專利名稱：顏料微粒的表面處理方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種顏料微粒的表面處理方法。
背景技術(shù)：
顏料微粒分散于水、有機(jī)溶劑等的分散劑而被使用。但是，存在以下的分散穩(wěn)定性的問(wèn)題一般而言顏料微粒的尺寸變得越小，向分散介質(zhì)中的分散越難，為了使其分散，需要珠磨機(jī)、高壓均質(zhì)機(jī)這樣的極大的能量，或即使一旦分散結(jié)束，也發(fā)生再次凝集等。因此， 作為公知技術(shù)，已知以均勻地分散顏料微粒為目的、將顏料微粒的表面進(jìn)行改性、提高對(duì)分散介質(zhì)的親和性的方法、提高與分散介質(zhì)中所含的分散劑的親和性的方法等(專利文獻(xiàn)1、 專利文獻(xiàn)2)。此外，已知以下方法如專利文獻(xiàn)3那樣在磺化反應(yīng)溶劑中加入水濕潤(rùn)有機(jī)顏料漿料而使顏料分散后，將水脫離，接著通過(guò)磺化劑在上述有機(jī)顏料的粒子表面導(dǎo)入磺酸基 (磺基)的方法；如專利文獻(xiàn)4那樣在溶解了在酞菁中導(dǎo)入了酸性官能團(tuán)或其鹽的水溶性酞菁衍生物的水性液體中使酞菁系顏料粒子分散、在該酞菁系顏料粒子的表面使上述水溶性酞菁衍生物吸附的方法；或如專利文獻(xiàn)5那樣放入含有銅酞菁的水漿液，在該溶液中滴加氫氧化鈉水溶液而形成PH12. 0、一邊將含有臭氧的氧以0. 5升通氣一邊通過(guò)超聲波振動(dòng)器裝置1由超聲波振動(dòng)子2以38kHz、150W照射超聲波而在銅酞菁微粒表面導(dǎo)入親水性官能團(tuán)的方法。但是，在進(jìn)行一旦干燥了的粒子、凝集的粒子的表面處理的情況下，一般而言，將作為目的的粒子再次分散于溶劑后必須進(jìn)行表面處理。因此，為了均勻地分散沒有進(jìn)行表面處理的粒子而需要極大的能量、難以對(duì)各個(gè)粒子均勻地實(shí)施表面處理。另外，在經(jīng)過(guò)微?；墓ば?、其后進(jìn)行表面修飾的情況下，每次需要極大的能量。而且，每工序需要用于進(jìn)行目的的處理的試劑，因此與成本的增加、資源的極大的浪費(fèi)有聯(lián)系。另外，作為將在相對(duì)于顏料為良溶劑的溶劑中溶解了顏料的有機(jī)顏料溶液和相對(duì)于上述顏料為不良溶劑的溶劑進(jìn)行混合、將上述顏料作為粒子使其析出于混合液中的工序和基本上幾乎同時(shí)進(jìn)行粒子的表面處理的方法，可列舉特征為如專利文獻(xiàn)7那樣使從在色素部分結(jié)合有酸性官能團(tuán)的水中為難溶性的化合物和作為有機(jī)顏料的構(gòu)成成分的化合物的強(qiáng)酸溶液析出于水中而形成的混合物吸附在有機(jī)顏料的粒子表面的表面處理顏料的制造方法，在該方法中，包含制造在色素部分具有修飾基團(tuán)的化合物的工序和將上述在色素部分具有修飾基團(tuán)的化合物和顏料的混合物溶解、再使其析出的工序，因此存在工序數(shù)和成本增大等的問(wèn)題。予以說(shuō)明的是，修飾基團(tuán)是指至少導(dǎo)入或結(jié)合于粒子表面的官能團(tuán)或原子團(tuán)(radical)。而且，有如下方法如專利文獻(xiàn)8那樣將有機(jī)顏料在相對(duì)于其為良溶劑的第1溶劑中溶解了的有機(jī)顏料溶液和相對(duì)于上述有機(jī)顏料為不良溶劑的第2溶劑進(jìn)行混合，將上述有機(jī)顏料作為納米粒子使其析出于混合液中，接著導(dǎo)入質(zhì)均分子量1000以上的高分子化合物，同時(shí)實(shí)質(zhì)上導(dǎo)入表面修飾基團(tuán)，但在該情況下，由于在表面修飾基團(tuán)中必定含有高分子，因此存在根據(jù)制作的粒子的分散介質(zhì)、分散劑必須選定表面修飾基團(tuán)和高分子的雙方等的問(wèn)題。 