專利名稱：硼硅氧烷組合物，硼硅氧烷粘合劑，涂布和層壓的基底的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及硼硅氧烷組合物，和更特別地涉及包含下述的硼硅氧烷組合物每一 分子平均具有至少兩個(gè)鏈烯基的硼硅氧烷，每一分子平均具有至少兩個(gè)與硅鍵合的氫原子 的有機(jī)基硅化合物，和氫化硅烷化催化劑。本發(fā)明還涉及硼硅氧烷粘合劑，它包括至少一種 硼硅氧烷的固化產(chǎn)物。本發(fā)明進(jìn)一步涉及涂布的基底和層壓的基底，它們各自包括所述硼 硅氧烷粘合劑。
背景技術(shù)：
硅氧烷粘合劑因其獨(dú)特的性能的結(jié)合，其中包括高熱穩(wěn)定性、良好的耐濕性，優(yōu)良 的撓性，高的離子純度，低的α粒子發(fā)射，和對各種基底良好的粘合性，因此可用于各種應(yīng) 用。例如，硅氧烷粘合劑廣泛用于機(jī)動(dòng)車、電子、建筑、器具和航空工業(yè)上。然而，當(dāng)常規(guī)的硅氧烷粘合劑暴露于高溫下，例如與開放式火焰直接接觸而遇到 的高溫下時(shí)，該粘合劑分解，形成焦炭，典型地一種不粘附的粉末。鑒于前述問題，需要含硅氧烷的組合物，它固化形成具有高的焦炭產(chǎn)率和在暴露 于比粘合劑的分解溫度高的溫度下之中和之后具有高的粘合性的粘合劑。發(fā)明概述本發(fā)明涉及一種硼硅氧烷組合物，它包含(A)選自下述中的硼硅氧烷(i)至少一種具有下式的聚硼硅氧烷= (R12BOv2) i[(B0(3_v)/2) (OH) v]m[ (R1BOteI)Z2) (OH) Jn(R13SiOl72) J(R12SiOi2^72) (OH) J JR1SiOi3^72 (OH)y] r[(SiO(4_z)/2) (OH)Js(I), (ii)至少一種具有下式的硼硅氧烷R1aB(OSiR13)3^(II)，和(iii) 含(A) (i)和(A) (ii)的混合物，其中每一R1獨(dú)立地SC1-Cltl烴基或C1-Cltl鹵素取代的烴基， 1 為 0-0. 2，m 為 0-0. 5，η 為 0-0. 6，ρ 為 0-0. 7，q 為 0-0. 9，r 為 0-0. 999，s 為 0-0. 5，ν 為 0-0. 05，w 為 0-0. 05，χ 為 0-0. 45，y 為 0-0. 63，ζ 為 0-0. 25，m+n 為 0. 001-0. 58，q+r+s 為 0. 42-0. 999，(p+2q+3r+4s) / (3m+2n)為 1. 01-1000，1+m+n+p+q+r+s 1，和 a 為 0、1 或 2， 條件是硼硅氧烷每一分子平均具有至少兩個(gè)鏈烯基；(B)每一分子平均具有至少兩個(gè)與硅鍵合的氫原子的有機(jī)基硅化合物，其用量足 以固化所述硼硅氧烷；和(C)氫化硅烷化催化劑。本發(fā)明還涉及硼硅氧烷粘合劑，它包括硼硅氧烷的固化產(chǎn)物，其中所述硼硅氧烷 選自下述至少一種具有下式的聚硼硅氧烷伙諷一“咖如)/》(0!1)丄[(腫0(21)/2) (OH) J^R^SiO^)^ (R12SiOi2^72) (OH)JJ(R1SiO^y)72) (OH)y]r [ (SiO(4_z)/2) (OH)丄⑴，至少一種 具有下式的硼硅氧烷=R1aB(OSiR13)3I(II),條件是所述硼硅氧烷化合物每一分子平均具有 至少兩個(gè)鏈烯基，和含至少一種具有式(I)的聚硼硅氧烷和至少一種具有式(II)的硼硅氧烷的混合物，條件是在該混合物內(nèi)聚硼硅氧烷和硼硅氧烷化合物各自每一分子平均具有 至少兩個(gè)鏈烯基，其中每一 R1獨(dú)立地為C1-Cltl烴基或C1-Cltl鹵素取代的烴基，1為0-0. 