有足夠低的粘度以便容易涂布到基底上作為涂層。通常地，所 述基于硅氧烷的涂布組分的粘度低于1，500厘泊(cPs),更通常地在50至 1,000 cPs的范圍內(nèi)，甚至更通常地在50至500 cPs的范圍內(nèi)，其中1厘泊 (cPs)= 1毫帕斯卡-秒(mPa.s)。
所述基于硅氧烷的涂布組分可涉及基于硅氧烷的涂料(silicone-based coating)用作例如剝離劑(release agent)、潤滑劑、保護(hù)基、粘合劑等等的任 何應(yīng)用。 一類特別合適的基于硅氧烷的涂布組分包括公知類型的壓敏粘合 劑(pressure-sensitive adhesive)，所述壓壽丈粘合劑具有以下的性質(zhì)與表面津占 附并且易于從表面除去，同時不將大于痕量的粘合劑轉(zhuǎn)移至基底表面。
例如，所述基于硅氧烷的涂布組分可以是本領(lǐng)域已知的任何可固化硅 氧烷涂料或紙張剝離組合物(paper release composition)?？晒袒柩跬橥坎?組合物的類型的一些實(shí)例是可通過硅氫化反應(yīng)交聯(lián)、過氧化物固化、光固 化(例如，紫外光固化)和電子束固化方法可固化的組合物。
在一個實(shí)施方案中，所述基于硅氧烷的涂布組分包括能夠在硅氫化反 應(yīng)條件下(例如，在下文進(jìn)一步討論的硅氫化催化劑存在下)進(jìn)行交聯(lián)的組 分。能夠在硅氫化反應(yīng)條件下進(jìn)行交聯(lián)的組分包括(i)一種或多種有機(jī)硅化合物，所述有機(jī)硅化合物在每分子中含有至少兩個不飽和烴官能團(tuán)，以及(ii) 一種或多種含硅氫基的化合物，所述化合物在每分子中含有至少兩個硅氬
基官能團(tuán)。組分(i)的不飽和烴基的一些實(shí)例包括乙烯基、烯丙基、3-丁烯基、 4-戊烯基、5-己烯基、6-庚烯基、7-辛烯基、8-壬烯基、9-癸烯基、10-十一 碳烯基、4，7-辛二烯基、5,8-壬二烯基等等。
組分(i)的不飽和有機(jī)硅化合物和組分(ii)的含硅氫基的化合物可以獨(dú)立 為，例如低分子量硅烷、二硅烷(disilane)、三硅烷(trisilane)、硅氧烷、二硅 氧烷(disiloxane)、三石圭氧烷(trisiloxane)、環(huán)三石圭氧烷(cyclotrisiloxane)或環(huán)四 硅氧烷(cyclotetrasiloxane)化合物等等，其具有至少兩個不飽和烴基(就組 分(i)而言)，或至少兩個硅氫基官能團(tuán)(就組分(ii)而言)。在本說明書中稍后 給出的實(shí)例對于用于防霧組分的每種這些類型的組合物而言也同樣適用。
可供選擇地，組分(i)和/或(ii)可以是具有M、 D、 T和Q基團(tuán)的任何兩 種或多種組合的任何線性、支化和/或交聯(lián)聚合物，其中，如本領(lǐng)域已知的 是，M基團(tuán)表示式R3Si01/2的單官能團(tuán)，D基團(tuán)表示式R2Si02/2的雙官能團(tuán)， T基團(tuán)表示式RSi03/2的三官能團(tuán)，以及Q基團(tuán)表示式Si04,2的四官能團(tuán)， 其中R基團(tuán)可以是任何合適基團(tuán)，包括氫、烴基(例如，CrC6)、卣素、烷 氧基和/或氨基，以及其中上述硅氧烷中的至少兩個R基團(tuán)為至少兩個不 飽和烴基(就組分(i)而言)，或至少兩個硅氫基官能團(tuán)(就組分(ii)而言)。適用 于基于硅氧烷的涂布組分的聚硅氧烷的類型的一些實(shí)例包括MDM、 TD、 MT、 MDT、 MDTQ、 MQ、 MDQ和MTQ類型的聚硅氧烷，及其組合，所 述實(shí)例具有至少兩個不飽和烴基(就組分(i)而言)，或至少兩個硅氫基官能 團(tuán)(就組分(ii)而言)。
例如，所述基于硅氧烷的涂布組分可為標(biāo)準(zhǔn)的硅氧烷紙張剝離制劑， 其含有按重量計(jì)90-99%的乙烯化聚二曱基硅氧烷聚合物(vinylated polydimethylsiloxane polymer)和按重量計(jì)1-10%的硅氫基官能化的基于硅氧 烷的化合物或聚合物，基于所述基于硅氧烷的涂布組分的總重量，其中每 種含乙烯基的組分和含硅氫基的組分通常具有約20-500 cPs的粘度。
通常地，為了防止催化劑在加工過程中固化或延展制劑在貯藏過程中 的浴壽命(bath life)或穩(wěn)定性，在涂料制劑中包括催化劑抑制劑(catalyst inhibitor)。催化劑抑制劑可以是本領(lǐng)域已知的任何化學(xué)品，所述化學(xué)品可抑 制催化劑在涂布過程中固化同時在期望固化時不會阻止固化。例如，催化劑抑制劑可以是下述化學(xué)品，所述化學(xué)品可以在應(yīng)用涂料制劑過程中在室 溫充分抑制催化劑固化，但是當(dāng)期望固化時在經(jīng)受升高的溫度時喪失其抑
制作用。在所述組合物中包括的抑制劑的量通常為組合物的約5至約15重 量％。催化劑抑制劑的一些實(shí)例包括馬來酸鹽或酯、富馬酸鹽或酯、不飽和 酰胺、炔屬化合物(acetylenic compound)、不飽和異氰酸酯、不飽和烴二酯、 氬過氧4b 4勿(hydroperoxide)、腈禾口 二氮丙^定(diaziridines)。
防霧組分(即，支化聚硅氧烷組分)以防霧量(anti-misting amount)包括在 本發(fā)明的組合物(即，涂料制劑)中。防霧量(霧抑制量)是當(dāng)本發(fā)明的組合物 在通常引起組合物成霧或氣霧化的方法中使用時，引起成霧或氣霧化減少 的量。通常地，在涂料制劑包括的防霧組分的量占涂料制劑的約0.1至約 15wt%，以及更通常地占涂料制劑的約0.5至約5wt%。