而且在使用由本申請(qǐng)申請(qǐng)人發(fā)明的專利文獻(xiàn)6所示的在可接近 分離地相對(duì)旋轉(zhuǎn)的2個(gè)處理用面間維持微小間隔、將維持為該微小間隔的2個(gè)處理用面間作為被處理流動(dòng)體的流路、由此形成被處理流動(dòng)體的薄膜流體(強(qiáng)制薄膜)、在該薄膜流體(強(qiáng)制薄膜)中制作顏料微粒的裝置的情況下，也不能確立制作的顏料微粒的易分散性?，F(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)1特開2000-256593號(hào)公報(bào)
專利文獻(xiàn)2特開平8-3498號(hào)公報(bào)
專利文獻(xiàn)3特開平10-110110號(hào)公報(bào)
專利文獻(xiàn)4特開2000-303014號(hào)公報(bào)
專利文獻(xiàn)5特開2004-182751號(hào)公報(bào)
專利文獻(xiàn)6國(guó)際公開W02009/8388號(hào)小冊(cè)子
專利文獻(xiàn)7特開2002-317126號(hào)公報(bào)
專利文獻(xiàn)8特開2008-231169號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的課題鑒于上述，本發(fā)明的課題在于，以小的能量、效率良好地、不伴有成本增加地進(jìn)行顏料微粒的表面處理、例如在顏料微粒的至少表面導(dǎo)入修飾基團(tuán)。用于解決課題的手段本申請(qǐng)的第1發(fā)明是一種顏料微粒的表面處理方法，其特征在于，向可接近·分離、且相對(duì)地進(jìn)行位移的處理用面之間供給被處理流動(dòng)體，通過(guò)含有該流動(dòng)體的供給壓力和施加于進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的處理用面之間的壓力的向接近方向的力與向分離方向的力的壓力的平衡，將處理用面間的距離維持為微小間隔，將維持為該微小間隔的2個(gè)處理用面間作為被處理流動(dòng)體的流路，由此被處理流動(dòng)體形成薄膜流體，在該薄膜流體中生成顏料微粒，將上述生成的顏料微粒進(jìn)行表面修飾。本申請(qǐng)的第2發(fā)明為第1發(fā)明所述的顏料微粒的表面處理方法，其特征在于，具備對(duì)被處理流動(dòng)體賦予壓力的流體壓力賦予機(jī)構(gòu)、第1處理用部及相對(duì)于該第1處理用部可相對(duì)地接近 分離的第2處理用部的至少2個(gè)處理用部、和使上述的第1處理用部和第2 處理用部相對(duì)地進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)；在上述的各處理用部中相互對(duì)向的位置設(shè)有第 1處理用面及第2處理用面的至少2個(gè)處理用面，上述的各處理用面構(gòu)成上述壓力的被處理流動(dòng)體流過(guò)的、被密封了的流路的一部分，上述第1處理用部和第2處理用部中，至少第 2處理用部具備受壓面，而且，該受壓面的至少一部分由上述的第2處理用面構(gòu)成，該受壓面受到上述的流體壓力賦予機(jī)構(gòu)賦予被處理流動(dòng)體的壓力而產(chǎn)生在從第1處理用面使第2 處理用面分離的方向移動(dòng)的力，在可接近·分離、且相對(duì)地進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的第1處理用面和第2 處理用面之間使上述規(guī)定壓力的被處理流動(dòng)體通過(guò)，由此上述被處理流動(dòng)體形成上述薄膜流體，在該薄膜流體中生成顏料微粒，將上述生成的顏料微粒進(jìn)行表面修飾。
