專利名稱：一種凡立水含浸裝置與含浸方法
一種凡立水含浸裝置與含浸方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及凡立水含浸裝置，特別是指一種透過腔體真空除氣方式，達(dá)成自動注
液、真空回填，自動回流的高效能凡立水含浸裝置。背景技術(shù)：
現(xiàn)有所知，凡立水的含浸作業(yè)，是一般的電子業(yè)以保護(hù)線路和零件用(特別是馬 達(dá)線圈、變壓器等)的，當(dāng)然也有運用于印刷業(yè)、還有一些包括木制品、藤制品以及鋼鐵構(gòu) 造物等的亮光漆等，可以提供接著、密封、固定、保護(hù)還有美觀、防潮、絕緣等等功能，而提供 凡立水含浸作業(yè)的裝置，在專利公報上已有多種，本發(fā)明提供另一凡立水含浸裝置，能有效 達(dá)成全自動控制、自動注液、真空充填、自動回流的高效能及高安全性作業(yè)裝置。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明一種凡立水含浸裝置，其包括 儲液容器，是可供凡立水容裝儲放的半密閉槽體，其具有設(shè)于槽體上方的蓋板以 及設(shè)于槽體下方的注液孔，作為供凡立水輸出與回流的槽體孔位； 真空腔體，是可抽真空、可開啟、可密閉的腔體，在其上方有可開啟的蓋板，同樣于 其下方設(shè)有一注液孔，通過閥體/管路與真空泵浦及儲液容器連通，可適時將儲液容器內(nèi) 的凡立水抽吸進(jìn)入腔體內(nèi)，而能供放置于腔體內(nèi)的待加工物進(jìn)行含浸作業(yè)者；
真空泵浦，是提供將該真空腔體抽取成真空狀態(tài)的動力來源； 根據(jù)以上所述，首先利用該真空泵浦運作而將該真空腔體抽成真空狀態(tài)，接著關(guān) 閉該真空泵浦與該真空腔體間的通路，隨后打開該儲液容器與該真空腔體的注液孔，使凡 立水由儲液容器進(jìn)入真空腔體內(nèi)至適當(dāng)高度后，即可進(jìn)行含浸作業(yè)。
與現(xiàn)有技術(shù)對比，本發(fā)明具有以下優(yōu)點 根據(jù)以上所述本發(fā)明種凡立水含浸裝置，提供使含浸加工作業(yè)可以經(jīng)由控制系統(tǒng) 掌握，使含浸液體 一 凡立水可以自動充填，負(fù)壓注液、自動回流，使含浸加工作業(yè)更為快 速、安全且節(jié)能，杜絕于加工時不小心碰觸或是吸進(jìn)有毒物，而且真空含浸后的加工物填滿 確實、絕緣層，加工效果更為顯著，且質(zhì)量較為平均穩(wěn)定，本發(fā)明裝置提供有高質(zhì)量效能以 及高安全度者。


圖1是本發(fā)明的實施例的平面示意圖；
圖2是圖1相關(guān)電路零件配置圖。
具體實施方式

請參閱圖1與圖2所示，本發(fā)明一種凡立水含浸裝置，其包括儲液容器1、真空腔 體3以及真空泵浦5;其中
該儲液容器1是具適當(dāng)大小的槽體，其上端蓋板11可開啟用來填充注入液，當(dāng)蓋 上其蓋板11后可成為半密閉狀；另，于槽體的下方一側(cè)設(shè)有注液孔12，作為供凡立水輸送 進(jìn)出該真空腔體3內(nèi)的孔口 ，而注液孔13是設(shè)于槽體下方另一側(cè)，其通過閘閥14控制其 啟、閉，而作為容器排液清潔之用；在該儲液容器1的外側(cè)設(shè)有與槽體內(nèi)部連通的液位檢視 管15，利用該液位檢視管15視得的液面高度，提供方便檢視的功效； 該真空腔體3是可啟閉的密閉腔體，蓋上其蓋板31后，當(dāng)該真空泵浦5運作，經(jīng)由 除氣孔33即可將真空腔體3內(nèi)部抽取成真空狀態(tài)，而真空閥52則是為提供泄除容器內(nèi)真 空負(fù)壓的用途；另，該真空腔體3同樣于其下方設(shè)有一注液孔32，通過管路連接而與該儲液 容器1的注液孔12相通，于管路中并加設(shè)有一真空閥54，用以控制該真空腔體3以及該儲 液容器1 二者間是否連通；而， 一真空計53接設(shè)于真空腔體3上緣，用以設(shè)定并控制真空腔 體3內(nèi)真空度的作用； 該真空泵浦5通過管路連接該真空腔體3，管路中另加設(shè)有二真空閥51、52 ;