所述防霧組分是在硅氫化反應(yīng)條件下，對一種或多種有機(jī)硅化合物(所 述有機(jī)硅化合物在每分子中含有至少兩個不飽和烴官能團(tuán))即組分(a)，與一 種或多種含硅氬基的化合物(所述化合物在每分子中含有至少兩個硅氫基官 能團(tuán))即組分(b)共聚而形成的。
組分(a)的有機(jī)硅化合物包括任何低分子量化合物，以及較高分子量低 聚物和共聚物，所述有機(jī)硅化合物含有一個或多個硅原子并具有至少兩個 不飽和烴官能團(tuán)。組分(a)的有機(jī)硅化合物的類型的一些實(shí)例包括有機(jī)硅烷 (即，含有硅-碳鍵而不含硅-氧鍵)、硅氧烷和硅氮烷(silazane),這些物質(zhì)含 有至少兩個不飽和烴基。
組分(a)的有機(jī)硅化合物中的不飽和烴基包括能夠在硅氫化條件下與硅 烷基反應(yīng)、且具有至少一個碳-碳雙鍵或三鍵的任何直鏈、支鏈或環(huán)狀烴基。 更典型地，所述不飽和烴基含有二至六個碳原子。不飽和烴基的一些實(shí)例 包括取代的或未取代的乙烯基、烯丙基、丁烯基、丁二烯基、4-戊烯基、2,4-戊二烯基、5-己烯基、環(huán)丁烯基、環(huán)己烯基、丙烯?；?acryloyl)和曱基丙烯 ?；?methacryloyl)。
組分(a)的低分子量有機(jī)硅烷化合物的 一 些實(shí)例包括二乙烯基二甲基硅 烷、二乙烯基二氯硅烷、二乙烯基曱基丙基硅烷、二乙烯基二丙基硅烷、 二乙烯基二異丙基硅烷、二乙烯基二苯基硅烷、二乙烯基苯基丙基硅烷、 三乙烯基曱基硅烷、三乙烯基乙氧基硅烷、三乙烯基氯硅烷、三乙烯基苯 基硅烷、二烯丙基二曱基硅烷、二烯丙基二氯硅烷、烯丙基乙烯基二曱基硅烷、三乙烯基苯基硅烷、1，3-二乙烯基四曱基二曱硅烷基曱烷、1，4-二乙 烯基四曱基二曱硅烷基乙烷、l，l-二乙烯基四曱基二曱硅烷基乙烷、1,1,4-三乙烯基三曱基二曱硅烷基乙烷、l，l，l-三乙烯基三甲基二曱硅烷基乙烷、 1,1,4,4-四乙烯基二曱基二曱硅烷基乙烷、1，1,1，4-四乙烯基二曱基二曱硅烷 基乙烷、1,1，1，4,4,4-六乙烯基二曱硅烷基乙烷、1,3-二乙烯基四苯基二曱硅 烷基曱烷、1，4-二乙烯基四苯基二曱硅烷基乙烷、l，l-二乙烯基四苯基二曱 硅烷基乙烷、1,1,4-三乙烯基三苯基二曱硅坑基乙烷、1,1,1-三乙烯基三苯基 二甲硅烷基乙烷、1,1,4,4-四乙烯基二苯基二曱硅烷基乙烷和1，1,1,4-四乙烯 基二苯基二曱硅烷基乙烷。
組分(a)的低分子量硅氧烷化合物的一些實(shí)例包括二乙烯基二曱氧基硅 烷、二乙烯基二乙氧基硅烷、三乙烯基乙氧基硅烷、二烯丙基二乙氧基硅 烷、三烯丙基乙氧基硅烷、乙烯基二曱基曱硅烷氧基乙烯基二曱基曱醇 (CH2=CH2-C(CH3)rO-Si(CH3)2(CH2=CH2) 、 1 ，3-二乙烯基四曱基二硅氧烷、 1，3-二乙烯基四乙基二硅氧烷、l，l-二乙烯基四曱基二硅氧烷、1，1,3-三乙烯 基三曱基二硅氧烷、l，l,l-三乙烯基三曱基二硅氧烷、1,1,3，3-四乙烯基二曱 基二硅氧烷、1,1,1，3-四乙烯基二曱基二硅氧烷、1，3-二乙烯基四苯基二硅氧 烷、1,1-二乙烯基四苯基二硅氧烷、1，1，3-三乙烯基三苯基二硅氧烷、l,l，l-三乙烯基三苯基二石圭氧烷、1，1，3,3-四乙烯基二苯基二石圭氧烷、1,1，1,3-四乙 烯基二苯基二硅氧烷、六乙烯基二硅氧烷、三(乙烯基二曱基曱硅烷氧基) 甲基硅烷、三(乙烯基二曱基曱硅烷氧基)曱氧基硅烷、三(乙烯基二曱基曱 硅烷氧基)苯基硅烷和四(乙烯基二甲基曱硅烷氧基)硅烷。
組分(a)的線性硅氧烷低聚物的一些實(shí)例包括1,5-二乙烯基六甲基三硅 氧烷、1,3-二乙烯基六曱基三硅氧烷、1,1-二乙烯基六曱基三硅氧烷、3,3-二乙晞基六曱基三硅氧烷、1,5-二乙烯基六苯基三硅氧烷、1，3-二乙烯基六 苯基三硅氧烷、l，l-二乙烯基六苯基三硅氧烷、3，3-二乙烯基六苯基三硅氧 烷、l，l，l-三乙烯基五甲基三硅氧烷、1,3,5-三乙烯基五曱基三硅氧烷、l,l，l-三乙烯基五苯基三硅氧烷、1，3,5-三乙烯基五苯基三硅氧烷、1,1,3,3-四乙烯 基四曱基三硅氧烷、1，1，5，5-四乙烯基四甲基三硅氧烷、1,1，3，3-四乙烯基四 苯基三硅氧烷、1,1,5,5-四乙烯基四苯基三硅氧烷、1，1，1,3,3-五乙烯基三曱基 三硅氧烷、1,1,3,5,5-五乙烯基三曱基三硅氧烷、1，1,3,3，5,5-六乙烯基二曱基 三硅氧烷、1，1,1,5，5，5-六乙烯基二曱基三硅氧烷、1，1,1，5,5,5-六乙烯基二苯基三硅氧烷、1,1,1，5，5,5-六乙烯基二曱氧基三硅氧烷、1,7-二乙烯基八曱基 四硅氧烷、1，3，5,7-四乙烯基六曱基四硅氧烷和1,1，7,7-四乙烯基六曱基四硅氧烷。
組分(a)的環(huán)狀硅氧烷低聚物的一些實(shí)例包括1,3-二乙烯基四曱基環(huán)三 硅氧烷、l,3，5-三乙烯基三曱基環(huán)三硅氧烷、l，3-二乙烯基四苯基環(huán)三硅氧烷、 1,3,5-三乙烯基三苯基環(huán)三硅氧烷、1,3-二乙烯基六曱基環(huán)四硅氧烷、1，3，5-三乙烯基五曱基環(huán)四硅氧烷和1，3，5,7-四乙烯基四甲基環(huán)四硅氧烷。
組分(a)的硅氮烷的一些實(shí)例包括1,3-二乙烯基四甲基二硅氮烷、1，3-二 乙烯基-l，3-二苯基-l,3-二曱基二硅氮烷、1，3,5-三乙烯基三曱基環(huán)三硅氮烷、 1,3,5-三乙烯基三苯基環(huán)三硅氮烷、1,3,5-三乙烯基五曱基環(huán)四硅氮烷和 1,3,5,7-四乙烯基四曱基環(huán)四硅氮烷。