本申請(qǐng)的第3發(fā)明為第2發(fā)明所述的顏料微粒的表面處理方法，其特征在于，由上述的流體壓力賦予機(jī)構(gòu)賦予了壓力的一種被處理流動(dòng)體在上述第1處理用面和第2處理用面之間通過(guò)，具備與上述的一種被處理流動(dòng)體不同的另一種被處理流動(dòng)體通過(guò)的獨(dú)立的另外的導(dǎo)入路，與該導(dǎo)入路相通的至少一個(gè)開口部設(shè)于上述第1處理用面和第2處理用面的至少任一方，從該導(dǎo)入路將上述的另一種被處理流動(dòng)體導(dǎo)入上述兩處理用面間，在上述薄膜流體中，將上述一種被處理流動(dòng)體和另一種被處理流動(dòng)體混合。本申請(qǐng)的第4發(fā)明為第1發(fā)明 第3發(fā)明中任一項(xiàng)所述的顏料微粒的表面處理方法，其特征在于，在上述薄膜流體中進(jìn)行上述顏料微粒的表面修飾。本申請(qǐng)的第5發(fā)明為第1發(fā)明 第4發(fā)明中任一項(xiàng)所述的顏料微粒的表面處理方法，其特征在于，上述表面修飾通過(guò)對(duì)上述顏料微粒的表面進(jìn)行酸性基團(tuán)處理而完成。本申請(qǐng)的第6發(fā)明為第1發(fā)明 第4發(fā)明中任一項(xiàng)所述的顏料微粒的表面處理方法，其特征在于，上述表面修飾通過(guò)對(duì)上述顏料微粒的表面進(jìn)行堿性基團(tuán)處理而完成。本申請(qǐng)的第7發(fā)明為一種顏料微粒，其用上述第1發(fā)明 第6發(fā)明中任一項(xiàng)所述的顏料微粒的表面處理方法而得到。本申請(qǐng)的第8發(fā)明為一種顏料微粒的分散液，其用上述第1發(fā)明 第6發(fā)明中任一項(xiàng)所述的顏料微粒的表面處理方法而得到。發(fā)明的效果本發(fā)明為可以有效地且效率良好地進(jìn)行顏料微粒的表面修飾的發(fā)明。而且，可以實(shí)質(zhì)上同時(shí)進(jìn)行微?；墓ば蚝捅砻嫘揎椀墓ば?，因此，可使工序精簡(jiǎn)化。而且可以省略需要極大的能量的工序，因此可以改善上述列舉的現(xiàn)有的問(wèn)題。


圖I(A)是表示用于本申請(qǐng)發(fā)明的實(shí)施的裝置的概念的簡(jiǎn)略縱剖面圖，(B)是表示上述裝置的其他實(shí)施方式的概念的簡(jiǎn)略縱剖面圖，(C)是表示上述裝置的另外其它實(shí)施方式的概念的簡(jiǎn)略縱剖面圖，(D)是表示上述裝置的進(jìn)一步其他實(shí)施方式的概念的簡(jiǎn)略縱剖面圖。圖2㈧ ⑶分別是表示圖1所示裝置的進(jìn)一步其它實(shí)施方式的概念的簡(jiǎn)略縱剖面圖。圖3㈧是圖2(C)所示裝置的主要部分的簡(jiǎn)略仰視圖，⑶是上述裝置的其他實(shí)施方式的主要部分的簡(jiǎn)略仰視圖，(C)是另外其它實(shí)施方式的主要部分的簡(jiǎn)略仰視圖，(D) 是表示上述裝置的進(jìn)一步其他實(shí)施方式的概念的簡(jiǎn)略仰視圖，(E)是表示上述裝置的另外進(jìn)一步其他實(shí)施方式的概念的簡(jiǎn)略仰視圖，(F)是表示上述裝置的進(jìn)一步另外其他實(shí)施方式的概念的簡(jiǎn)略仰視圖。圖4㈧ ⑶分別是表示圖1所示裝置的進(jìn)一步其它實(shí)施方式的概念的簡(jiǎn)略縱剖面圖。圖5㈧ ⑶分別是表示圖1所示裝置的進(jìn)一步其它實(shí)施方式的概念的簡(jiǎn)略縱剖面圖。圖6㈧ ⑶分別是表示圖1所示裝置的進(jìn)一步其它實(shí)施方式的概念的簡(jiǎn)略縱剖面圖。
