專利名稱：間歇涂布裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及間歇涂布^t術領域，特別涉及一種隨動張力的間歇涂布裝置。
背景技術：
隨著涂布技術的發(fā)展，現(xiàn)已廣泛用于各種技術領域，如鋰電池生產(chǎn)中， 間歇涂布機是重要的生產(chǎn)設備。
現(xiàn)有間歇涂布機在直線運動或主傳動速度發(fā)生變化時，涂布沖幾運行的張 力發(fā)生尖峰突變，使箔材在主傳動機構上產(chǎn)生相對滑動，從而使涂布的厚度 不均勻，造成涂布質(zhì)量不穩(wěn)定。

實用新型內(nèi)容
本實用新型主要解決的技術問題是提供一種涂布機運行張力穩(wěn)定的間歇 涂布裝置，減小間歇涂布裝置上的張力變化，從而可以提高涂布質(zhì)量穩(wěn)定性。
為了解決上述問題，本實用新型提供一種間歇涂布裝置，所述間歇涂布 裝置用于對箔材進行間歇涂布，該間歇涂布裝置包括支架和兩端分別與所述 支架轉(zhuǎn)動連接的輥筒，并通過電機帶動所述箔材，所述間歇涂布裝置還包括 與所述支架轉(zhuǎn)動連接的兩齒輪，兩所述齒輪之間套設有鏈條，在兩所述齒輪 之間的鏈條一側(cè)設有配重塊，所述鏈條的另一側(cè)與所述輥筒直接或間接連接 固定。
優(yōu)選地，所述間歇涂布裝置設有橫桿，所述橫桿與所述輥筒連接固定， 該橫桿一端與所述鏈條的另 一側(cè)連接固定。
優(yōu)選地，所述橫桿的兩端設有用于導向的導向槽或?qū)蚩?，在所述導?槽或?qū)蚩變?nèi)設有用于所述輥筒移動導向的導向桿，該導向桿的兩端分別與 所述支架固定。
優(yōu)選地，所述間歇涂布裝置設有導向塊，所述導向塊分別套設在所述輥筒兩端，該導向塊與所述鏈條的另一側(cè)連接固定。
優(yōu)選地，所述間歇涂布裝置還設有與所述導向塊配合的導向桿，該導向 桿一端與所述支架固定，所述導向塊為L形，在該導向塊上設有與所述導向 桿配合的導向孔，所述導向孔與用于套設所述輥筒的孔相互垂直。
優(yōu)選地，所述間歇涂布裝置還包括設在所述齒輪一側(cè)的支架上的采集 齒輪旋轉(zhuǎn)角度的傳感器和根據(jù)所述傳感器采集的數(shù)據(jù)對所述電機進行控制的 控制器。
優(yōu)選地，所述傳感器包括多圈電位器。 優(yōu)選地，所述控制器包括PLC。
本實用新型間歇涂布裝置，包括與所述支架連接轉(zhuǎn)動的兩齒輪，兩所述齒 輪之間套設有鏈條，在兩所述齒輪之間的鏈條一側(cè)設有平卩軒所述箔材張力的 配重塊，所述鏈條的另一側(cè)設有與所述輥筒固定；當所述箔材張力發(fā)生變化 時，由所述配重塊平衡間歇涂布時所述箔材上的張力。由于通過所述配重塊 平衡間歇涂布時所迷箔材上的張力，因而可以減小所述箔材上的張力變化大 小，實現(xiàn)提高涂布質(zhì)量穩(wěn)定性。同時通過傳感器采集所述齒輪旋轉(zhuǎn)角度，并 由所述控制器根據(jù)所述傳感器采集的角度數(shù)據(jù)控制所述收料電機和放料電機 轉(zhuǎn)速，因而可以實時控制收料電機和放料電機轉(zhuǎn)速，減小所述箔材上的張力 變化。


圖1是本實用新型間歇涂布裝置實施例一結構示意圖2是本實用新型實施例橫桿結構示意圖3是本實用新型間歇涂布裝置實施例另一結構示意圖4是本實用新型實施例導向桿、導向塊和輥筒之間配合結構示意圖5是本實用新型實施例導向塊結構示意圖。
下面結合實施例，并參照附圖，對本實用新型目的的實現(xiàn)、功能特點及 優(yōu)點作進一步說明。
具體實施方式

本實用新型間歇涂布裝置實施例，包括與所述支架連接轉(zhuǎn)動的兩齒輪，兩 所述齒輪"^間套設有鏈條，在兩所述齒輪之間的鏈條一側(cè)設有平^^所述箔材
張力的配重塊，所述鏈條的另一側(cè)設有與所述輥筒固定；當所述箔材張力發(fā) 生變化時，由所述配重塊平衡間歇涂布時所述箔材上的張力。由于通過所述 配重塊平衡間歇涂布時所述箔材上的張力，因而可以減小所述箔材上的張力 變化大小，實現(xiàn)提高涂布質(zhì)量穩(wěn)定性。
如圖l和圖2所示，本實用新型間歇涂布裝置提出一實施例。
