專利名稱：涂敷裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及在基板上涂敷涂敷液的涂敷裝置。
背景技術(shù)：
在液晶顯示器和等離子顯示器等的平面顯示器中，使用在玻璃基板上 涂敷抗蝕劑液的顯示器(稱涂敷基板)。該涂敷基板通過均勻地涂敷抗蝕 劑液的涂敷裝置而形成。
該涂敷裝置具有載置基板的載物臺和噴出抗蝕劑液的涂敷組件，通過 在從涂敷組件噴出涂敷液的同時(shí)移動涂敷組件，而在基板上形成均勻厚度 的抗蝕劑液膜。
在上述涂敷裝置中，作為將基板保持在載物臺上的單元，較普遍的是， 在載物臺形成有吸引孔，在該吸引孔產(chǎn)生吸引力，從而將基板吸附保持于 載物臺上(參照例如專利文獻(xiàn)l)。具體的是，通過配管連接吸引孔和吸引 力產(chǎn)生裝置，使該吸引力產(chǎn)生裝置動作，從而通過配管在吸引孔產(chǎn)生吸引 力。即，當(dāng)吸引力產(chǎn)生裝置動作時(shí)，配管內(nèi)的大氣被排氣，而配管內(nèi)成為 由吸引力產(chǎn)生裝置設(shè)定的設(shè)定壓力(比大氣壓小的壓力)，在吸引孔產(chǎn)生 與該設(shè)定壓力對應(yīng)的吸引力。如此，能夠使基板吸附保持在載物臺上。
專利文獻(xiàn)1日本特開2006-281091號公報(bào)。
在上述涂敷裝置中，為了吸附保持基板需要較長時(shí)間，存在涂敷裝置 整體的生產(chǎn)周期變長的問題。即，在吸引口產(chǎn)生吸引力所需時(shí)間依賴于吸 引力產(chǎn)生裝置的排氣速度，因此，為將基板迅速地吸附于載物臺上，必須 以高速進(jìn)行排氣。
但是，吸引力產(chǎn)生裝置通常設(shè)置在設(shè)有涂敷裝置工廠，還連接有需要 吸引力產(chǎn)生裝置的其他裝置，因此，當(dāng)為了提高排氣速度而變更吸引力產(chǎn) 生裝置的設(shè)定壓力時(shí)，有對其他裝置帶來影響之虞。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于上述問題點(diǎn)而作出的，其目的在于提供一種涂敷裝置， 其能夠在不變更吸引力產(chǎn)生裝置的設(shè)定壓力的情況下，通過迅速產(chǎn)生吸附 基板的吸引力而縮短吸附時(shí)間，從而提高作為涂敷裝置整體的生產(chǎn)周期。
為解決上述課題，本發(fā)明的涂敷裝置具備載物臺，其載置基板；基
板保持機(jī)構(gòu)，其在形成于所述載物臺的表面的吸引孔產(chǎn)生吸引力而將基板
吸附保持于載物臺的表面；涂敷組件，其相對于保持在載物臺表面的基板 相對地移動的同時(shí)噴出涂敷液，所述涂敷裝置的特征在于，所述基板保持 機(jī)構(gòu)的吸引孔通過配管與產(chǎn)生吸引力的吸引力產(chǎn)生裝置連通連接，所述配 管具備能夠利用主閥開閉的主配管和能夠利用副閥開閉的副配管，在所述 副配管設(shè)有具備儲存部的儲存箱，所述儲存部在比所述副閥靠吸引力產(chǎn)生 裝置側(cè)具有規(guī)定容量，該儲存部具有比一定區(qū)間的副配管的容量大的容
根據(jù)上述涂敷裝置，由于設(shè)置有具有比一定區(qū)間的副配管的容量大的 所述儲存部的儲存箱，因此，能夠使載物臺的吸引孔產(chǎn)生吸引力而迅速吸 附基板。具體而言，通過使吸引力產(chǎn)生裝置在主閥和副閥處于關(guān)閉的狀態(tài) 進(jìn)行動作，而使儲存箱的儲存部維持于在吸引力產(chǎn)生裝置設(shè)定的設(shè)定壓力 (比大氣壓低的壓力)。并且，通過使主閥和副閥在基板載置于載物臺的 表面的狀態(tài)下設(shè)定打開狀態(tài)，而將保持在所述設(shè)定壓力的儲存箱的儲存部 瞬間開放，從而將從副閥至吸引孔的配管內(nèi)的大氣瞬間吸入儲存部。由此， 能夠在吸引孔迅速地產(chǎn)生吸引力。從而，僅使副閥進(jìn)行動作即可在吸引孔 迅速地產(chǎn)生吸引力，因此，能夠在不變更吸引力產(chǎn)生裝置的設(shè)定壓力的情 況下，縮短吸附基板的吸附時(shí)間，進(jìn)而能夠提高作為涂敷裝置整體的生產(chǎn) 周期。