圖7㈧ ⑶分別是表示圖1所示裝置的進(jìn)一步其它實(shí)施方式的概念的簡(jiǎn)略縱剖面圖。圖8(A) (D)分別是表示圖1所示裝置的進(jìn)一步其它的實(shí)施方式的概念的簡(jiǎn)略縱剖面圖。圖9(A) (C)分別是表示圖1所示裝置的進(jìn)一步其它的實(shí)施方式的概念的簡(jiǎn)略縱剖面圖。圖10(A) (D)分別是表示圖1所示裝置的進(jìn)一步其它的實(shí)施方式的概念的簡(jiǎn)略縱剖面圖。圖11㈧及⑶分別表示圖1所示裝置的進(jìn)一步其他實(shí)施方式的概念的簡(jiǎn)略縱剖面圖，(C)為圖I(A)所示裝置的主要部分的簡(jiǎn)略仰視圖。圖12(A)是對(duì)于圖I(A)所示裝置的受壓面表示其他實(shí)施方式的主要部分的簡(jiǎn)略縱剖面圖，(B)是該裝置的進(jìn)一步其他實(shí)施方式的主要部分簡(jiǎn)略縱剖面圖。圖13是對(duì)于圖12(A)所示裝置的連接觸表面壓力賦予機(jī)構(gòu)4其他實(shí)施方式的主要部分簡(jiǎn)略縱剖面圖。圖14是圖12(A)所示裝置上設(shè)置了溫度調(diào)節(jié)用封套的、其他實(shí)施方式的主要部分簡(jiǎn)略縱剖面圖。圖15是對(duì)于圖12(A)所示裝置的接觸表面壓力賦予機(jī)構(gòu)4進(jìn)一步其他實(shí)施方式的主要部分簡(jiǎn)略縱剖面圖。圖16(A)是圖12(A)所示裝置的進(jìn)一步其他實(shí)施方式的主要部分的簡(jiǎn)略橫剖面圖，(B) (C) (E) (G)是該裝置的另外其他實(shí)施方式的主要部分的簡(jiǎn)略橫剖面圖，(D)是該裝置的另外其他實(shí)施方式的局部主要部分簡(jiǎn)略縱剖面圖。圖17是圖12(A)所示裝置的進(jìn)一步其他實(shí)施方式的主要部分簡(jiǎn)略縱剖面圖。圖18(A)是表示用于本申請(qǐng)發(fā)明的實(shí)施中的裝置的進(jìn)一步其他實(shí)施方式的概念的簡(jiǎn)略縱剖面圖，(B)是該裝置的局部主要部分說(shuō)明圖。圖19(A)是圖12(A)所示裝置的第1處理用部的俯視圖，(B)是其主要部分縱剖面圖。圖20㈧是圖12㈧所示裝置的第1及第2處理用部的主要部分的縱剖面圖，⑶ 是隔開微小間隔的上述第1及第2處理用部的主要部分縱剖面圖。圖21 (A)是上述第1處理用部的其他實(shí)施方式的俯視圖，⑶是其主要部分簡(jiǎn)略縱剖面圖。圖22(A)是上述第1處理用部的進(jìn)一步其他實(shí)施方式的俯視圖，(B)是其主要部分簡(jiǎn)略縱剖面圖。圖23(A)是第1處理用部的另外其他實(shí)施方式的俯視圖，(B)是第1處理用部的進(jìn)一步另外其他實(shí)施方式的俯視圖。圖M(A) (B) (C)分別是對(duì)于處理后的被處理物的分離方法表示上述以外的實(shí)施方式的說(shuō)明圖。圖25是說(shuō)明本申請(qǐng)發(fā)明裝置的概要的縱剖面的概略圖。圖沈(幻是圖25所示裝置的第1處理用面的簡(jiǎn)略俯視圖，(B)是圖25所示裝置的第1處理用面的主要部分?jǐn)U大圖。
圖27(A)是第2導(dǎo)入路的剖面圖，(B)是用于說(shuō)明第2導(dǎo)入路的處理用面的主要部分?jǐn)U大圖。圖^(A)及(B)分別是為了說(shuō)明設(shè)置于處理用部的傾斜面的主要部分?jǐn)U大剖面圖。圖四是用于說(shuō)明設(shè)置于處理用部的受壓面的圖，(A)是第2處理用部的仰視圖， (B)是第1及第2處理用部的主要部分?jǐn)U大剖面圖。圖30是實(shí)施例1中的頂測(cè)定結(jié)果。圖31是實(shí)施例1中的硫⑶的2p軌道的結(jié)合能的XPS測(cè)定結(jié)果。圖32是實(shí)施例1中的在溶劑中使用了氘代DMSO的NMR測(cè)定結(jié)果。圖33是實(shí)施例1中的TOF-SIMS測(cè)定結(jié)果。圖34是由實(shí)施例1得到的銅酞菁微粒的TEM照片。圖35是實(shí)施例2中的氧(0)的Is軌道的結(jié)合能的XPS測(cè)定結(jié)果。圖36是由實(shí)施例2得到的銅酞菁微粒的TEM照片。圖37表示比較例1中的NMR測(cè)定結(jié)果。圖38是比較例1中的銅酞菁微粒的TEM照片。圖39是表示由實(shí)施例3 6得到的銅酞菁微粒的紅外吸收光譜的圖。