組分(a)的聚合硅氧烷(聚硅氧烷)包括具有M、 D、 T和Q基團(tuán)的任何兩 種或多種組合的線性、支化和/或交聯(lián)聚合物，其中，如本領(lǐng)域已知的是， M基團(tuán)表示式R3SiC^/2的單官能團(tuán)，D基團(tuán)表示式R2Si02,2的雙官能團(tuán)，T 基團(tuán)表示式RSi03,2的三官能團(tuán)，以及Q基團(tuán)表示式Si04/2的四官能團(tuán)，以 及其中至少兩個R基團(tuán)為不飽和烴基，其余的R基團(tuán)可以是任何合適的基
團(tuán)，包括烴基(例如，CrC6)、鹵素、烷氧基和/或氨基。
適于組分(a)的聚硅氧烷的類型的一些實(shí)例包括具有至少兩個不飽和烴 基的MDM、 TD、 MT、 MDT、 MDTQ、 MQ、 MDQ和MTQ類型的聚硅氧 烷，及其組合。
在一個具體的實(shí)施方案中，組分(a)為具有一個或多個M和/或Nfi基團(tuán) 以及一個或多個D和/或Dvi基團(tuán)的MD型聚硅氧烷，其中M表示Si(CH3)30-， Mvi表示(CH2=CH2)Si(CH3)20- , D表示-Si(CH3)20-,以及Dvi表示 -Si(CH2=CH2)(CH3)0, "vi"為"乙烯基"的縮寫，其中MD型聚硅氧烷含 有至少兩個乙烯基。
組分(a)的合適的MD型聚硅氧烷的一些實(shí)例包括MviDJV[Vi、 MviDvinM、 MviDvinDmM、 MviDvinMvi、 MviDvinDmMvi、 MDvinM和MDvinDmM類型的MD 型聚硅氧烷，其中m和n各自表示至少1。前述類型的MD聚硅氧烷中的 任何一種或其組合可用于組分(a)。在各種實(shí)施方案中，m和n可獨(dú)立表示 例如范圍1-10、 11-20、 50-100、 101-200、 201-500、 501-1500中的數(shù)以及 更高的數(shù)。也可將Dvi基團(tuán)隨機(jī)引入(即，不是作為嵌段)到D基團(tuán)中。例如， JVfiDvinDmM可表示下述的聚合物，其中n表示5-20，以及m表示50-1500， 以及其中5-20個0"隨機(jī)引入到50-1500個D基團(tuán)中。
在其它實(shí)施方案中，所述]Vfi和Dvi基團(tuán)可各自獨(dú)立包括較多數(shù)目的不 飽和官能團(tuán)，例如就Mvi而言為(CH尸CH2)2(CH3)SiO-和(CHfCH2)3SiO-基 團(tuán)，或就Dvi而言為-Si(CH2=CH2)20-。
組分(b)的一種或多種含硅氫基的化合物包括在每分子中含有至少兩個 硅氫基官能團(tuán)的任何低分子量化合物、低聚物或聚合物。組分(b)的含硅氫 基的化合物的類型的 一些實(shí)例包括含有至少兩個硅氫基官能團(tuán)的有機(jī)硅 烷、》圭氧烷和硅氮烷。
組分(b)的低分子量化合物的一些實(shí)例包括二甲基硅烷、二乙基硅烷、 二正丙基硅烷、二異丙基硅烷、二苯基硅烷、曱基氯硅烷、二氯硅烷、1,3-二硅雜丙烷(l，3-disilapropane)、 1,3-二硅雜丁烷(l,3-disilabutane)、 1，4-二硅雜 丁烷(l,4-disilabutane) 、 1,3-二硅雜戊烷(l,3-disilapentane) 、 1，4-二硅雜戊烷 (1,4-disilapentane) 、 1，5- 二硅雜戊烷(1,5-disilapentane) 、 1,6- 二硅雜己烷 (1，6-disilahexane)、 二-l,2-(二曱基曱硅烷基)乙烷、二-l,3-(二曱基曱硅烷基) 丙烷、1,2，3-三曱硅烷基丙烷、1,4-二曱硅烷基苯、1，2-二曱基二硅烷、1,1,2，2-四曱基二硅烷、1,2-二苯基二硅烷、U,2，2-四苯基二硅烷、1,1,3,3-四曱基二 硅氧烷、1,1,3,3-四苯基二硅氧烷、1,1,3,3,5,5-六曱基三硅氧烷、l，l,1,5,5,5-六曱基三硅氧烷、1,3,5-三甲基環(huán)三硅氧烷、1，3，5，7-四曱基環(huán)四硅氧烷和 1 ，3 ，5 ，7-四苯基環(huán)四硅氧烷。
組分(b)的含硅氫基的硅氮烷的一些實(shí)例包括1,1,3,3-四曱基二硅氮烷 (1,1,3，3-tetramethyldisilazane) 、 1，3,5-三乙基-2,4,6-三曱基環(huán)三珪氮烷 (1，3，5陽triethyl-2,4,6-trimethylcyclotrisilazane)、 1,2,3，4，5，6國六曱基環(huán)三,圭氮》克 (1，2，3,4,5，6-hexamethylcyclotrisilazane)和1，2,3,4，5,6,7，8-/\曱基環(huán)四石圭氮步克 (1,2，3，4,5，6，7,8-octamethylcyclotetrasilazane)。
組分(b)的含硅氬基的低聚物和聚合物的一些實(shí)例包括任何線性、支化 和/或交聯(lián)聚合物，在所述低聚物或聚合物中具有任何兩種或多種如上所述 的M、 D、 T和Q基團(tuán)的組合，并且具有至少兩個硅氫基官能團(tuán)。
在一個具體的實(shí)施方案中，組分(b)為具有一個或多個M和/或MH基團(tuán) 以及一個或多個D和/或DH基團(tuán)的MD型聚硅氧烷，其中M表示Si(CH3)30-，MH表示HSi(CH3)20-， D表示-Si(CH3)20-，以及DH表示-Si(H)(CH3)0-,其 中MD型聚硅氧烷含有至少兩個硅氫基團(tuán)。
合適的組分(b)的MD型聚硅氧烷的一些實(shí)例包括MHDJV[H、 MHDHnM、 MHDHnDmM、 MHDHnMH、 MHDHnDmMH、 MDHnM和MDHnDmM類型的MD 型聚硅氧烷，及其組合，其中m和n各自表示至少1,并且可具有如上所 述的任何數(shù)值。