另外，所述儲存部的容量可以比從所述副閥至所述吸引孔的配管的容 量的總和大。
根據(jù)該結(jié)構(gòu)，通過設(shè)置儲存箱的儲存部，存在于從副閥至吸引孔的配 管內(nèi)的大氣全部吸入儲存部，因此，能夠可靠產(chǎn)生吸引孔的吸引力。
另外，可以在所述副配管設(shè)置有輔助配管，該輔助配管繞過所述儲存 箱而與吸引側(cè)副配管和閥側(cè)副配管相連通地連接，其中，所述吸引側(cè)副配
5管在吸引力產(chǎn)生裝置側(cè)連接于所述儲存箱，所述閥側(cè)副配管在副閥側(cè)連接 于所述儲存箱。
根據(jù)該結(jié)構(gòu)，通過瞬間開放保持在設(shè)定壓力的儲存箱的儲存部，而將 配置在儲存箱兩側(cè)的閥側(cè)副配管內(nèi)及吸引側(cè)副配管內(nèi)的大氣瞬間吸入儲 存箱內(nèi)。隨之，與吸引側(cè)副配管連通的輔助配管內(nèi)的大氣也通過吸引側(cè)副 配管吸入儲存箱內(nèi)，由此，閥側(cè)副配管內(nèi)的大氣進(jìn)而通過輔助配管吸入儲 存箱內(nèi)。S卩，通過設(shè)置該輔助配管，與沒有設(shè)置輔助配管的情況相比，闊 側(cè)副配管內(nèi)的大氣吸入儲存箱的流量變大，因此，從閥側(cè)副配管至吸引孔 的配管內(nèi)的大氣瞬間吸入儲存部。由此，能夠更加迅速地產(chǎn)生吸引孔的吸 引力。
另外，可以具備對所述主閥及副閥的開閉動作進(jìn)行控制的控制裝置， 該控制裝置使主閥及副閥處于關(guān)閉狀態(tài)下使吸引力產(chǎn)生裝置進(jìn)行動作，由 此使所述儲存箱的儲存部維持在比大氣壓小的壓力，在基板載置于載物臺 的表面之后，使主閥和副閥處于打開狀態(tài)，由此將基板吸附在載物臺表面。
另外，具備對所述主閥及副閥的開閉動作進(jìn)行控制的控制裝置，該控 制裝置將主閥及副閥維持在關(guān)閉狀態(tài)，當(dāng)在載物臺表面載置有基板時(shí)，通 過使主閥和副閥處于打開狀態(tài)而將基板吸附在載物臺表面，然后，當(dāng)吸引 孔的壓力達(dá)到規(guī)定的壓力的情況下，使副閥處于關(guān)閉狀態(tài)來維持基板保持 在載物臺表面上的狀態(tài)。
根據(jù)該結(jié)構(gòu)，通過使主閥及副闊從關(guān)閉狀態(tài)到打開狀態(tài)，而將基板迅 速地吸附在載物臺的表面時(shí)，有在吸引孔產(chǎn)生必要以上的大的吸引力的情 況。并且，在以必要以上的吸引力持續(xù)吸附基板的情況下進(jìn)行涂敷時(shí)，有 在與吸引孔相當(dāng)?shù)幕宀糠之a(chǎn)生涂敷不均勻之虞。從而，當(dāng)吸引孔的壓力 達(dá)到規(guī)定壓力的情況下，使副閥處于閉狀態(tài)，僅用主配管進(jìn)行吸附，由此， 能夠抑制在吸引孔產(chǎn)生必要以上的大的吸引力，從而能夠抑制在與吸引孔 相當(dāng)?shù)幕宀糠之a(chǎn)生涂敷不均勻。
發(fā)明效果
根據(jù)本發(fā)明，能夠在不變更吸引力產(chǎn)生裝置的設(shè)定壓力的情況下，通 過迅速產(chǎn)生吸附基板的吸引力而縮短吸附時(shí)間，從而提高作為涂敷裝置整 體的生產(chǎn)周期。


圖1是表示本發(fā)明實(shí)施方式的涂敷裝置的立體圖。
圖2是表示涂敷組件的腳部附近的概略圖。 圖3是表示上述涂敷裝置的配管系統(tǒng)的概略圖。 圖4是表示上述涂敷裝置的控制系統(tǒng)的方框圖。 圖5是表示上述涂敷裝置的動作的流程圖。 圖6是表示儲存箱附近的配管內(nèi)的大氣流動的參考圖。 圖中10-基板，21-載物臺，21a-吸引孔，40-基板保持機(jī)構(gòu)，50-配管， 51-主配管，51a-主閥，52-副配管，52a-副閥，52b-閥側(cè)副配管，52c-吸引 側(cè)副配管，53-壓力計(jì)，54-儲存箱，54a-儲存部，55-輔助配管。
