專利名稱：抗污防塵電子裝置的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種抗污防塵電子裝置技術(shù)，尤其涉及一種抗污防 塵電子裝置的制造方法。
背景技術(shù)：
電子產(chǎn)品已廣泛應(yīng)用于日常工作和生活中，各種電子產(chǎn)品隨著 使用時間的增加，其表面會附著灰塵及污垢，從而影響美觀。從微 觀的角度來看，污垢及灰塵之所以會附著在電子產(chǎn)品上，主要是因 為電子產(chǎn)品表面上具有許多大小不一的微小孔隙，而部分污標(biāo)及灰 塵微粒子的尺寸小于電子產(chǎn)品表面上微小孔隙的尺寸，從而造成污 垢及灰塵容易附著在電子產(chǎn)品表面的孔隙中而導(dǎo)致污染，因此如要 提高電子產(chǎn)品抗污防塵的能力，就必須有效的修補(bǔ)或填補(bǔ)電子產(chǎn)品 表面的孔隙。
中國臺灣專利公告第562790號揭露了一種納米級抗污防塵方 法，該抗污防塵方法將二氧化硅利用水解縮合反應(yīng)制成納米材料； 然后用異丙醇將該納米材料稀釋至適當(dāng)?shù)臐舛?；再將稀釋后的納米 材料噴涂在陶瓷產(chǎn)品的表面；噴涂后將陶瓷產(chǎn)品置于烘烤箱內(nèi)先以 每分鐘0 2"C的升溫速率加熱至150 20(TC，再恒溫烘烤20分鐘 至1小時；隨后以每分鐘0 1.7'C的降溫速率將烘箱內(nèi)的溫度降至 7(TC以下，然后將產(chǎn)品取出，從而在陶瓷產(chǎn)品表面形成一保護(hù)膜， 以達(dá)到抗污防塵并易于清洗的效果。然而該抗污防塵方法需要采用 高溫加熱的方法以形成保護(hù)膜，不僅增加能耗，而且容易因高溫影 響電子產(chǎn)品的性能。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是針對上述現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷提供一種降低能耗且不損害電子產(chǎn)品性能的抗污防塵電子裝置的制造方法。
為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明抗污防塵電子裝置的制造方法，包括
如下步驟
步驟一，將起始反應(yīng)物利用溶膠凝膠法制成納米金屬氧化物膠
體；
步驟二，將已制成納米金屬氧化物膠體稀釋為涂布漿料，并將
該涂布漿料靜置使其形成納米涂布液；
步驟三，將納米涂布液均勻涂布在電子裝置的表面上； 步驟四，使電子裝置涂布的納米涂布液在室溫下干燥形成一保護(hù)膜。
如上所述，本發(fā)明抗污防塵電子裝置的制造方法通過將納米涂 布液均勻涂布在電子裝置表面并在室溫下使納米涂布液干燥，從而 在電子裝置表面表面形成一納米材料的保護(hù)膜，進(jìn)而利用納米材料 的性質(zhì)達(dá)到抗污防塵的功效；并且該抗污防塵電子裝置的制造方法 中納米涂布液可在室溫下自然干燥并形成保護(hù)膜，從而可降低能 耗，而且不損害電子產(chǎn)品性能。
具體實(shí)施例方式
為詳細(xì)說明本發(fā)明的技術(shù)內(nèi)容、構(gòu)造特征、所達(dá)的成目的及效
果，下面將結(jié)合實(shí)施例予以詳細(xì)說明。
本發(fā)明抗污防塵電子裝置的制造方法包括如下步驟 步驟一，選擇適當(dāng)?shù)钠鹗挤磻?yīng)物利用溶膠凝膠法制備方法制備
納米金屬氧化物膠體，起始反應(yīng)物可為各種金屬烷氧化物，其分別
可制得到各種納米金屬氧化物；
步驟二，用醇類溶劑將已制成的納米金屬氧化物膠體稀釋為納
米金屬氧化物膠體重量百分比為30%的涂布漿料，并將該涂布漿料 靜置24小時，使涂布漿料穩(wěn)定成為一種納米涂布液；
步驟三，將納米涂布液以噴涂、浸泡或擦拭的方式均勻地涂布 在電子裝置的表面上，使納米涂布液有效地填補(bǔ)電子裝置表面的微
小孔隙并在電子裝置的表面形成一連續(xù)性的薄膜；