2，m 為 0-0. 5，η 為 0-0. 6，ρ 為 0-0. 7，q 為 0-0. 9，r 為 0-0. 999，s 為 0-0. 5，ν 為 0-0. 05，w 為 0-0. 05，χ 為 0-0. 45，y 為 0-0. 63，ζ 為 0-0. 25，m+n 為 0. 001-0. 58，q+r+s 為 0. 42-0. 999， (p+2q+3r+4s)/(3m+2n)為 1. 01-1000，1+m+n+p+q+r+s 1，禾口 a 為 0、1 或 2。本發(fā)明進(jìn)一步涉及涂布的基底，它包括基底；和在該基底表面的至少一部分上的硼硅氧烷粘合劑涂層，其中該粘合劑涂層包括硼 硅氧烷的固化產(chǎn)物，該固化產(chǎn)物如上所述。本發(fā)明仍進(jìn)一步涉及層壓的基底，它包括第一基底；覆在第一基底上的至少一個(gè)額外的基底；和在每一基底的至少一個(gè)表面的至少一部分上的硼硅氧烷粘合劑涂層，條件是至少 一部分粘合劑涂層在相鄰基底的相對表面之間且與之直接接觸，其中該粘合劑涂層包括硼 硅氧烷的固化產(chǎn)物，該固化產(chǎn)物如上所述。本發(fā)明的硼硅氧烷粘合劑具有高的耐濕性、高的透明度和對各種基底具有優(yōu)良的 粘合性。而且，硼硅氧烷粘合劑在暴露于比該粘合劑的分解溫度高的溫度之中和之后具有 高的粘合性，低的可燃性(這通過低的熱量釋放速度來佐證)和高的焦炭產(chǎn)率。本發(fā)明的硼硅氧烷粘合劑可用于要求具有高耐濕性、在升高的溫度下具有高的粘 合性、低的可燃性和高的透明度的粘合劑的應(yīng)用中。例如，在制造防火窗和玻璃防火墻中， 該粘合劑可用于粘結(jié)玻璃板。參考下述說明、所附權(quán)利要求書和附圖，本發(fā)明的這些和其他特征，以及優(yōu)點(diǎn)將變 得顯而易見。附圖簡述

圖1示出了根據(jù)本發(fā)明的層壓基底的一個(gè)實(shí)施方案的截面視圖。圖2示出了前述層壓基底實(shí)施方案的截面視圖，所述層壓基底進(jìn)一步包括在第二 基底上的第二硼硅氧烷粘合劑涂層，和在第一基底的第二相對表面上的第三硼硅氧烷粘合 劑涂層。發(fā)明詳述此處所使用的符號(hào)(B0(3_v)/2) (OH)v和(R1BOi2^2) (OH)w分別表示硼鍵合到三個(gè)氧 原子和兩個(gè)氧原子上的平均單元式，其中每一氧原子還鍵合到另一原子，亦即Si或H上。例 如，具有通式(B0(3_v)/2) (OH)v的單一單元(其中ν = 0)可用下述結(jié)構(gòu)式表示
權(quán)利要求
一種硼硅氧烷組合物，它包含(A)選自下述中的硼硅氧烷(i)至少一種具有下式的聚硼硅氧烷(R12BO1/2)l[(BO(3 v)/2)(OH)v]m[(R1BO(2 w)/2)(OH)w]n(R13SiO1/2)p[(R12SiO(2 x)/2)(OH)x]q[R1SiO(3 y)/2(OH)y]r[(SiO(4 z)/2)(OH)z]s(I)，(ii)至少一種具有下式的硼硅氧烷化合物R1aB(OSiR13)3 a(II)，和(iii)含(A)(i)和(A)(ii)的混合物，其中每一R1獨(dú)立地為C1 C10烴基或C1 C10鹵素取代的烴基，l為0 0.2，m為0 0.5，n為0 0.6，p為0 0.7，q為0 0.9，r為0 0.999，s為0 0.5，v為0 0.05，w為0 0.05，x為0 0.45，y為0 0.63，z為0 0.25，m+n 為0.001 0.58，q+r+s為0.42 0.999，(p+2q+3r+4s)/(3m+2n)為1.01 1000，l+m+n+p+q+r+s≈1，和a為0、1或2，條件是硼硅氧烷每一分子平均具有至少兩個(gè)鏈烯基；(B)每一分子平均具有至少兩個(gè)與硅鍵合的氫原子的有機(jī)基硅化合物，其用量足以固化所述硼硅氧烷；和(C)氫化硅烷化催化劑。