具體實(shí)施例方式
結(jié)合

本發(fā)明的實(shí)施方式。
圖1是概略地表示本發(fā)明一實(shí)施方式的涂敷裝置的立體圖，圖2是表 示涂敷組件腳部附近的圖，圖3是表示涂敷裝置的配管系統(tǒng)的圖。
如圖1 圖3所示，涂敷裝置是在基板10上形成藥液和抗蝕劑液等液 狀物(以下稱涂敷液)的涂敷膜的裝置，具備基板2、用于載置基板IO 的載物臺21和構(gòu)成為能夠相對于該載物臺21向確定方向移動的涂敷組件 30。
此外，在以下說明中，以將涂敷組件30移動的方向作為X軸方向、 與之在水平面上正交的方向作為Y軸方向、與X軸及Y軸方向雙方正交 的方向作為Z軸方向進(jìn)行說明。
在所述基座2的中央部分配置有載物臺21。該載物臺21載置有送入 的基板IO。在該載物臺21上設(shè)有基板保持機(jī)構(gòu)40，利用該基板保持機(jī)構(gòu) 40保持基板10。具體而言，形成有在載物臺21的表面形成的多個吸引孔 21a，通過在該吸引孔21a產(chǎn)生吸引力能夠?qū)⒒?0吸附保持在載物臺21 的表面。
艮口，如圖3所示，與其他裝置共用使用的與已經(jīng)設(shè)置的真空泵81 (吸 引力產(chǎn)生裝置)相連的配管50與多個吸引孔21a相連通地連接，當(dāng)真空 泵81動作時(shí)，配管50內(nèi)成為低壓(比大氣壓小的壓力)，由此能夠在吸
7引孔21a產(chǎn)生吸引力而將基板10保持在載物臺21上。
在所述配管50設(shè)置有主配管51和副配管52，這些主配管51及副配 管52與吸引孔21a相連通地連接。即，在圖3所示的例子中，與真空泵 81連接的配管50與主配管51及副配管52連接，這些主配管51及副配管 52通過配管50與吸引孔21a連接。具體而言，主配管51及副配管52通 過配管50a、配管50b和配管50c與吸引孔21a連接，所述配管50a連接 所述主配管51及副配管52，所述配管50b從該配管50a分支連接，所述 配管50c從該配管50b分支連接。
主配管51形成為圓筒形狀，整個長度方向具有大致相同的內(nèi)徑。并 且，在主配管51上設(shè)置有主閥51a和調(diào)節(jié)器51b。通過開閉該主閥51a能 夠使真空泵81與吸引孔21a連通或隔斷。另外，調(diào)節(jié)器51b是將主配管 51設(shè)定為規(guī)定壓力的器件，在本實(shí)施方式中，由調(diào)節(jié)器51b設(shè)定的壓力設(shè) 定為保持基板10的合適的保持壓力(比大氣壓低的壓力)，即進(jìn)行涂敷 時(shí)在與吸引孔21a對應(yīng)的基板10部分不會有產(chǎn)生涂敷不均勻之虞的壓力。
從而，通過使真空泵81在關(guān)閉副閥52a、完全打開主閥51a的狀態(tài)下 動作，使得主配管51內(nèi)控制為保持壓力，在吸引孔21a產(chǎn)生與保持壓力 對應(yīng)的吸引力，保持在載物臺21表面載置的基板10不會偏移。
副配管52形成為圓筒形狀，整個長度方向具有大致相同的內(nèi)徑D并 且，在副配管52上設(shè)置有副閥52a和儲存箱54。該副閥52a與主閥51a 相同，通過開閉該副閥52a，能夠通過副配管52連通或隔斷真空泵81和 吸引孔21a。
另外，儲存箱54用于在吸引孔21a迅速地產(chǎn)生吸引力，其配置在比 副閥52a靠真空泵81側(cè)。該儲存箱54具備具有規(guī)定容量的儲存部54a。 在本實(shí)施方式中，該儲存部54a形成為比副配管52的內(nèi)徑大的直徑，并 且形成沿與徑向正交的方向延伸的圓筒形狀。由此，儲存部54a在一定區(qū) 間中具有比副配管52的容量大的容量。