也可將DH基團(tuán)隨機(jī)引入(即，不是作為嵌段)到D基團(tuán)中。例如， MHDHjDmM可表示下述的聚合物，其中n表示5-20，以及m表示50-1500， 以及其中5-20個DH隨機(jī)引入到50-1500個D基團(tuán)中。
在其它實(shí)施方案中，MH和DH可獨(dú)立含有較多數(shù)目的硅氫基官能團(tuán)， 例如就MH而言為H2Si(CH3)0-以及就DH而言為H3SiO-基團(tuán)。
根據(jù)本發(fā)明，組分(a)或(b)中的至少 一種在每分子中含有至少三個官能 團(tuán)。例如，組分(a)或(b)中的一種在每分子中可含有三個官能團(tuán)，而組分(a) 或(b)中的另 一種在每分子中含有兩個官能團(tuán)；或組分(a)和(b)中的每種在每 分子中都可各自含有三個官能團(tuán)；組分(a)或(b)中的一種在每分子中可含有 三個官能團(tuán)，而組分(a)或(b)中的另一種在每分子中含有四個官能團(tuán)；或組 分(a)和(b)中的每種在每分子中都可各自含有四個官能團(tuán)；等等。
在一個實(shí)施方案中，組分(a)和(b)含有相等數(shù)目的官能團(tuán)，互相以任何 摩爾比(包括相等或相似的摩爾量)存在。在另一個實(shí)施方案中，組分(a)或(b) 中的一種組分含有較多數(shù)目的官能團(tuán)，組分(a)或(b)中的另一種含有較少數(shù) 目的官能團(tuán)，且前者的摩爾量比后者的摩爾量低。
在另一個實(shí)施方案中，所述支化聚硅氧烷遵循與星形聚合物(star polymer)類似的支化圖案(branching pattern),其中組分(a)或(b)中含有較多數(shù) 目的官能團(tuán)的任一種分子(即交聯(lián)劑)的摩爾量低于組分(a)或(b)中含有較少 數(shù)目的官能團(tuán)的另一種分子(即增鏈劑(extender))的摩爾量。上述的星形聚合 物圖形不同于支化占優(yōu)勢的樹枝狀圖形(dendritic pattern)。
例如，組分(a)或(b)中的一種組分可含有至少四個、五個、六個、七個、 八個、九個、十個或更高數(shù)目的官能團(tuán)，組分(a)或(b)中的另一種組分含有 兩個或三個官能團(tuán)，且前者的摩爾量低于后者的摩爾量。
組分(a)中的不飽和烴官能團(tuán)與組分(b)中的硅氫基官能團(tuán)可以以任何合 適的摩爾比存在，例如，100:1、 50:1、 25:1、 20:1、 10:1、 1:10、 1:20、 1:25、1:50、 1:100以及其間4壬何范圍的比例。
在一個具體的實(shí)施方案中，組分(a)中的不飽和烴官能團(tuán)與組分(b)中的 硅氫基官能團(tuán)的摩爾比在式(6-s):l或l:(l+t)的范圍內(nèi)，其中s表示等于或大 于0并且小于5的數(shù)，以及t表示大于0并且等于或小于5的數(shù)。(a)的官能 團(tuán)與(b)的官能團(tuán)的所述摩爾比的一些實(shí)例包括6:l、 5.5:1、 5:1、 4.5:1、 4:1、 3.5:1、 3:1、 2.5:1、 2:1、 1.5:1、 1.4:1、 1.2:1、 1:1.2、 1:1.4、 1:1.5、 1:2、 1:2.5、 1:3、 1:3.5、 1:4、 1:4.5、 1:5、 1:5.5和1:6，以及其間任何范圍的比例。
例如，在一個實(shí)施方案中，組分(a)中的不飽和烴官能團(tuán)與組分(b)中的 硅氫基官能團(tuán)的摩爾比在式(4.6-s):l或l:(l+s)的范圍內(nèi)，其中s表示大于0 并且小于3.6的數(shù)。在另一個實(shí)施方案中，組分(a)中的不飽和烴官能團(tuán)與組 分(b)中的硅氫基官能團(tuán)的摩爾比在式(4,25-s):l或l:(l+t)的范圍內(nèi)，其中s 表示等于或大于0并且小于3.25的數(shù)，以及t表示大于0并且等于或小于 3.25的數(shù)。在另一個實(shí)施方案中，組分(a)中的不飽和烴官能團(tuán)與組分(b)中 的硅氬基官能團(tuán)的摩爾比在約4.5:1至約2:1的范圍內(nèi)。
所述支化聚硅氧烷的粘度通常大于1,500厘泊(cPs)，其中l(wèi)cPs= 1毫帕 斯卡-秒(mPa.s)。更通常地，所述支化聚硅氧烷的粘度為約3,000 cPs或大 于3,000 cPs，以及甚至更通常地為約5,000 cPs。在其它實(shí)施方案中，所述 支化聚硅氧烷的粘度可為約IO，OOO cPs、25，000 cPs、50,000 cPs或大于10,000 cPs、 25,000 cPs、 50,000 cPs，或?yàn)楦叩恼扯取?br> 在一個實(shí)施方案中，四價Si04/2基團(tuán)(即，Q基團(tuán))不包括在所述的支化
聚硅氧烷組合物中。
在另一個實(shí)施方案中，不飽和烴化合物例如a-烯烴不包括在生成支化 聚硅氧烷的組分混合物中。所述不飽和烴化合物的 一 些實(shí)例包括式 CH產(chǎn)CHR1的a-烯烴，其中R1選自卣素、氫或未取代的或雜原子取代的具 有一至六個碳原子的烴基。 一些雜原子包括氧(O)和氮(N)原子。
在另一個實(shí)施方案中，氧基取代的烴類化合物，如含有氧化烯和/或含 有酯的飽和或不飽和的化合物不包括在所述支化聚硅氧烷組合物中。
所述防霧組分的支化聚硅氧烷是由組分(a)和組分(b)在硅氫化條件下共 聚得到的。"硅氫化條件"是指在含有不飽和基團(tuán)的化合物和含硅氫基的化 合物之間發(fā)生硅氫化交聯(lián)的本領(lǐng)域已知條件。