2.權(quán)利要求1的硼硅氧烷組合物，其中組分㈧是㈧⑴。
3.權(quán)利要求1的硼硅氧烷組合物，其中組分(A)是(A)(ii)。
4.一種硼硅氧烷粘合劑，它包括硼硅氧烷的固化產(chǎn)物，其中所述硼硅氧烷選自至少 一種具有下式的聚硼硅氧烷=(R12BOv2) J(BOi3-^2) (OH)v]m[ (R1BOi2^72) (OH)Jn(R13SiOl72) p[ (R12SiOi2^72) (OH)Jq(R1SiO^y)72) (0H)y]r[(Si0(4_z)/2) (OH)丄(I)，至少一種具有下式的硼 硅氧烷化合物=R1aB(OSiR13)3I(II),條件是所述硼硅氧烷化合物每一分子平均具有至少兩 個(gè)鏈烯基，和含至少一種具有式(I)的聚硼硅氧烷和至少一種具有式(II)的硼硅氧烷化 合物的混合物，條件是在該混合物內(nèi)聚硼硅氧烷和硼硅氧烷化合物各自每一分子平均具有 至少兩個(gè)鏈烯基，其中每一 R1獨(dú)立地為C1-Cltl烴基或C1-Cltl鹵素取代的烴基，1為0-0. 2，m 為 0-0. 5，η 為 0-0. 6，ρ 為 0-0. 7，q 為 0-0. 9，r 為 0-0. 999，s 為 0-0. 5，ν 為 0-0. 05，w 為 0-0. 05，χ 為 0-0. 45，y 為 0-0. 63，ζ 為 0-0. 25，m+n 為 0. 001-0. 58，q+r+s 為 0. 42-0. 999， (p+2q+3r+4s)/(3m+2n)為 1. 01-1000，1+m+n+p+q+r+s 1，禾口 a 為 0、1 或 2。
5.權(quán)利要求4的硼硅氧烷粘合劑，其中所述硼硅氧烷是至少一種具有式(I)的聚硼硅 氧烷。
6.權(quán)利要求4的硼硅氧烷粘合劑，其中所述硼硅氧烷是至少一種具有式(II)的硼硅氧 烷化合物，條件是所述硼硅氧烷化合物每一分子平均具有至少兩個(gè)鏈烯基。
7.一種涂布的基底，它包括基底；和在該基底表面的至少一部分上的硼硅氧烷粘合劑涂層，其中該粘合劑涂層包括硼硅 氧烷的固化產(chǎn)物，其中所述硼硅氧烷選自至少一種具有下式的聚硼硅氧烷= (R12BOv2) i[(B0(3_v)/2) (oh) v]m[ (R1BOteI)Z2) (0H)w]n(R13Si01/2)p[(R12Si0(2_x)/2) (oh) J q[ (R1SiO^y)72) (oh) y] r [ (Si0(4_z)/2) (OH) J s⑴，至少一種具有下式的硼硅氧烷化合物=R1aB (OSiR13) 3_a (II)，條件 是所述硼硅氧烷化合物每一分子平均具有至少兩個(gè)鏈烯基，和含至少一種具有式(I)的聚 硼硅氧烷和至少一種具有式(II)的硼硅氧烷化合物的混合物，條件是在該混合物內(nèi)聚硼 硅氧烷和硼硅氧烷化合物各自每一分子平均具有至少兩個(gè)鏈烯基，其中每一 R1獨(dú)立地為 C1-C10烴基或C1-Cltl鹵素取代的烴基，1為0-0. 2，m為0-0. 5，η為0-0. 6，ρ為0-0. 7，q為 0-0. 9，r 為 0-0. 999，S 為 0-0. 5，ν 為 0-0. 05，w 為 0-0. 05，χ 為 0-0. 45，y 為 0-0. 63，ζ 為0-0. 25，m+n 為 0. 001-0. 58，q+r+s 為 0. 42-0. 999，(p+2q+3r+4s) / (3m+2n)為 1. 01-1000， 1+m+n+p+q+r+s ^ 1,禾口 a 為 0、1 或 2。