此外，本發(fā)明的一定區(qū)間是指以由真空泵81 (吸引力產(chǎn)生裝置)動作 而使大氣流動的方向(稱流動方向)為基準(zhǔn)的規(guī)定長度(區(qū)間)。即，一 定區(qū)間的容量大是指在流動方向的區(qū)間(例如500mm的區(qū)間)的容量大。 在本實(shí)施方式中，副配管52和儲存箱54的儲存部54a具有圓筒形狀，與副配管52的內(nèi)徑相比，儲存部54a直徑大，因此， 一定區(qū)間的容量在儲 存部54a變大。并且，在本實(shí)施方式中，儲存部54a的容量比從副閥52a 至吸引孔21a的配管50的容量的總和大。g卩，儲存部54a的容量比從副 閥52a至吸引孔21a的配管50 (配管50a、配管50b、配管50c)的容量的 總和大。
另外，儲存部54a配置為副配管52延伸的方向與儲存部54a延伸的 方向相通，在儲存部54a的一側(cè)端部連結(jié)有副配管52 (閥側(cè)副配管52b)， 在儲存部54a的長度方向的另一端部連結(jié)有副配管52 (吸引側(cè)副配管 52c)。從而，當(dāng)真空泵81在副閥52a關(guān)閉的狀態(tài)下動作時(shí)，儲存箱54的 儲存部54a與閥側(cè)副配管52b、吸引側(cè)副配管52c —起保持在真空泵81的 設(shè)定壓力。
此外，設(shè)定壓力是指在吸引孔21a產(chǎn)生將基板IO吸附于載物臺21所 必需的壓力。并且，是比大氣壓低的壓力，且比保持壓力還低的壓力。
另外，在副配管52以繞過儲存箱54的方式設(shè)置有輔助配管55。該輔 助配管55用于使在吸引孔21a產(chǎn)生的吸引力迅速產(chǎn)生。具體而言，輔助 配管55具有與副配管52的內(nèi)徑相同尺寸的內(nèi)徑，閥側(cè)副配管52b和吸引 側(cè)副配管52c相連通地連接。由此，當(dāng)使真空泵81在關(guān)閉副閥52a的狀 態(tài)下動作時(shí)，從副閥52a至真空泵81側(cè)的副配管52內(nèi)、儲存箱54的儲 存部54a內(nèi)及輔助配管55內(nèi)保持為設(shè)定壓力。此外，該輔助配管55的容 量比儲存箱54的儲存部54a容量小。
另外，在配管50設(shè)有壓力計(jì)53。該壓力計(jì)53檢測配管50內(nèi)的壓力， 在本實(shí)施方式中設(shè)置有載物臺21正下方的吸引孔21a附近的配管50。由 此，與設(shè)置在從吸引孔21a遠(yuǎn)離的位置的情況相比，抑制了壓力損傷等影 響，因此，能夠高精度測定吸引孔21a的壓力狀態(tài)。
另外，在載物臺21上設(shè)有使基板10進(jìn)行升降動作的基板升降機(jī)構(gòu)。 基體而言，在載物臺21的表面形成有多個銷孔，在該銷孔中埋設(shè)有能夠 在Z軸方向上進(jìn)行升降動作的升降銷(未圖示)。即，能夠以使升降銷從 載物臺21的表面突出的狀態(tài)送入基板10時(shí)，使升降銷的前端部分與基板 IO抵接而保持基板IO，通過使升降銷下降而收容于銷孔，能夠?qū)⒒錓O 載置于載物臺21的表面。另外,通過使升降銷在基板10載置于載物臺21的表面的狀態(tài)下上升，
能夠使升降銷的前端部分與基板10抵接，利用多個升降銷的前端部分來 將基板10保持在規(guī)定的高度位置。由此，能夠有效抑制與基板10的接觸 部分來進(jìn)行保持，從而能夠在不損壞基板10的情況下順利地進(jìn)行更換。
另外，涂敷組件30是在基板10上涂敷涂敷液的組件。如圖1、圖2 所示，該涂敷組件30具有與基座2連結(jié)的腳部31和沿Y軸方向延伸的管 部34，并以在Y軸方向橫跨在基座2上的狀態(tài)且能夠在X軸方向移動地 安裝基座2上。具體而言，在基座2的Y軸方向兩端部分分別設(shè)置有沿X 軸方向延伸的導(dǎo)軌22,腳部31滑動自如地安裝在該導(dǎo)軌22上。并且，在 腳部31上安裝有線性電動機(jī)33，通過驅(qū)動控制該線性電動機(jī)33，涂敷組 件30能夠在X軸方向移動并在任意位置停止。
如圖2所示，在涂敷組件30的腳部31安裝有進(jìn)行涂敷液的涂敷的管 部34。具體而言，在該腳部31設(shè)置有沿Z軸方向延伸的導(dǎo)軌37和沿該 導(dǎo)軌37滑動的滑塊35，連結(jié)所述滑塊35和管部34。并且，在滑塊35安 裝有用伺服電動機(jī)36 (參照圖4)驅(qū)動的滾珠絲杠機(jī)構(gòu)，通過驅(qū)動控制該 伺服電動機(jī)36，滑塊35在Z軸方向上移動，并且，能夠在任意位置停止。 即，管部34被支承為相對于保持在載物臺21的基板10可接近及遠(yuǎn)離。