步驟四，將涂布有納米涂布液的電子裝置置于室溫下使納米涂布液自然干燥，從而在電子裝置表面形成一連續(xù)性的保護(hù)膜。 下面用一非限定性實(shí)施例來進(jìn)一步說明本發(fā)明 本實(shí)施例中使用的起始反應(yīng)物為硅烷化合物，用該硅烷化合物 以溶膠凝膠法制備得到納米二氧化硅膠體，然后用乙醇類溶劑將該 納米二氧化硅膠體稀釋為納米二氧化硅膠體的重量百分比為30% 的涂布漿料，并將該涂布漿料靜置24小時使其穩(wěn)定成為納米涂布 液；以擦拭方式將納米涂布液分別涂布在兩白色基板表面的一半面 積，該白色基板表面的另一半未涂布該納米涂布液，將其中一白色 基板置于105-C下，使納米涂布液千燥，從而在白色基板上形成一 厚度為17微米的保護(hù)膜，以制得第一樣品；將另一白色基板置于 室溫下使納米涂布液自然干燥，從而在該白色基板上形成一厚度為 17微米的保護(hù)膜，以制得第二樣品。
分別將500克的砝碼放置于第一樣品及第二樣品上，將第一樣 品及第二樣品涂布有納米涂布液的表面接觸充滿灰塵及污垢的地 面，并來回拖動二十次。第一樣品經(jīng)拖動后，該白色基板表面涂布 有納米涂布液一側(cè)幾乎沒有灰塵及污垢粘附；而未涂布奈米涂布液 一側(cè)粘附有大量的灰塵及污垢。第二樣品經(jīng)拖動后，該白色基板表 面涂布有納米涂布液一側(cè)幾乎沒有灰塵及污垢粘附；而未涂布納米 涂布液一側(cè)粘附有大量的灰塵及污垢。經(jīng)驗(yàn)證得知，室溫下干燥形 成的保護(hù)膜與加熱干燥形成的保護(hù)膜的抗污防塵功能相當(dāng)。
如上所述，本發(fā)明抗污防塵電子裝置的制造方法通過將納米涂 布液均勻涂布在電子裝置表面并在室溫下使奈米涂布液干燥，在電 子裝置表面表面形成一納米材料的保護(hù)膜，從而利用納米材料的性 質(zhì)達(dá)到抗污防塵的功效；并且該方法中納米涂布液可在較低溫度下 干燥并形成保護(hù)膜，從而降低能耗，而且不損害電子產(chǎn)品性能。
綜上所述，本發(fā)明抗污防塵電子裝置的制造方法由上述揭露的 方法，可以達(dá)到所述的效果，且本發(fā)明符合申請專利的條件，故依 法提出申請。以上所揭露僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例，自不能以此限 定本發(fā)明的權(quán)利范圍。其它任何根據(jù)本發(fā)明的構(gòu)思所做的等效的修 飾或變化，均應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的權(quán)利要求范圍中。
權(quán)利要求
1. 一種抗污防塵電子裝置的制造方法，其特征是包括如下步驟步驟一，將起始反應(yīng)物利用溶膠凝膠法制成納米金屬氧化物膠體；步驟二，將已制成納米金屬氧化物膠體稀釋為涂布漿料，并將該涂布漿料靜置使其形成納米涂布液；步驟三，將納米涂布液均勻涂布在電子裝置的表面上；步驟四，使電子裝置所涂布的納米涂布液在室溫下干燥形成一保護(hù)膜。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗污防塵電子裝置的制造方法，其特 征是所述步驟二中所用溶劑為醇類溶劑，稀釋后涂布漿料中納米 金屬氧化物膠體的重量百分比為30%。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的抗污防塵電子裝置的制造方法，其特 征是所述步驟二中涂布漿料靜置時間為24小時以上。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗污防塵電子裝置的制造方法，其特 征是所述步驟三中涂布方式為擦拭、噴涂或浸泡。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗污防塵電子裝置的制造方法，其特 征是所述步驟一中的起始反應(yīng)物為金屬烷氧化物。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種抗污防塵電子裝置的制造方法，其步驟如下首先，將起始反應(yīng)物利用溶膠凝膠法制成納米金屬氧化物膠體；其次，將納米金屬氧化物膠體稀釋為涂布漿料，并將該涂布漿料靜置使其形成納米涂布液；再次，將納米涂布液均勻涂布在電子裝置的表面上；最后，使電子裝置上的納米涂布液在室溫下自然干燥并在電子裝置表面形成一納米保護(hù)膜。本發(fā)明抗污防塵電子裝置的制造方法在較低溫度下干燥并形成保護(hù)膜，可降低能耗，而且不損害電子產(chǎn)品性能。
文檔編號B05D7/24GK101497072SQ20081002627
公開日2009年8月5日 申請日期2008年2月1日 優(yōu)先權(quán)日2008年2月1日
發(fā)明者黃志豪 申請人:富港電子(東莞)有限公司;正崴精密工業(yè)股份有限公司