所述間歇涂布裝置，用于對箔材7進行間歇涂布，所述間歇涂布裝置包 括支架1和兩端分別與所述支架1轉(zhuǎn)動連接的輥筒2,所述間歇涂布裝置還包 括與所述支架轉(zhuǎn)動連接的兩個齒輪3，兩所述齒輪3之間套設有鏈條4，在兩 所述齒輪3之間的鏈條4 一側(cè)設有配重塊5,所述鏈條4的另 一側(cè)與所述輥筒 2直接或間接連接固定。
所述輥筒2可以通過橫桿6與所述鏈條4的另一側(cè)連接固定，該橫桿6 與所述輥筒2連接固定。
具體地說，所述箔材7的兩端分別設置在力欠料輥8和收料輥(附圖未標 示)上，所述放料輥8通過放料電機9驅(qū)動，所述收料輥通過收料電機(附 圖未標示)驅(qū)動，該箔材7與所述輥筒2緊密接觸。
在所述間歇涂布裝置工作時，所述放料電機9和收料電機別分驅(qū)動放料 輥8和收料輥工作，所述箔材7上形成一定張力，該箔材7上的張力與所述 輥筒2的重力基本相同。
當所述箔材7上的張力發(fā)生變化時，所述輥筒2向上或向下移動，即當 所述箔材7張力變小時，由于所述輥筒2的重力大于所述箔材7張力，此時 所述輥筒2在重力作用下向下移動。由于所述輥筒2通過所迷一黃桿6和鏈條4 帶動所述配重塊5上移動，由所述配重塊5可以平tf所述箔材7張力減小的 變化。當所述箔材7上的張力增大時，由于所述輥筒2的重力大小所述箔材7 上的張力，此時所述輥筒2在張力作用下向上移動。由于所述輥筒2通過所 述橫桿6和鏈條4帶動所述配重塊5下移動，由所述配重塊5可以平衡所述 箔材7張力增大的變化。因此可以實現(xiàn)所述配重塊5可以減少所述箔材7上的張力變化，提高涂布質(zhì)量穩(wěn)定性。
所述橫桿6的兩端可以設有用于導向的導向孔61。在所述導向孔61內(nèi)設 有用于所述輥筒2移動導向的導向桿10,所述導向桿10的兩端分別固定在所 述支架1上。在所述輥筒2受箔材7上的張力變化上下移動時，可以通過所 述導向桿10與橫桿6上的導向孔61配合上下移動，從而使避免所述輥筒2 產(chǎn)生晃動，提高涂布質(zhì)量穩(wěn)定性。
所述間歇涂布裝置還包括設在所述齒輪3 —側(cè)的支架上的采集該齒輪3 旋轉(zhuǎn)角度的傳感器11和根據(jù)所述傳感器11采集的數(shù)據(jù)對所述電機進行控制 的控制器12;當所述箔材7上的張力發(fā)生變化時，所述齒輪3發(fā)生轉(zhuǎn)動，所 述傳感器11采集所述齒輪3轉(zhuǎn)動角度數(shù)據(jù)，由所述控制器12根據(jù)接收到傳 感器11采集的齒輪3旋轉(zhuǎn)角度數(shù)據(jù)實時控制所述收料電機和放料電機9轉(zhuǎn)速， 因而可以實時減小所述箔材7上的張力變化。
優(yōu)選地，所述傳感器11包括多圏電位器或其他可以采集所述齒輪3轉(zhuǎn)動 角度數(shù)據(jù)的器件，也可以是直接采集所述配重塊5位置數(shù)據(jù)的器件。所述控 制器12包括PLC (Programmable Logic Control,可編程邏輯控制器)也可是 其他對采集數(shù)據(jù)進行處理，并根據(jù)處理結果控制所述收料電機和放料電機9 電機轉(zhuǎn)速的控制器，如單片機、微處理器等。
當所述控制器12選用PLC,所述傳感器11為多圈電位器時，由所述PLC 內(nèi)的A/D模塊根據(jù)所述多圈電位器上的電壓信號進行模數(shù)轉(zhuǎn)換，并由所述 PLC內(nèi)的PID (ProportionaWntegral-Derivative,比例-積分-微分)運算輸出， 通過D/A模塊控制所述間歇涂布裝置上的用于收料電機和放料電機9轉(zhuǎn)速。 所述PLC掃描周期短，以及A/D模塊分辨率高。當所述箔材7上的張力發(fā)生 變化時，所述齒輪3發(fā)生很小轉(zhuǎn)動，所述PLC都能做出快速的響應，控制所 述收料電機和放料電才幾9轉(zhuǎn)速。
在所述箔材7上的張力發(fā)生變化時，所述輥簡隨著所述箔材7的張力隨 動，所述輥筒2在所述箔材7張力發(fā)生變化時上下移動緩沖作用，也可以解 決所述箔材7張力突變產(chǎn)生所述箔材斷裂現(xiàn)象。
在本實施例中，所述導向孔61也可以根據(jù)需要設為導向槽，或其他可以 與所述導向桿10配合導向的結構。如圖3和圖4所示，本實用新型所述間歇涂布裝置還提出另實施例。