管部34是涂敷涂敷液而在基板10上形成涂敷膜的部件。該管部34 是具有向單方向延伸的形狀的柱狀部件，并設(shè)置為與涂敷組件30的行進(jìn) 方向大致正交。在該管部34設(shè)有沿長度方向延伸的狹縫噴嘴34a，供給于 該管部34的涂敷液從狹縫噴嘴34a在整個長度方向上均勻地噴出。從而， 在涂敷液從該狹縫噴嘴34a噴出的狀態(tài)下，涂敷組件30在X軸方向行進(jìn)， 由此沿沿狹縫噴嘴34a的整個長度方向在基板10上形成具有一定厚度的 涂敷膜。
以下，結(jié)合圖4所示的方框圖說明針對上述涂敷裝置的控制系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)。
圖4是表示設(shè)置于該實(shí)際安裝裝置的控制裝置卯的控制系統(tǒng)的方框 圖。如圖4所示，該涂敷裝置設(shè)置有對上述各種組件的驅(qū)動進(jìn)行控制的控 制裝置90。該控制裝置90具有控制主體部91、驅(qū)動控制部92、壓力控制 部93、輸入輸出裝置控制部94、外部裝置控制部95。
10控制主體部91具備:進(jìn)行推理演算的公知的CPU;預(yù)先存儲對該CPU 進(jìn)行控制的各種程序等的ROM;暫時(shí)存儲裝置動作中各種數(shù)據(jù)的RAM;
存儲各種程序和OS還有生產(chǎn)程序等各種數(shù)據(jù)的HDD等。并且，控制主 體部91具有主控制部91a、判定部91b、存儲部91c。
主控制部91a為了按預(yù)先存儲的程序進(jìn)行一系列的涂敷動作，通過驅(qū) 動控制部92驅(qū)動控制各組件的伺服電動機(jī)36、線性電動機(jī)33等驅(qū)動裝置。
判定部91b判定在吸引孔21a是否產(chǎn)生了保持被吸附的基板10的適 當(dāng)?shù)奈Α＞唧w而言，對吸引孔21a附近的壓力狀態(tài)是否合適進(jìn)行判斷。 即，對由壓力計(jì)53檢測的壓力是否達(dá)到真空泵81的設(shè)定壓力進(jìn)行判定。 在后述的存儲部91c存儲有預(yù)先設(shè)定的設(shè)定壓力數(shù)據(jù)，對檢測的壓力是否 為該設(shè)定壓力進(jìn)行判斷。假設(shè)達(dá)到設(shè)定壓力，經(jīng)由后述的壓力控制部93 控制以使副閥52a變?yōu)殛P(guān)閉狀態(tài)。由此，通過將連通吸引孔21a和真空泵 81的配管50僅切換為主配管51，而將在吸引孔21a產(chǎn)生的壓力調(diào)節(jié)為由 調(diào)節(jié)器51b設(shè)定的保持壓力。另外，當(dāng)壓力計(jì)53沒有達(dá)到設(shè)定壓力時(shí)， 使主閥51a及副閥52a的狀態(tài)維持在該狀態(tài)。
存儲部91c用于存儲各種數(shù)據(jù)且暫時(shí)存儲演算結(jié)果。具體而言，存儲 設(shè)定壓力、保持壓力等數(shù)據(jù)。
驅(qū)動控制部92基于來自控制主體部91的控制信號，驅(qū)動控制線性電 動機(jī)33、伺服電動機(jī)36等。具體而言，通過控制線性電動機(jī)33及伺服電 動機(jī)36，而驅(qū)動控制涂敷組件30的移動以及管部34的升降動作等。
壓力控制部93檢測配管50內(nèi)的壓力，還基于來自控制主體部91的 控制信號，對在吸引孔21a產(chǎn)生的壓力進(jìn)行控制。具體而言，利用來自壓 力計(jì)53的信號，檢測吸引孔21a附近的配管50內(nèi)的壓力。另夕卜，基于壓 力計(jì)53示出的設(shè)定壓力，而從控制主體部91輸送切換為保持壓力的信號 的情況下，對副閥52a的驅(qū)動進(jìn)行控制，以使副閥52a從打開狀態(tài)成為關(guān) 閉狀態(tài)，由此，將配管50內(nèi)(準(zhǔn)確的是吸引孔21a附近)控制為保持壓 力。