如本領(lǐng)域已知的是，在合適的溫度混合各組分期間或混合之后，需要硅氫化催化劑來促進(jìn)或進(jìn)行組分(a)和(b)之間的硅氫化反應(yīng)。硅氬化催化劑 通常含有一種或多種鉑系元素金屬(platinum-group metal)或金屬絡(luò)合物。例 如，硅氫化催化劑可以是釘、銠、把、鋨、銥或柏的金屬形式或絡(luò)合物形 式。更通常地，所述硅氫化催化劑是鉑基的(platinum-based)。鉑基催化劑可 以是例如鉑金屬、沉積在載體(例如，二氧化硅、二氧化鈦、氧化鋯或碳) 上的鉑金屬、氯鉑酸(chloroplatinic acid),或柏與弱結(jié)合性配體如二乙烯基 四甲基二硅氧烷絡(luò)合的鉑絡(luò)合物。包含在反應(yīng)混合物中的鉑催化劑的濃度 范圍可以是例如1-100 ppm，但更通常為約5至40ppm。
必要時，助劑和其它組分可包括在本發(fā)明的涂料制劑中。助劑組分的 一些類型包括催化劑抑制劑(如上文所述)、表面活性劑和稀釋劑。稀釋劑的 一些實(shí)例包括烴(例如，戊烷、己烷、庚烷、辛烷)、芳族烴(例如，苯、曱 苯和二曱苯)、酮(例如，丙酮、曱乙酮)和卣代烴(例如，三氯乙烯和全氯乙烯)。
在另一個方面，本發(fā)明涉及涂布方法，在所述方法中將本發(fā)明的涂料 制劑在已知所述涂料制劑會發(fā)生成霧或氣霧化的條件下涂布至基底。在所 述形成霧的條件下，本發(fā)明的涂料制劑與不含防霧量的支化聚硅氧烷的涂 料制劑相比，會顯示出降低的成霧。
所述涂料制劑可通過例如輥涂或通過從合適的涂布器(例如，噴嘴)噴涂 (其中所述涂布器相對于基底可以是靜止的或運(yùn)動的)來進(jìn)行涂布。盡管成霧 或氣霧化通常主要是由涂布器相對于基底運(yùn)動引起的，但是成霧或氣霧化 可以由除了涂布器或基底的運(yùn)動以外的其它因素引起。例如，成霧可部分
或主要由涂布方法引起的，而不是涂布器相對于基底的任何運(yùn)動引起，例 如，在靜止的或緩慢噴涂的方法中。
運(yùn)動是成霧或氣霧化的主要原因)的基底的方法。所述運(yùn)動可以是能夠引起 成霧或氣霧化的任何種類的運(yùn)動，例如，形成霧水平的平移和/或旋轉(zhuǎn)運(yùn)動。
所述基底可以是期望在其上涂布上述涂料制劑的任何基底。合適基底 的一些實(shí)例包括紙、紙板(cardboard)、木材產(chǎn)品、聚合物和塑料產(chǎn)品、玻璃 產(chǎn)品和金屬產(chǎn)品。
在另 一個方面，本發(fā)明涉及通過在將上述涂料制劑涂布至基底上之后 對所述涂料制劑硬化或固化而獲得的硬化(即，固化的)涂層。所述涂料制劑一旦涂布至基底，就可通過本領(lǐng)域已知的任何固化方法進(jìn)行固化，所述固 化方法包括，例如，硅氫化反應(yīng)交聯(lián)、過氧化物固化、光固化(例如，紫外 光固化)和電子束固化。
在缺少基底的涂層本身是有用的產(chǎn)品，例如用作可涂布薄膜的情況中， 期望時，可將硬化涂層從基底移除。為了輔助涂布的硬化薄膜從基底分離，
在所述涂料制劑中可包括剝離添加劑(release additive),或者在基底和涂料制 劑之間施加剝離薄膜(release film)。
出于闡明的目的在下文列出了實(shí)施例。本發(fā)明的范圍決不限于本申請 所列出的實(shí)施例。
實(shí)施例1
防霧組分(支化聚硅氧烷)的合成
在該實(shí)施例中，稱為組分A的組分是市售的式M"DnoMvi的二官能乙 蜂基封端的聚硅氧烷，其粘度為200-300cPs。稱為組分B的組分是市售的 式MD5QQDH6.5M的六官能含硅氫基的聚硅氧烷，其粘度為6,000至15,000 cPs,氪化物含量為155至180ppm,其中6.5表示隨機(jī)引入D基團(tuán)中的DH 基團(tuán)的平均數(shù)。稱為組分C的組分是市售的催化劑制劑，其含有按重量計(jì) 10%的柏。
向裝備有置頂式攪拌器(overhead stirrer)、 GN2入口、溫度計(jì)和油浴的 1L反應(yīng)器中加入168.7g(約20.2mmol)組分A和約0.05g組分C。將混合物 在環(huán)境條件下攪拌一小時。接著，將54.4g(約1.4mmol)組分B單獨(dú)冷卻至 4°C,然后在攪拌下加到上述組分中。將混合物在環(huán)境條件下攪拌15分鐘， 然后緩慢加熱至90。C。 30分鐘后，觀測到一些膠凝現(xiàn)象。在90。C向反應(yīng)混 合物中加入255.5g組分A。將混合物在90。C攪拌兩小時，冷卻至室溫(約 25°C)，然后從釜(kettle)中排出。產(chǎn)物的量為430.9g，這對應(yīng)90%的收率。 在12Hz測量剪切粘度和剪切模量，分別為2.813 Pa.s和201.2 Pa。
實(shí)施例2
含有防霧組分的涂料制劑的合成
向兩加侖塑料桶中裝入94份(1880g)市售MviDu。Mvi溶液(含有100ppm Pt和0.4%馬來酸二烯丙酯抑制劑)。將防霧添加劑以6份(120g)的量裝入桶中，然后用鉆桿式攪拌器(drill-mountedagitator)混合。將交聯(lián)劑即市售氫化 物(MD3qDH!5M)以5.5份(110g)的量加到桶中。將混合物用鉆桿式攪拌器充 分混合。
實(shí)施例3
含有防霧組分的涂料制劑的合成
向兩加侖塑料桶中裝入87.8份(1656 g)市售MviDK)oDvi2.5Mvi溶液(含有 100 ppm Pt和0.4%馬來酸二烯丙酯抑制劑)。將防霧添加劑以6份(113g)的 量裝入桶中，然后用鉆桿式攪拌器混合。將交聯(lián)劑即市售氫化物(MD3。D^5M) 以6.0份(113g)的量加到桶中。將混合物用鉆桿式攪拌器充分混合。