所述間歇涂布裝置，用于對箔材7進行間歇涂布，所述間歇涂布裝置包 括支架1和兩端分別與所述支架1轉(zhuǎn)動連接的輥筒2,所述間歇涂布裝置還包 括與所述支架轉(zhuǎn)動連接的兩個齒輪3，兩所述齒輪3之間套設有鏈條4，在兩 所述齒輪3之間的鏈條4 一側(cè)設有配重塊5,所述鏈條4的另 一側(cè)與所述輥筒 2直接或間接連接固定。
所述輥筒2可以套設在所述輥筒2 —端或兩端的導向塊13固定連接，所 述導向塊13上設有導向孔131,所述導向孔131與導向桿IO配合，其他結構 及配置關系與上述實施例相同，不再贅述。
當所述箔材7上的張力發(fā)生變化時，所述輥筒2向上或向下移動，即當 所述箔材7張力變小時，由于所述輥筒2的重力大于所述箔材7張力，此時 所述輥筒2在重力作用下向下移動。由于所述輥筒2通過所述導向塊13和鏈 條4帶動所述配重塊5上移動，由所述配重塊5可以平衡所述箔材7張力減 小的變化。當所述箔材7上的張力增大時，由于所述輥筒2的重力大小所述 箔材7上的張力，此時所述輥筒2在張力作用下向上移動。由于所述輥筒2 通過導向塊13和鏈條4帶動所述配重塊5下移動，由所述配重塊5可以平衡 所述箔材7上的張力增大的變化。因此可以實現(xiàn)所述配重塊5可以減少所述 箔材7上的張力變化，提高涂布質(zhì)量穩(wěn)定性。
如圖5所示，所述導向塊13為L形，所述導向塊13設有用于導向的導 向孔131，在所述導向孔131內(nèi)設有用于所述輥筒2移動導向的導向桿10, 所述導向桿10的兩端分別固定在所述支架1上。在所述輥筒2受箔材7上的 張力變化上下移動時，可以通過所述導向桿10與導向塊13上的導向孔131 配合上下移動，從而使避免所述輥筒2產(chǎn)生晃動，提高涂布質(zhì)量穩(wěn)定性。優(yōu) 選地，所述導向孔131與用于套設所述輥筒2的孔132相互垂直。
在本實施例中，可以根據(jù)需要，在所述輥筒2兩端分別套設有所述導向 塊13,所述導向桿IO的數(shù)量與所述導向塊13相相同。
所述間歇涂布裝置還包括設在所述齒輪3 —側(cè)的支架上的采集齒輪3 旋轉(zhuǎn)角度的傳感器U和根據(jù)所述傳感器11采集的數(shù)據(jù)對所述電機進行控制 的控制器12;當所述箔材7上的張力發(fā)生變化時，所述齒輪3發(fā)生轉(zhuǎn)動，所 述傳感器11采集所述齒4侖3轉(zhuǎn)動角度數(shù)據(jù)，由所述控制器根據(jù)接收到傳感器11采集的齒輪3旋轉(zhuǎn)角度數(shù)據(jù)實時控制所述收料電機和放料電機9轉(zhuǎn)速，因
而可以實時減小所述箔材7上的張力變化。
優(yōu)選地，所述傳感器ll包括多圈電位器或其他可以采集所述齒輪3轉(zhuǎn)動 角度數(shù)據(jù)的器件，也可以是直接采集所述配重塊5位置數(shù)據(jù)的器件。所述控 制器12包括PLC (Programmable Logic Control,可編程邏輯控制器)也可是 其他對采集數(shù)據(jù)進行處理，并根據(jù)處理結果控制所述收料電機和放料電機9 電機轉(zhuǎn)速的控制器，如單片機、微處理器等。
當所述控制器12選用PLC,所述傳感器11為多圈電位器時，由所述PLC 內(nèi)的A/D模塊根據(jù)所述多圈電位器上的電壓信號進行模數(shù)轉(zhuǎn)換，并由所述 PLC內(nèi)的PID (Proportional-Integral-Derivative,比例-積分-微分)運算輸出， 通過D/A模塊控制所述間歇涂布裝置上的用于收料電機和放料電機9轉(zhuǎn)速。 所述PLC掃描周期短，以及A/D模塊分辨率高。當所述箔材7上的張力發(fā)生 變化時，所述齒輪3發(fā)生很小轉(zhuǎn)動，所述PLC都能做出快速的響應，控制所 述收料電機和放料電機9轉(zhuǎn)速。
在所述箔材7上的張力發(fā)生變化時，所述輥簡隨著所述箔材7的張力隨動， 所述輥筒2在所述箔材7張力發(fā)生變化時上下移動緩沖作用，也可以解決所 述箔材7張力突變產(chǎn)生所述箔材斷裂現(xiàn)象。.