輸入輸出裝置控制部94對鍵盤83、觸摸面板82等各輸入輸出裝置進(jìn) 行控制。具體而言，利用鍵盤83、觸摸面板82進(jìn)行涂敷動作的條件設(shè)定 等，能夠隨意進(jìn)行設(shè)定壓力、保持壓力等的設(shè)定。另外，在從設(shè)定壓力調(diào)節(jié)為保持壓力的情況，配管50內(nèi)進(jìn)行了調(diào)節(jié)而沒有成為保持壓力的情況 下，在觸摸面板上進(jìn)行警告顯示，對操作人員進(jìn)行提醒警告。
外部裝置控制部95基于來自控制主體部91的控制信號，進(jìn)行外部裝 置的驅(qū)動控制。在本實(shí)施方式中，通過與真空泵81連接，對該真空泵81 進(jìn)行驅(qū)動，從而能夠在吸引孔21a產(chǎn)生吸引力。
:接著，參照圖5所示的流程圖對該涂敷裝置的動作進(jìn)行說明。
首先，在步驟S1進(jìn)行基板10的送入。具體而言，在多個升降銷從載 物臺21的表面突出的狀態(tài)待機(jī)，利用未圖示的機(jī)械手，將基板10載置于 升降銷的前端部分。這時(shí)，確認(rèn)主閥51a及副閥52a處于關(guān)閉狀態(tài)。從而， 不會在載物臺21的插通孔21a產(chǎn)生吸引力。
接著，在步驟S2中，將基板10載置于載物臺21。具體而言，使升降 銷從在升降銷前端部分載置有基板10的狀態(tài)下降，而將基板10載置于升 降銷21的表面。這時(shí)，利用未圖示的定位機(jī)構(gòu)將基板10定位在規(guī)定位置。
接著，根據(jù)步驟S3 S5，基板10被吸附保持在載物臺21上。首先， 根據(jù)步驟S3，進(jìn)行基板吸附動作，基板10被吸附在載物臺21上。具體而 言，通過以主閥51a及副閥52a成為打開狀態(tài)的方式進(jìn)行驅(qū)動控制，從而 連通連接吸引孔21a和真空泵81，因此，在吸引孔21a產(chǎn)生吸引力而使基 板10迅速地吸附在載物臺21上。
艮口，在步驟S1、 S2中，在主閥51a及副閥52a為關(guān)閉的狀態(tài)，由真 空泵81進(jìn)行排氣，因此，儲存箱54的儲存部54a內(nèi)維持在設(shè)定壓力(比 大氣壓低的壓力)。并且，當(dāng)主閥51a及副閥52a從該狀態(tài)打開時(shí)，保持 在設(shè)定壓力的儲存箱54的儲存部54a瞬間開放，因此，從主閥51a及副 閥52a到吸引孔21a的配管50內(nèi)的大氣瞬間吸入儲存箱54的儲存部54a 內(nèi)。由此，能夠在吸引孔21a迅速產(chǎn)生與設(shè)定壓力對應(yīng)的吸引力。
另外，在本實(shí)施方式中，設(shè)有輔助配管55，因此，能夠在吸引孔21a 更加迅速地產(chǎn)生吸引力。即，在關(guān)閉主閥51a及副閥52a的狀態(tài)，如圖6 (a)所示，存在于輔助配管55內(nèi)的大氣通過吸引側(cè)副配管52c向真空泵 81側(cè)排氣。并且，當(dāng)從該狀態(tài)打開主閥51a及副閥52a而瞬間開放儲存箱 54的儲存部54a時(shí)，吸入與儲存部54a的兩端部連接的副配管52內(nèi)的大 氣。SP，如圖6 (b)所示，吸引側(cè)副配管52c內(nèi)的大氣吸入儲存部54a，因此，閥側(cè)副配管52b內(nèi)的大氣通過輔助配管55吸入儲存箱54，由此，閥側(cè)副配管52b的大氣被吸入儲存部54a的流量變大。從而，通過從閥側(cè)副配管52b至吸引孔21a的配管內(nèi)的大氣被吸入儲存部54a的流量變大，由此能夠更加迅速地產(chǎn)生在吸引孔21a的吸引力。由此，在吸引孔21a迅速地產(chǎn)生吸引力，從而基板10瞬時(shí)吸附在載物臺21上。
接著，當(dāng)基板10吸附在載物臺21的表面時(shí)，對配管50內(nèi)的壓力是否達(dá)到設(shè)定壓力進(jìn)行判斷(步驟S4)。具體而言，對壓力計(jì)53是否達(dá)到設(shè)定壓力進(jìn)行判斷，在沒有達(dá)到設(shè)定壓力的情況下，向"否"方向進(jìn)行，繼續(xù)進(jìn)行基板的吸附動作。