圖40是實(shí)施例3 6中的硫⑶的2p軌道的結(jié)合能的XPS測(cè)定結(jié)果。圖41是氧(0)的Is軌道的結(jié)合能的XPS測(cè)定結(jié)果，(A)是實(shí)施例3 (Ex. 1)中的， (B)是實(shí)施例6 (Ex. 4)中的。圖42是TOF-SIMS測(cè)定結(jié)果，(A)是實(shí)施例3 (Ex. 1)中的，(B)是實(shí)施例6 (Ex. 4) 中的。圖43是m/s為從572至579的TOF-SIMS測(cè)定結(jié)果，(A)是實(shí)施例3 (Ex. 1)中的， (B)是實(shí)施例6(Ex.4)中的?；疑木€表示銅酞菁的穩(wěn)定同位素的存在比的理論值。圖44是實(shí)施例6 (Ex. 4)中的m/s為從649至662的TOF-SIMS測(cè)定結(jié)果?；疑木€表示銅酞菁的磺化物的穩(wěn)定同位素的存在比的理論值。圖45表示對(duì)于實(shí)施例3 (Ex. 1/白三角)及實(shí)施例6 (Ex. 4/黑四角)的各自中的銅酞菁微粒的有機(jī)溶劑分散液、相對(duì)于分散處理時(shí)間的粒徑的變化。㈧表示D5CI(體積50% 直徑)，⑶表示D9tl (體積90%直徑)。圖46是表示實(shí)施例3 (Ex. 1/白三角)、實(shí)施例6 (Ex. 4/黑四角)的各自中的銅酞菁微粒的分散處理后的有機(jī)溶劑分散液中的粒度分布的圖。圖47表示對(duì)于實(shí)施例3 (Ex. 1/白三角)、實(shí)施例4 (Ex. 2/白圓)、實(shí)施例6 (Ex. 4/ 白四角)的各自中的銅酞菁微粒的有機(jī)溶劑分散液、相對(duì)于分散處理時(shí)間的粒徑的變化。 (A)表示D5tl (體積50%直徑)，⑶表示D9tl (體積90%直徑)。圖48是表示實(shí)施例3 (Ex. 1/白三角)、實(shí)施例4 (Ex. 2/白圓)、實(shí)施例6 (Ex. 3/白四角)的各自中的銅酞菁微粒的分散處理后的水分散液中的粒度分布的圖。圖49是表示波長(zhǎng)區(qū)域350-800nm中的實(shí)施例3及6涉及的銅酞菁粒子的0. 0050% 分散液的透射光譜的圖。黑色的線表示實(shí)施例3的透射光譜，灰色的線表示實(shí)施例6的透射光譜。
具體實(shí)施例方式本發(fā)明為一種顏料微粒的表面處理方法，更詳細(xì)而言，為一種表面修飾方法，其特征在于，在可接近 分離的相對(duì)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的2個(gè)處理用面間維持Imm以下的微小間隔，將維持為該微小間隔的2個(gè)處理用面間作為被處理流動(dòng)體的流路，由此形成被處理流動(dòng)體的薄膜流體(強(qiáng)制薄膜)，對(duì)在該薄膜流體(強(qiáng)制薄膜)中生成的微粒進(jìn)行表面處理。作為進(jìn)行表面處理的顏料微粒的種類，沒有特別限定，可列舉例如茈化合物顏料、 紫環(huán)酮化合物顏料、喹吖啶酮化合物顏料、喹吖啶酮醌化合物顏料、蒽醌化合物顏料、蒽締蒽酮化合物顏料、苯并咪唑酮化合物顏料、雙偶氮縮合化合物顏料、雙偶氮化合物顏料、偶氮化合物顏料、陰丹士林化合物顏料、酞菁化合物顏料、三芳基碳鐺化合物顏料、二噁嗪化合物顏料、氨基蒽醌化合物顏料、二酮吡咯并吡咯化合物顏料、硫靛化合物顏料、異吲哚啉化合物顏料、異吲哚啉酮化合物顏料、皮蒽酮化合物顏料、異蒽酮紫化合物顏料、或它們的混合物。作為上述在可接近 分離的相對(duì)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的2個(gè)處理用面間維持Imm以下的微小間隔、將維持為該微小間隔的2個(gè)處理用面間作為被處理流動(dòng)體的流路、由此形成被處理流動(dòng)體的薄膜流體(強(qiáng)制薄膜)、在該薄膜流體(強(qiáng)制薄膜)中制作顏料微粒的裝置，沒有特別限定，可以使用采用了例如國(guó)際公開W02009/8388號(hào)小冊(cè)子(專利文獻(xiàn)6)中記載的原