上述實施例中，所述齒輪3也可以根據(jù)需要設為鏈輪或帶輪。
以上所述僅為本實用新型的優(yōu)選實施例，并非因此限制本實用新型的專 利范圍，凡是利用本實用新型說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結構或等效流程 變換，或直接或間接運用在其他相關的技術領域，均同理包括在本實用新型 的專利保護范圍內(nèi)。
權利要求1.間歇涂布裝置，用于對箔材進行間歇涂布，該間歇涂布裝置包括支架和兩端分別與所述支架轉(zhuǎn)動連接的輥筒，并通過電機帶動所述箔材，其特征在于所述間歇涂布裝置還包括與所述支架轉(zhuǎn)動連接的兩齒輪，兩所述齒輪之間套設有鏈條，在兩所述齒輪之間的鏈條一側(cè)設有配重塊，所述鏈條的另一側(cè)與所述輥筒直接或間接連接固定。
2. 根據(jù)權利要求1所述的間歇涂布裝置，其特征在于 所述間歇涂布裝置設有橫桿，所述橫桿與所述輥筒連接固定，該橫桿一端與所述鏈條的另 一側(cè)連接固定。
3. 根據(jù)權利要求2所述的間歇涂布裝置，其特征在于 所述橫桿的兩端設有用于導向的導向槽或?qū)蚩?，在所述導向槽或?qū)蚩變?nèi)設有用于所述輥筒移動導向的導向桿，該導向桿的兩端分別與所述 支架固定。
4. 根據(jù)權利要求1所述的間歇涂布裝置，其特征在于所述間歇涂布裝置設有導向塊，所述導向塊分別套設在所述輥筒兩 端，該導向塊與所述鏈條的另一側(cè)連接固定。
5. 根據(jù)權利要求4所述的間歇涂布裝置，其特征在于 所述間歇涂布裝置還設有與所述導向塊配合的導向桿，該導向桿一端與所述支架固定，所述導向塊為L形，在該導向塊上設有與所述導向桿配 合的導向孔，所述導向孔與用于套:&所述輥筒的孔相互垂直。
6. 根據(jù)權利要求3或5所述的間歇涂布裝置，其特征在于 所述間歇涂布裝置還包括設在所述齒輪一側(cè)的支架上的采集齒輪旋轉(zhuǎn)角度的傳感器和根據(jù)所述傳感器采集的數(shù)據(jù)對所述電機進行控制的控制器。
7. 根據(jù)權利要求6所述的間歇涂布裝置，其特征在于:所述傳感器包括多圈電位器。
8. 根據(jù)權利要求7所述的間歇涂布裝置，其特征在于: 所述控制器包括PLC。
專利摘要本實用新型公開一種隨動張力間歇涂布裝置，用于對箔材進行間歇涂布，該間歇涂布裝置包括支架和兩端分別與所述支架轉(zhuǎn)動連接的輥筒，所述間歇涂布裝置還包括與所述支架轉(zhuǎn)動連接的兩齒輪，兩所述齒輪之間套設有鏈條，在兩所述齒輪之間的鏈條一側(cè)設有配重塊，所述鏈條的另一側(cè)與所述輥筒直接或間接連接固定。由于通過所述配重塊平衡間歇涂布時所述箔材上的張力，因而可以減速小間歇涂布裝置工作時，所述箔材上的張力變化大小，實現(xiàn)提高涂布質(zhì)量穩(wěn)定性。
文檔編號B05C11/00GK201380138SQ20092013049
公開日2010年1月13日 申請日期2009年4月3日 優(yōu)先權日2009年4月3日
發(fā)明者齊曉東 申請人:深圳市嘉拓自動化技術有限公司