另外，在壓力計(jì)53達(dá)到設(shè)定壓力的情況下，向"是"方向進(jìn)行，進(jìn)行基板的吸附保持動作(步驟S5)。具體而言，將副閥52a從打開狀態(tài)切換為關(guān)閉狀態(tài)。即，真空泵81與吸引孔21a的連通僅為主配管51，從而，吸引孔21a的吸引力被調(diào)節(jié)為與由調(diào)節(jié)器51b設(shè)定的保持壓力相應(yīng)的吸引力。從而，基板10被與保持壓力對應(yīng)的吸引力吸附保持在載物臺21上。
接著，在步驟S6中，進(jìn)行涂敷動作。即，使涂敷組件30在確定方向行進(jìn)，同時(shí)噴出涂敷液，由此，在基板10的表面形成涂敷膜。
接著，在步驟S7中，進(jìn)行基板10的取出。即，基于S6的涂敷動作在基板10表面形成涂敷膜之后，使真空泵81停止，使吸引孔21a的壓力返回大氣壓。并且，通過使升降銷上升，而在升降銷的前端部分保持基板10，在未圖示的機(jī)械手進(jìn)行基板10的交接，從載物臺21的表面排出基板10。
根據(jù)上述涂敷裝置，主閥51a和副閥52a從關(guān)閉的狀態(tài)成為打開狀態(tài)，由此，保持在設(shè)定壓力的儲存箱54的儲存部54a瞬間開放，因此，從副閥52a至吸引孔21a的配管50內(nèi)的大氣瞬間被吸入儲存部54a。 SP，能夠在吸引孔21a迅速地產(chǎn)生吸引力而使基板IO瞬時(shí)吸附于載物臺21上。從而，僅使主閥51a和副閥52a進(jìn)行動作，即能夠在吸引孔21a迅速地產(chǎn)生吸引力，因此，能夠在不變更真空泵81的設(shè)定壓力的情況下，縮短吸附基板10的吸附時(shí)間，進(jìn)而能夠提高作為整體的生產(chǎn)周期。
另外，在上述實(shí)施方式中，對儲存箱54的儲存部54a具有直徑比副配管52的內(nèi)徑大的圓筒形狀的情況進(jìn)行說明，但是，與規(guī)定區(qū)間的副配
13管52的容量相比，具有大的容量即可。S卩，如果與副配管52的容量相比具有大的容量，則使主閥51a及副閥52a從關(guān)閉狀態(tài)變?yōu)榇蜷_狀態(tài)，由此，保持在設(shè)定壓力的儲存箱54的儲存部54a瞬間開放，從副閥52a至吸引孔21a的配管50內(nèi)的大氣吸入儲存部54a。由此，能夠在吸引孔21a迅速地產(chǎn)生吸引力而使基板10瞬時(shí)吸附在載物臺21上。作為具體的儲存部54a的例子，如果如上述實(shí)施方式那樣為圓筒形狀，則能夠使用具有通用性的通常的箱，從而能夠?qū)⒊杀疽种频捷^低。另外，截面并不限于圓筒形狀，也可以為四邊形和多邊形等，形成為筒狀即可。這時(shí)，在設(shè)置儲存箱54的空間被限制的情況下，具有適合空的空間的形狀來設(shè)計(jì)儲存箱54，從而容易進(jìn)行設(shè)置的優(yōu)點(diǎn)。另外，儲存箱54整體可以為具有規(guī)定螺距的螺旋形狀，在比規(guī)定區(qū)間的副配管52的容量較大的形成。
另外，在上述實(shí)施方式中，對設(shè)有輔助配管55的例子進(jìn)行了說明，但是，也可以為不設(shè)置該輔助配管55而僅具有儲存箱54的結(jié)構(gòu)。即使在該情況下，通過使保持在設(shè)定壓力的儲存箱54的儲存部54a瞬間開放，從而能夠在吸引孔21a產(chǎn)生吸引力而將基板10迅速地吸附在載物臺21的表面。
另外，在上述實(shí)施方式中，對設(shè)置一根輔助配管55的例子進(jìn)行了說明，但是，也可以設(shè)置多根輔助配管55。即使在該情況下，當(dāng)儲存箱54的儲存部54a瞬間開放時(shí)，存在于多根輔助配管55內(nèi)的大氣通過吸引側(cè)副配管52c進(jìn)入儲存部54a，從而，閥側(cè)副配管52b內(nèi)的大氣進(jìn)入儲存部54a的流量增大，能夠更加迅速地產(chǎn)生在吸引孔21a的吸引力。此外，即使在該情況下，多根輔助配管55的容量與儲存部54a的容量相比較小地形成，由此，能夠更加有效且迅速地在吸引孔21a產(chǎn)生吸引力。