本發(fā)明一種凡立水含浸裝置的含浸方法，其操作步驟如下 步驟1 :關(guān)閉該真空閥54，在該真空腔體3內(nèi)部完全凈空的狀態(tài)之下，將欲進(jìn)行含 浸加工的待加工對象20置入于腔體內(nèi)，蓋上其蓋板31后使真空腔體3變成完全密封的容 器； 步驟2 :打開將儲液容器1的蓋板11，補(bǔ)充充填液體至80%，并經(jīng)由液位檢視管 15，確認(rèn)注入液位； 步驟3 :將二真空閥51打開52關(guān)閉，并啟動該真空泵浦5運作，而進(jìn)行將該真空 腔體3抽成真空狀態(tài)的動作者； 步驟4 :透過該真空計53控制該真空腔體3內(nèi)真空度，待到達(dá)一定設(shè)定值后，再關(guān) 閉該真空閥51，并令該真空泵浦5停止運轉(zhuǎn)； 步驟5 :接著，依序打開該真空閥54，亦即打開該真空腔體3與該儲液容器1間的 通路，使于該儲液容器1內(nèi)含浸用的液體一 凡立水因真空腔體3內(nèi)部負(fù)壓的狀態(tài)，可以由 該注液孔12通過該真空閥54后由另一注液孔32進(jìn)入該真空腔體3內(nèi)，進(jìn)行對該真空腔體 3的注液作業(yè)； 步驟6 :在一邊進(jìn)行注液作業(yè)的同時，置放于該真空腔體3內(nèi)的待加工物20亦同 時進(jìn)行了含浸動作，此時，亦因為有該真空計53及液位計34對該真空腔體3內(nèi)真空度的控 制作用，一旦注液高度達(dá)到，既立刻關(guān)閉真空閥54停止液體進(jìn)入真空腔體3，進(jìn)入持壓含浸 歷時； 步驟7 :最后，待持壓含浸動作完成后，打開該真空閥52泄壓，以及真空閥54，使得 真空腔體3內(nèi)的液體因位差關(guān)系，回流儲液容器1，并將真空腔體3的蓋板31打開，將加工 物20取出，即可再接續(xù)進(jìn)行下一次的含浸作業(yè)。 以上所述僅為本發(fā)明的較佳實施例，發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何基于發(fā) 明技術(shù)方案上的等效變換均屬于發(fā)明保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
一種凡立水含浸裝置，其包括儲液容器，是可供凡立水容裝儲放的半密閉槽體，其具有設(shè)于槽體上方的蓋板，以及設(shè)于槽體下方的注液孔，作為供凡立水輸入與輸出槽體的孔口；真空腔體，是可抽真空、密閉的腔體，在其上方有一可開啟的蓋板，同樣于其下方設(shè)有一注液孔，通過管路連接而與該儲液容器的另一注液孔相通，可適時將儲液容器內(nèi)的凡立水，因真空負(fù)壓作用抽吸進(jìn)入腔體內(nèi)，而能供放置于容器內(nèi)的待加工物進(jìn)行含浸作業(yè)者；真空泵浦，是提供將該真空腔體抽取成真空狀態(tài)的動力來源；根據(jù)以上所述，首先利用該真空泵浦運作而將該真空腔體抽成真空狀態(tài)，接著打開該儲液容器與該真空腔體的注液孔，使凡立水由儲液容器進(jìn)入真空腔體內(nèi)至適當(dāng)液位后，即可進(jìn)行含浸作業(yè)。
2. 如權(quán)利要求1所述的一種凡立水含浸裝置，其特征在于，所述儲液容器另具有一注 液孔，是設(shè)于槽體的下方、位于該注液孔設(shè)置處的另一側(cè)，設(shè)有排液孔提供作為更換凡立水 的排出管道。
3. 如權(quán)利要求1所述的一種凡立水含浸裝置，其特征在于，所述儲液容器的外側(cè)設(shè)有 與槽體內(nèi)部連通、而可檢視槽體內(nèi)液面高度的液位檢視管。
4. 如權(quán)利要求1所述的一種凡立水含浸裝置，其特征在于，所述真空腔體的注液孔與 該儲液容器的注液孔之間，設(shè)有閘閥控制二者的連通狀態(tài)。
5. 如權(quán)利要求1所述的一種凡立水含浸裝置，其特征在于，所述真空腔體于上方設(shè)有 一泄壓真空閥。