實(shí)施例4
涂布方法
高速涂布器(pilot coater)用于所有的涂布和成霧研究。五輥涂布器(five roll coater)以3,000英尺/分鐘操作?；诪?8英寸寬的Otis Mill UV350紙。 所述涂布器裝備有設(shè)定至550。F的3-5英尺的空氣浮選氣體加熱干燥器 (three-five foot air floatation gas heated dryer)。涂4+重量i殳定至約0.8 lb/令。 在以3,000英尺/分鐘涂布紙基底時，使用TSI Incorporated (Shoreview， MN) 制造的DUSTTRAK 8520氣霧化監(jiān)測器進(jìn)行霧測量。測量在內(nèi)門(i皿ergate) 和外門(outergate)輥的上方進(jìn)行，高度對應(yīng)于支承輥(back-up roll)和涂布輥 (applicator roll)之間的連4妄點(diǎn)。
由此，盡管已經(jīng)描述了目前被認(rèn)為是本發(fā)明優(yōu)選的實(shí)施方案，本領(lǐng)域 技術(shù)人員應(yīng)該理解，可進(jìn)行其它和進(jìn)一步的實(shí)施方案而不背離本發(fā)明的精 神，并且預(yù)期進(jìn)行的所有這些進(jìn)一步修改和變化包括在本申請列出的權(quán)利 要求的真實(shí)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1. 一種組合物，其包含(i)基于硅氧烷的涂布組分，所述基于硅氧烷的涂布組分在形成霧的條件下易于成霧；以及(ii)防霧量的支化聚硅氧烷組分，所述支化聚硅氧烷組分是在硅氫化條件下對下述的組分混合物進(jìn)行共聚而形成的，所述組分混合物包含(a)一種或多種有機(jī)硅化合物，所述有機(jī)硅化合物在每分子中含有至少兩個不飽和烴官能團(tuán)，所述不飽和烴官能團(tuán)能夠在硅氫化條件下與含硅氫基的化合物進(jìn)行硅氫化反應(yīng)；以及(b)一種或多種含硅氫基的化合物，所述化合物在每分子中含有至少兩個硅氫基官能團(tuán)；條件是(i)組分(a)或(b)中的至少一種在每分子中含有至少三個官能團(tuán)；(ii)當(dāng)組分(a)或(b)中的一種組分在每分子中含有較多數(shù)目的官能團(tuán)，以及組分(a)或(b)中的另一種組分在每分子中含有較少數(shù)目的官能團(tuán)時，則組分(a)或(b)中在每分子中含有較多數(shù)目官能團(tuán)的組分的摩爾量等于或低于組分(a)或(b)中在每分子中含有較少數(shù)目官能團(tuán)的另一種組分的摩爾量；以及(iii)所述組分混合物中不包括不飽和烴化合物。
2. 權(quán)利要求1的組合物，其中組分(a)中的不飽和烴官能團(tuán)與組分(b) 中的硅氫基官能團(tuán)的摩爾比在式(6-s):l或l:(l+t)的范圍內(nèi)，其中s表示等于 或大于0并且小于5的數(shù)，以及t表示大于0并且等于或小于5的數(shù)。
3. 權(quán)利要求1的組合物，其中組分(a)中的不飽和烴官能團(tuán)與組分(b) 中的硅氫基官能團(tuán)的摩爾比在式(4.6-s):l或l:(l+s)的范圍內(nèi)，其中s表示大 于0并且小于3.6的數(shù)。
4. 權(quán)利要求1的組合物，其中組分(a)中的不飽和烴官能團(tuán)與組分(b) 中的硅氫基官能團(tuán)的摩爾比在式(4.25-s):l或l:(l+t)的范圍內(nèi)，其中s表示等 于或大于0并且小于3.25的數(shù)，以及t表示大于0并且等于或小于3.25的 數(shù)。
5. 權(quán)利要求1的組合物，其中組分(a)中的不飽和烴官能團(tuán)與組分(b) 中的硅氫基官能團(tuán)的摩爾比在式(4.6-s):l的范圍內(nèi)，其中s表示大于O并且 小于3.6的數(shù)。
6. 權(quán)利要求1的組合物，其中組分(a)中的不飽和烴官能團(tuán)與組分(b) 中的硅氫基官能團(tuán)的摩爾比在約4.5:1至約2:1的范圍內(nèi)。
7. 權(quán)利要求1的組合物，其中組分(a)或(b)中的一種組分在每分子中含 有至少四個官能團(tuán)，組分(a)或(b)中的另 一種組分在每分子中含有兩個或三 個官能團(tuán)，且組分(a)或(b)中在每分子中具有至少四個官能團(tuán)的組分的摩爾 量低于組分(a)或(b)中在每分子中具有兩個或三個官能團(tuán)的另 一種組分的摩 爾量。
8. 權(quán)利要求1的組合物，其中組分(a)或(b)中的一種組分在每分子中含 有至少六個官能團(tuán)，組分(a)或(b)中的另 一種組分在每分子中含有兩個或三 個官能團(tuán)，且組分(a)或(b)中在每分子中具有至少六個官能團(tuán)的組分的摩爾 量低于組分(a)或(b)中在每分子中具有兩個或三個官能團(tuán)的另一種組分的摩爾量。
9. 一種組合物，其包含(i) 基于硅氧烷的涂布組分，所述基于硅氧烷的涂布組分在形成霧的條 件下易于成霧；以及(ii) 防霧量的支化聚硅氧烷組分，所述支化聚硅氧烷組分是在硅氫化條 件下對下述的組分混合物進(jìn)行共聚而形成的，所述組分混合物包含(a) —種或多種有機(jī)硅化合物，所述有機(jī)硅化合物在每分子中含有 至少兩個不飽和烴官能團(tuán)，所述不飽和烴官能團(tuán)能夠在硅氫化條件下 與含硅氫基的化合物進(jìn)行硅氫化反應(yīng)；以及(b) —種或多種含硅氪基的化合物，所述化合物在每分子中含有至 少兩個硅氫基官能團(tuán)；條件是(i)組分(a)或(b)中的至少一種在每分子中含有至少三個官能團(tuán)； (ii)組分(a)或(b)中的一種組分在每分子中含有較多數(shù)目的官能團(tuán)，組分(a) 或(b)中的另一種組分在每分子中含有較少數(shù)目的官能團(tuán)，且組分(a)或(b)中 在每分子中含有較多數(shù)目官能團(tuán)的組分的摩爾量低于組分(a)或(b)中在每分 子中含有較少數(shù)目官能團(tuán)的另一種組分的摩爾量；以及(iii)所述組分混合 物中不包括不飽和烴化合物。