此外，在上述實(shí)施方式中，對使用己經(jīng)在工廠等設(shè)置的真空泵81的情況進(jìn)行了說明，但是，也可以另行單獨(dú)設(shè)置用作涂敷裝置的真空泵。即使在該情況下，也能夠在不變更真空泵81的設(shè)定壓力的情況下，迅速地產(chǎn)生吸附基板10的吸引力。
權(quán)利要求
1. 一種涂敷裝置，其具備載物臺，其載置基板；基板保持機(jī)構(gòu)，其使形成于所述載物臺的表面的吸引孔產(chǎn)生吸引力而將基板吸附并保持于所述載物臺的表面；涂敷組件，其相對于保持在所述載物臺的表面的基板相對地移動，并且噴出涂敷液，所述涂敷裝置的特征在于，所述基板保持機(jī)構(gòu)的吸引孔通過配管與產(chǎn)生吸引力的吸引力產(chǎn)生裝置相連通地連接，所述配管具備能夠利用主閥開閉的主配管和能夠利用副閥開閉的副配管，在所述副配管設(shè)有儲存箱，該儲存箱在比所述副閥靠吸引力產(chǎn)生裝置側(cè)具備具有規(guī)定容量的儲存部，且該儲存部具有比一定區(qū)間內(nèi)的副配管的容量大的容量。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂敷裝置，其特征在于，所述儲存部的容量比從所述副閥至所述吸引孔的配管的容量的總和大。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的涂敷裝置，其特征在于， 在所述副配管設(shè)置有輔助配管，該輔助配管繞過所述儲存箱而與吸引側(cè)副配管和閥側(cè)副配管相連通地連接，其中，所述吸引側(cè)副配管在吸引力 產(chǎn)生裝置側(cè)連接于所述儲存箱，所述閥側(cè)副配管在副閥側(cè)連接于所述儲存 箱。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1 3中任一項(xiàng)所述的涂敷裝置，其特征在于， 具備對所述主閥及副閥的開閉動作進(jìn)行控制的控制裝置，該控制裝置在主閥及副閥處于關(guān)閉狀態(tài)下使吸引力產(chǎn)生裝置工作，由此使所述儲存箱 的儲存部維持在比大氣壓小的壓力，在基板載置于載物臺的表面之后，使 主閥和副閥處于打開狀態(tài)，由此將基板吸附在載物臺表面。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的涂敷裝置，其特征在于，所述控制裝置使主閥和副閥處于打開狀態(tài)而將基板吸附于載物臺表 面之后，在吸引孔的壓力達(dá)到規(guī)定壓力的情況下，使副閥處于關(guān)閉狀態(tài)， 以比所述規(guī)定壓力大且比大氣壓小的壓力來維持基板保持在載物臺的表 面上的狀態(tài)。
全文摘要
本發(fā)明提供一種通過迅速產(chǎn)生吸附基板的吸引力而縮短吸附時(shí)間，從而能夠提高涂敷裝置整體的生產(chǎn)周期的涂敷裝置。其具備基板保持機(jī)構(gòu)，其在形成于載物臺的表面的吸引孔產(chǎn)生吸引力而將基板吸附保持于載物臺的表面；涂敷組件，其相對于基板相對移動的同時(shí)噴出涂敷液，其中，在基板保持機(jī)構(gòu)的吸引孔連通連接與產(chǎn)生吸引力的吸引力產(chǎn)生裝置連接的主配管及副配管，在主配管設(shè)有開閉主配管路徑的主閥，在副配管設(shè)有開閉副配管路徑的副閥，并設(shè)置有具備儲存部的儲存箱，所述儲存部在比該副閥靠吸引力產(chǎn)生裝置側(cè)具有規(guī)定容量，儲存部具有比一定區(qū)間的副配管的容量大的容量。
文檔編號B05C13/00GK101518769SQ20091000682
公開日2009年9月2日 申請日期2009年2月27日 優(yōu)先權(quán)日2008年2月27日
發(fā)明者森俊裕, 釜谷學(xué) 申請人:東麗工程株式會社