6. 如權(quán)利要求1所述的一種凡立水含浸裝置，其特征在于，所述真空腔體于上方設(shè)有 除氣孔。
7. 如權(quán)利要求1所述的一種凡立水含浸裝置，其特征在于，所述真空腔體與該真空泵 浦之間設(shè)有多個真空閥。
8. 如權(quán)利要求1所述的一種凡立水含浸裝置，其特征在于，所述真空腔體另加設(shè)有真 空計，以控制腔體內(nèi)真空度。
9. 一種采用如權(quán)利要求1-8中任意一項的凡立水含浸裝置的凡立水含浸方法，其操作 步驟如下步驟1 :關(guān)閉該真空閥，在該真空腔體內(nèi)部完全凈空的狀態(tài)之下，將欲進(jìn)行含浸加工的 待加工對象置入于腔體內(nèi)，蓋上其蓋板后使真空腔體變成完全密封的容器；步驟2 :打開將儲液容器的蓋板，補(bǔ)充充填液體至80%，并經(jīng)由液位檢視管，確認(rèn)注入 液位；步驟3 :將二真空閥打開關(guān)閉，并啟動該真空泵浦運作，而進(jìn)行將該真空腔體抽成真空 狀態(tài)的動作者；步驟4:透過該真空計控制該真空腔體內(nèi)真空度，待到達(dá)一定設(shè)定值后，再關(guān)閉該真空閥，并令該真空泵浦停止運轉(zhuǎn)；步驟5:接著，依序打開該真空閥，亦即打開該真空腔體與該儲液容器間的通路，使于 該儲液容器內(nèi)含浸用的液體一 凡立水因真空腔體內(nèi)部負(fù)壓的狀態(tài)，可以由該注液孔通過 該真空閥后由另一注液孔進(jìn)入該真空腔體內(nèi)，進(jìn)行對該真空腔體的注液作業(yè)；步驟6:在一邊進(jìn)行注液作業(yè)的同時，置放于該真空腔體內(nèi)的待加工物亦同時進(jìn)行了含浸動作，此時，亦因為有該真空計及液位計對該真空腔體內(nèi)真空度的控制作用，一旦注液 高度達(dá)到，既立刻關(guān)閉真空閥停止液體進(jìn)入真空腔體，進(jìn)入持壓含浸歷時；步驟7 :最后，待持壓含浸動作完成后，打開該真空閥泄壓，以及真空閥，使得真空腔體 內(nèi)的液體因位差關(guān)系，回流儲液容器，并將真空腔體蓋板打開，將加工物取出，即可再接續(xù) 進(jìn)行下一次的含浸作業(yè)。
10. 如權(quán)利要求9所述的一種凡立水含浸方法，其特征在于，所述步驟五中該儲液容器 內(nèi)含浸用的液體一凡立水可以由該注液孔通過該真空閥后，由另一注液孔進(jìn)入該真空腔體 內(nèi)。
11. 如權(quán)利要求9所述的一種凡立水含浸方法，其特征在于，所述真空計及液位計能對 該真空腔體內(nèi)真空度進(jìn)行控管，一旦注液高度達(dá)到、持壓時間結(jié)束，則注入于該真空腔體內(nèi) 液體會因位差而自動回流回該儲液容器。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種凡立水含浸裝置，其包括儲液容器、真空腔體以及真空泵浦，該真空泵浦連接該真空腔體，并裝設(shè)有一真空計以隨時監(jiān)控該真空腔體內(nèi)真空度，該儲液容器與真空腔體間，透過真空閥經(jīng)由管路相連，而在該真空泵浦連接該真空腔體以及該儲液容器之間，透過電控程控連通管路閥體的開啟與關(guān)閉，以確保其作動程序無誤，操作時當(dāng)腔體密閉，真空泵浦起動達(dá)到設(shè)定真空壓力時，對應(yīng)的相關(guān)真空閥啟閉，儲液容器中的含浸液體，會因真空負(fù)壓的物理現(xiàn)象，自動注入于真空腔體之中，流入液位高度并受液位計的控管而適時停止，待持壓達(dá)到設(shè)定時間時，開啟相關(guān)真空閥，腔體內(nèi)壓力回復(fù)一般大氣壓力后，因位差的關(guān)系，液體自動回流儲液容器；如此的裝置能有效達(dá)成自動注液充填、自動液體回流、加工物高質(zhì)量的孔隙含浸效能。
文檔編號B05D1/18GK101745487SQ20081018427
公開日2010年6月23日 申請日期2008年12月9日 優(yōu)先權(quán)日2008年12月9日
發(fā)明者趙彥智 申請人:寶元數(shù)控精密股份有限公司