10. —種組合物，其包含(i)基于硅氧烷的涂布組分，所述基于硅氧烷的涂布組分在形成霧的條 件下易于成霧；以及(ii)防霧量的支化聚硅氧烷組分，所述支化聚硅氧烷組分是在硅氪化條 件下對下述的組分混合物進(jìn)行共聚而形成的，所述組分混合物包含(a) —種或多種有機(jī)硅化合物，所述有機(jī)硅化合物在每分子中含有 至少兩個不飽和烴官能團(tuán)，所述不飽和烴官能團(tuán)能夠在硅氫化條件下 與含硅氫基的化合物進(jìn)行硅氫化反應(yīng)；以及(b) —種或多種含硅氫基的化合物，所述化合物在每分子中含有至 少兩個硅氫基官能團(tuán)；條件是(i)組分(a)或(b)中的至少 一種在每分子中含有至少三個官能團(tuán)； (ii)組分(a)中的不飽和烴官能團(tuán)與組分(b)中的硅氫基官能團(tuán)的摩爾比在約 (6-s):l或約l:(l+t)的范圍內(nèi)，其中s表示等于或大于0并且小于5的數(shù)，以 及t表示大于0并且等于或小于5的數(shù)；(iii)組分(a)或(b)中的一種組分在 每分子中含有較多數(shù)目的官能團(tuán)，組分(a)或(b)中的另 一種組分在每分子中 含有較少數(shù)目的官能團(tuán)，且組分(a)或(b)中在每分子中含有較多數(shù)目官能團(tuán) 的組分的摩爾量低于組分(a)或(b)中在每分子中含有較少數(shù)目官能團(tuán)的另一 種組分的摩爾量；(iv)所述組分混合物中不包括不飽和烴化合物。
11. 一種組合物，其包含(i) 基于硅氧烷的涂布組分，所述基于硅氧烷的涂布組分在形成霧的條 件下易于成霧；以及(ii) 防霧量的支化聚硅氧烷組分，所述支化聚硅氧烷組分是在硅氫化條 件下對下述的組分混合物進(jìn)行共聚而形成的，所述組分混合物包含(a) —種或多種有機(jī)硅化合物，所述有機(jī)硅化合物在每分子中含有 至少兩個不飽和烴官能團(tuán)，所迷不飽和烴官能團(tuán)能夠在硅氫化條件下 與含硅氫基的化合物進(jìn)行石圭氫化反應(yīng)；以及(b) —種或多種含硅氫基的化合物，所述化合物在每分子中含有至 少兩個硅氫基官能團(tuán)；條件是(i)組分(a)或(b)中的至少一種在每分子中含有至少三個官能團(tuán)； (ii)組分(a)中的不飽和烴官能團(tuán)與組分(b)中的硅氫基官能團(tuán)的摩爾比在式 (4.6-s):l或l:(l+s)的范圍內(nèi)，其中s表示大于0并且小于3.6的數(shù)；(iii)組分 (a)或(b)中的一種組分在每分子中含有較多數(shù)目的官能團(tuán)，組分(a)或(b)中的 另一種組分在每分子中含有較少數(shù)目的官能團(tuán)，且組分(a)或(b)中在每分子 中含有較多數(shù)目官能團(tuán)的組分的摩爾量低于組分(a)或(b)中在每分子中含有較少數(shù)目官能團(tuán)的另一種組分的摩爾量；(iv)所述組分混合物中不包括不 飽和烴化合物。
12. —種組合物，其包含(i) 基于硅氧烷的涂布組分，所述基于硅氧烷的涂布組分在形成霧的條 件下易于成霧；以及(ii) 防霧量的支化聚硅氧烷組分，所述支化聚硅氧烷組分是在硅氫化條 件下對下述的組分混合物進(jìn)行共聚而形成的，所述組分混合物包含(a) —種或多種含有不飽和烴官能團(tuán)的有機(jī)硅化合物，所述不飽和 烴官能團(tuán)能夠在硅氬化條件下與含硅氫基的化合物進(jìn)行硅氫化反應(yīng)； 以及(b) —種或多種含硅氫基官能團(tuán)的化合物； 條件是(i)組分(a)或(b)中的 一種組分在每分子中含有至少四個官能團(tuán)，組分(a)或(b)中的另 一種組分在每分子中含有兩個或三個官能團(tuán)，且組分(a) 或(b)中在每分子中具有至少四個官能團(tuán)的組分的摩爾量低于組分(a)或(b)中 在每分子中具有兩個或三個官能團(tuán)的另 一種組分的摩爾量；(ii)組分(a)中的 不飽和烴官能團(tuán)與組分(b)中的硅氫基官能團(tuán)的摩爾比在約(6-s):l或約l:(l+t) 的范圍內(nèi)，其中s表示等于或大于0并且小于5的數(shù)，以及t表示大于O并 且等于或小于5的數(shù)；(iii)所述組分混合物中不包括不飽和烴化合物。
13. —種組合物，其包含(i) 基于硅氧烷的涂布組分，所述基于硅氧烷的涂布組分在形成霧的條 件下易于成霧；以及(ii) 防霧量的支化聚硅氧烷組分，所述支化聚硅氧烷組分是在硅氫化條 件下對下述的組分混合物進(jìn)行共聚而形成的，所述組分混合物包含(a) —種或多種含有不飽和烴官能團(tuán)的有機(jī)硅化合物，所述不飽和 烴官能團(tuán)能夠在硅氫化條件下與含硅氫基的化合物進(jìn)行硅氫化反應(yīng)； 以及(b) —種或多種含硅氫基官能團(tuán)的化合物；條件是(i)組分(a)或(b)中的 一種組分在每分子中含有至少六個官能團(tuán)， 組分(a)或(b)中的另 一種組分在每分子中含有兩個或三個官能團(tuán)，且組分(a) 或(b)中在每分子中具有至少六個官能團(tuán)的組分的摩爾量低于組分(a)或(b)中 在每分子中具有兩個或三個官能團(tuán)的另一種組分的摩爾量；(ii)組分(a)中的不飽和烴官能團(tuán)與組分(b)中的硅氫基官能團(tuán)的摩爾比在約(6-s):l或約l:(l+t) 的范圍內(nèi)，其中s表示等于或大于0并且小于5的數(shù)，以及t表示大于O并 且等于或小于5的數(shù)；(iii)所述組分混合物中不包括不飽和烴化合物。