理的裝置。為了制造用于本發(fā)明的表面修飾方法的顏料微粒，作為一例，可使用特征為以下的顏料微粒的制造方法在混合含有在溶劑中溶解了顏料的顏料溶液的流體、和含有相對(duì)于顏料溶液顏料的溶解度低的可成為不良溶劑的溶劑的流體并使顏料析出而制造顏料微粒的方法中，使上述的各流體在可接近·分離地相互對(duì)向配設(shè)、至少一方相對(duì)于其它一方進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的處理用面之間將上述流體形成薄膜流體而混合，在該薄膜流體中使顏料微粒析出。以下對(duì)該制造方法進(jìn)行說(shuō)明。但是，該制造方法僅僅是其一個(gè)例子，本發(fā)明并不限定于該制造方法。以下，對(duì)適于該方法的實(shí)施的流體處理裝置進(jìn)行說(shuō)明。如圖KA)所示，該裝置具有對(duì)向的第1及第2的2個(gè)處理用部10、20，至少一方的處理用部進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。兩處理用部10、20的對(duì)向面分別作為處理用面1、2，在兩處理用面間進(jìn)行被處理流動(dòng)體的處理。第1處理用部10具有第1處理用面1，第2處理用部20具有第2 處理用面2。兩處理用面1、2與被處理流動(dòng)體的流路連接，構(gòu)成被處理流動(dòng)體的流路的一部分。更詳細(xì)而言，該裝置構(gòu)成至少2個(gè)被處理流動(dòng)體的流路，同時(shí)使各流路合流。S卩，該裝置與第1被處理流動(dòng)體的流路接接，形成該第1被處理流動(dòng)體的流路的一部分，同時(shí)形成有別于第1被處理流動(dòng)體的第2被處理流動(dòng)體的流路的一部分。并且，該裝置使兩流路合流，在處理用面1、2間，混合兩流動(dòng)體，在伴有反應(yīng)的情況中使其反應(yīng)。在圖 I(A)所示的實(shí)施方式中，上述的各流路是是密閉的，形成液密(被處理流動(dòng)體為液體的情況)·氣密(被處理流動(dòng)體為氣體的情況)。如果具體地說(shuō)明，如圖I(A)所示，該裝置具有上述的第1處理用部10、上述的第 2處理用部20、保持第1處理用部10的第1托架11，保持第2處理用部20的第2托架21、接觸表面壓力賦予機(jī)構(gòu)4、旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)部、第1導(dǎo)入部dl、第2導(dǎo)入部d2、流體壓力賦予結(jié)構(gòu) pl、第2流體供給部p2及殼體3。予以說(shuō)明的是，旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)部省略圖示。第1處理用部10和第2處理用部20的至少任一方可相對(duì)于至少任意其它一方接近·分離，兩處理用面1、2可接近·分離。在本實(shí)施方式中，第2處理用部20可相對(duì)于第1處理用部10接近 分離。但是， 也可與之相反，第1處理用部10相對(duì)于第2處理用部20接近·分離，也可以兩處理用部 10、20相互接近·分離。第2處理用部20配置在第1處理用部10的上方，第2處理用部20的朝向下方的面、即下面，為上述的第2處理用面2，第1處理用部10的朝向上方的面、即上面，為上述的第1處理用面1。如圖KA)所示，在本實(shí)施方式中，第1處理用部10及第2處理用部20分別為環(huán)狀體，即圓環(huán)。以下，根據(jù)需要，稱第1處理用部10為第1圓環(huán)10，稱第2處理用部20為第 2圓環(huán)20。