8.權(quán)利要求7的涂布的基底，其中所述硼硅氧烷是至少一種具有式(I)的聚硼硅氧烷。
9.權(quán)利要求7的涂布的基底，其中所述硼硅氧烷是至少一種具有式(II)的硼硅氧烷化 合物，條件是所述硼硅氧烷化合物每一分子平均具有至少兩個(gè)鏈烯基。
10.權(quán)利要求7的涂布的基底，其中所述基底選自玻璃和增強(qiáng)的有機(jī)硅樹脂膜。
11.一種層壓的基底，它包括第一基底；覆在第一基底上的至少一個(gè)額外的基底；和在每一基底的至少一個(gè)表面的至少一部分上的硼硅氧烷粘合劑涂層，條件是至少一 部分粘合劑涂層在相鄰基底的相對表面之間且與之直接接觸，其中該粘合劑涂層包括硼 硅氧烷的固化產(chǎn)物，其中所述硼硅氧烷選自至少一種具有下式的聚硼硅氧烷= (R12BOv2) i[(B0(3_v)/2) (oh) v]m[ (R1BOteI)Z2) (0H)w]n(R13Si01/2)p[(R12Si0(2_x)/2) (oh) J q[ (R1SiO^y)72) (oh) y] r [ (Si0(4_z)/2) (OH) J s⑴，至少一種具有下式的硼硅氧烷化合物=R1aB (OSiR13) 3_a (II)，條件 是所述硼硅氧烷化合物每一分子平均具有至少兩個(gè)鏈烯基，和含至少一種具有式(I)的聚 硼硅氧烷和至少一種具有式(II)的硼硅氧烷化合物的混合物，條件是在該混合物內(nèi)聚硼 硅氧烷和硼硅氧烷化合物各自每一分子平均具有至少兩個(gè)鏈烯基，其中每一 R1獨(dú)立地為 C1-C10烴基或C1-Cltl鹵素取代的烴基，1為0-0. 2，m為0-0. 5，η為0-0. 6，ρ為0-0. 7，q為 0-0. 9，r 為 0-0. 999，S 為 0-0. 5，ν 為 0-0. 05，w 為 0-0. 05，χ 為 0-0. 45，y 為 0-0. 63，ζ 為 0-0. 25，m+n 為 0. 001-0. 58，q+r+s 為 0. 42-0. 999，(p+2q+3r+4s) / (3m+2n)為 1. 01-1000， 1+m+n+p+q+r+s ^ 1,禾口 a 為 0、1 或 2。
12.權(quán)利要求11的層壓基底，其中所述硼硅氧烷是至少一種具有式(I)的聚硼硅氧烷。
13.權(quán)利要求11的層壓基底，其中所述硼硅氧烷是至少一種具有式(II)的硼硅氧烷化 合物，條件是所述硼硅氧烷化合物每一分子平均具有至少兩個(gè)鏈烯基。
14.權(quán)利要求11的層壓基底，其中至少一個(gè)基底是玻璃。
15.權(quán)利要求11的層壓基底，其中至少一個(gè)基底是增強(qiáng)的有機(jī)硅樹脂膜。
全文摘要
一種硼硅氧烷組合物，它包含每一分子平均具有至少兩個(gè)鏈烯基的硼硅氧烷，每一分子平均具有至少兩個(gè)與硅鍵合的氫原子的有機(jī)基硅化合物，和氫化硅烷化催化劑；一種硼硅氧烷粘合劑，它包括至少一種硼硅氧烷的固化產(chǎn)物；和涂布的基底與層壓基底，其中它們各自包括硼硅氧烷粘合劑。
文檔編號(hào)C09D183/14GK101959939SQ200980107625
公開日2011年1月26日 申請日期2009年2月23日 優(yōu)先權(quán)日2008年3月4日
發(fā)明者朱弼忠 申請人:陶氏康寧公司