14. 一種涂布方法，所述方法包括在形成霧的條件下將權(quán)利要求1 的組合物涂布至基底，當(dāng)經(jīng)受所述形成霧的條件時，所述組合物與缺少防 霧量的支化聚硅氧烷組分的相同組合物相比，顯示出降低的成霧。
15. —種涂布方法，所述方法包括在形成霧的條件下將權(quán)利要求2 的組合物涂布至基底，當(dāng)經(jīng)受所述形成霧的條件時，所述組合物與缺少防 霧量的支化聚硅氧烷組分的相同組合物相比，顯示出降低的成霧。
16. —種涂布方法，所述方法包括在形成霧的條件下將權(quán)利要求3 的組合物涂布至基底，當(dāng)經(jīng)受所述形成霧的條件時，所述組合物與缺少防 霧量的支化聚硅氧烷組分的相同組合物相比，顯示出降低的成霧。
17. —種涂布方法，所述方法包括在形成霧的條件下將權(quán)利要求4 的組合物涂布至基底，當(dāng)經(jīng)受所述形成霧的條件時，所述組合物與缺少防 霧量的支化聚硅氧烷組分的相同組合物相比，顯示出降低的成霧。
18. —種涂布方法，所述方法包括在形成霧的條件下將權(quán)利要求5 的組合物涂布至基底，當(dāng)經(jīng)受所述形成霧的條件時，所述組合物與缺少防 霧量的支化聚硅氧烷組分的相同組合物相比，顯示出降低的成霧。
19. 一種涂布方法，所述方法包括在形成霧的條件下將權(quán)利要求6 的組合物涂布至基底，當(dāng)經(jīng)受所述形成霧的條件時，所述組合物與缺少防 霧量的支化聚硅氧烷組分的相同組合物相比，顯示出降低的成霧。
20. —種涂布方法，所述方法包括在形成霧的條件下將權(quán)利要求7 的組合物涂布至基底，當(dāng)經(jīng)受所述形成霧的條件時，所述組合物與缺少防 霧量的支化聚硅氧烷組分的相同組合物相比，顯示出降低的成霧。
21. —種涂布方法，所述方法包括在形成霧的條件下將權(quán)利要求8 的組合物涂布至基底，當(dāng)經(jīng)受所述形成霧的條件時，所述組合物與缺少防 霧量的支化聚硅氧烷組分的相同組合物相比，顯示出降低的成霧。
22. —種涂布方法，所述方法包括在形成霧的條件下將權(quán)利要求9 的組合物涂布至基底，當(dāng)經(jīng)受所述形成霧的條件時，所述組合物與缺少防 霧量的支化聚硅氧烷組分的相同組合物相比，顯示出降低的成霧。
23. —種涂布方法，所述方法包括在形成霧的條件下將權(quán)利要求10的組合物涂布至基底，當(dāng)經(jīng)受所述形成霧的條件時，所述組合物與缺少防 霧量的支化聚硅氧烷組分的相同組合物相比，顯示出降低的成霧。
24. —種涂布方法，所述方法包括在形成霧的條件下將權(quán)利要求11 的組合物涂布至基底，當(dāng)經(jīng)受所述形成霧的條件時，所述組合物與缺少防 霧量的支化聚硅氧烷組分的相同組合物相比，顯示出降低的成霧。
25. —種涂布方法，所述方法包括在形成霧的條件下將權(quán)利要求12 的組合物涂布至基底，當(dāng)經(jīng)受所述形成霧的條件時，所述組合物與缺少防 霧量的支化聚硅氧烷組分的相同組合物相比，顯示出降低的成霧。
26. —種涂布方法，所述方法包括在形成霧的條件下將權(quán)利要求13 的組合物涂布至基底，當(dāng)經(jīng)受所述形成霧的條件時，所述組合物與缺少防 霧量的支化聚硅氧烷組分的相同組合物相比，顯示出降低的成霧。
27. —種硬化的基于硅氧烷的涂層或薄膜，所述硬化的基于硅氧烷的涂 層或薄膜是通過對用權(quán)利要求1的組合物涂布的基底進(jìn)行一次或多次固化 步驟而產(chǎn)生的。
28. —種硬化的基于硅氧烷的涂層或薄膜，所述硬化的基于硅氧烷的涂 層或薄膜是通過對用權(quán)利要求10的組合物涂布的基底進(jìn)行一次或多次固化 步驟而產(chǎn)生的。
全文摘要
本發(fā)明涉及涂料制劑，所述涂料制劑包含(i)基于硅氧烷的涂布組分，所述基于硅氧烷的涂布組分在形成霧的條件下易于成霧；以及(ii)防霧量的支化聚硅氧烷組分，所述支化聚硅氧烷組分是在硅氫化條件下對下述的組分混合物進(jìn)行共聚而形成的，所述組分混合物包含(a)一種或多種有機(jī)硅化合物，所述有機(jī)硅化合物在每分子中含有至少兩個不飽和烴官能團(tuán)，以及(b)一種或多種含硅氫基的化合物，所述化合物在每分子中含有至少兩個硅氫基官能團(tuán)，條件是(i)組分(a)或(b)中的至少一種在每分子中含有至少三個官能團(tuán)；(ii)組分(a)或(b)中在每分子中含有較多數(shù)目官能團(tuán)的組分的摩爾量等于或低于組分(a)或(b)中在每分子中含有較少數(shù)目官能團(tuán)的另一種組分的摩爾量，以及(iii)所述組分混合物中不包括不飽和烴化合物。本發(fā)明還涉及用上述涂料制劑涂布基底的方法，以及通過使所涂布的基底進(jìn)行一次或多次固化步驟獲得的硬化的基于硅氧烷的涂層或薄膜。
文檔編號C09D183/04GK101535428SQ200780041017
公開日2009年9月16日 申請日期2007年8月30日 優(yōu)先權(quán)日2006年9月1日
發(fā)明者戴維·S·施利策, 約翰·P·貝尼維西厄斯 申請人:莫門蒂夫性能材料股份有限公司