在本實(shí)施方式中，兩圓環(huán)10、20是金屬制的一個(gè)端面被鏡面研磨的構(gòu)件，以該鏡面作為第1處理用面1及第2處理用面2。S卩，第1圓環(huán)10的上端面作為第1處理用面1， 被鏡面研磨，第2圓環(huán)20的下端面作為第2處理用面2，被鏡面研磨。至少一方的托架可通過(guò)旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)部相對(duì)于其它一方的托架相對(duì)地進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。圖 I(A)的50表示旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)部的旋轉(zhuǎn)軸。在旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)部中可采用電動(dòng)機(jī)。通過(guò)旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)部，可使另一的圓環(huán)的處理用面相對(duì)于一方的圓環(huán)的處理用面相對(duì)地進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。在本實(shí)施方式中，第1托架11通過(guò)旋轉(zhuǎn)軸50受到來(lái)自旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)部的驅(qū)動(dòng)力，相對(duì)于第2托架21進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，這樣，和第1托架11形成一體的第1圓環(huán)10相對(duì)于第2圓環(huán)20 旋轉(zhuǎn)。在第1圓環(huán)10的內(nèi)側(cè)，旋轉(zhuǎn)軸50以如下方式設(shè)置在第1托架11上，即，俯視時(shí)，其中心與圓形的第1圓環(huán)10的中心同心。第1圓環(huán)10的旋轉(zhuǎn)以第1圓環(huán)10的軸心為中心。雖未圖示，但是，軸心指第1圓環(huán)10的中心線，是假想線。如上所述，在本實(shí)施方式中，第1托架11使第1圓環(huán)10的第1處理用面1朝向上方，保持第ι圓環(huán)10，第2托架21使第2圓環(huán)20的第2處理用面2朝向下方，保持第2圓環(huán)20。具體而言，第1及第2托架11、21分別具有凹狀的圓環(huán)收容部。在本實(shí)施方式中， 在第1托架11的圓環(huán)收容部嵌合第1圓環(huán)10，第1圓環(huán)10固定于圓環(huán)收容部以使得不從第1托架11的圓環(huán)收容部出沒。S卩，上述的第1處理用面1從第1托架11露出，面向第2托架21側(cè)。第1圓環(huán)10的材質(zhì)除了金屬以外，還可采用陶瓷、燒結(jié)金屬、耐磨鋼、對(duì)其他金屬實(shí)施了固化處理了金屬、對(duì)硬質(zhì)材料進(jìn)行內(nèi)襯、涂覆、鍍敷了材料。特別是，因?yàn)樾D(zhuǎn)，優(yōu)選用重量輕的原料形成第1處理用部10。關(guān)于第2圓環(huán)20的材質(zhì)，也可以采用與第1圓環(huán) 10相同的材質(zhì)來(lái)實(shí)施。另一方面，第2托架21所具有的圓環(huán)收容部41可出沒地收容第2圓環(huán)20的處理用面2。
該第2托架21具有的圓環(huán)收容部41是收容第2圓環(huán)20的、主要是與處理用面2 側(cè)相反側(cè)部位的凹部，在俯視時(shí)呈圓形，即形成環(huán)狀的槽。圓環(huán)收容部41的尺寸比第2圓環(huán)20大，與第2圓環(huán)20之間有足夠的間隔，收容第2圓環(huán)20。通過(guò)該間隔，在該圓環(huán)收容部41內(nèi)，該第2圓環(huán)20可在環(huán)狀的圓環(huán)收容部41的軸方向以及在與該軸方向交叉的方向位移。換言之，通過(guò)該間隔，該第2圓環(huán)20能夠以改變與上述圓環(huán)收容部41的軸方向的平行關(guān)系的方式使第2圓環(huán)20的中心線相對(duì)于圓環(huán)收容部41位移。以下，將第2托架21的被第2圓環(huán)20圍繞的部位稱為中央部分22。對(duì)于上述，換言之，該第2圓環(huán)20以如下方式收容在圓環(huán)收容部41內(nèi)，S卩，能夠在圓環(huán)收容部41的推力方向即上述出沒方向位移，另外，能夠在相對(duì)于圓環(huán)收容部41的中心偏心的方向位移。并且，第2圓環(huán)20以如下方式被收容，即，相對(duì)于圓環(huán)收容部41，在第 2圓環(huán)20的圓周方向的各位置，能夠以從圓環(huán)收容部41出沒的幅度分別不同的方式位移， 即，能夠中心振擺。雖然第2圓環(huán)20具有上述3個(gè)位移的自由度，即，與圓環(huán)收容部41相對(duì)的第2圓環(huán)20的軸方向、偏心方向、中心振擺方向的自由度，但以不追隨第1圓環(huán)10的旋轉(zhuǎn)的方式保持在第2托架21上。雖未圖示，但有關(guān)這一點(diǎn)，只要在圓環(huán)收容部41和第2圓環(huán)20上分別相對(duì)于圓環(huán)收容部41設(shè)置適當(dāng)?shù)耐怀霾考纯桑瑥亩拗圃谄鋱A周方向的旋轉(zhuǎn)。但是， 該突出部不得破壞上述3個(gè)位移的自由度。上述接觸表面壓力賦予機(jī)構(gòu)4對(duì)處理用部賦予使第1處理用面1和第2處理用面 2接近的方向作用的力。在本實(shí)施方式中，接觸表面壓力賦予機(jī)構(gòu)4設(shè)置在第2托架21上， 將第2圓環(huán)20向第1圓環(huán)10彈壓。接觸表面壓力賦予機(jī)構(gòu)4將第2圓環(huán)20的圓周方向的各位置、即第2處理用面2 的各位置均等地向第1圓環(huán)10彈壓。接觸表面壓力賦予機(jī)構(gòu)4的具體結(jié)構(gòu)在后面進(jìn)行詳細(xì)敘述。如圖I(A)所示，上述殼體3配置在兩圓環(huán)10、20外周面的外側(cè)，收容產(chǎn)物，該產(chǎn)物在處理用面1、2之間生成并排出到兩圓環(huán)10、20的外側(cè)。如圖I(A)所示，殼體3是收容第 1托架11和第2托架21的液密的容器。但是第2托架21可以作為該殼體3的一部分而與殼體3 —體地形成。如上所述，不必說(shuō)形成殼體3的一部分的情況，即使在與殼體3分體地形成的情況下，第2托架21也同樣不可動(dòng)，以使得不影響兩圓環(huán)10、20間的間隔，即，兩處理用面1、2 間的間隔。換言之，第2托架21不會(huì)對(duì)兩處理用面1、2間的間隔產(chǎn)生影響。在殼體3上，殼體3的外側(cè)設(shè)有用于排出產(chǎn)物的排出口 32。第1導(dǎo)入部dl向兩處理用面1、2間供給第1被處理流動(dòng)體。上述的流體壓力賦予結(jié)構(gòu)pi直接或間接地與該第1導(dǎo)入部dl連接，對(duì)第1被處理流動(dòng)體賦予流體壓力。在流體壓力賦予結(jié)構(gòu)Pl中，可采用壓縮機(jī)、其他泵。在該實(shí)施方式中，第1導(dǎo)入部dl是設(shè)置在第2托架21的上述中央部分22內(nèi)部的流體通道，其一端在第2托架21的俯視為圓形的第2圓環(huán)20的中心位置開口。另外，第1 導(dǎo)入部dl的另一端在第2托架21的外部、即殼體3的外部與上述流體壓力賦予結(jié)構(gòu)pi相連接。第2導(dǎo)入部d2向處理用面用1、2間供給與第1被處理流動(dòng)體反應(yīng)的第2流動(dòng)體。 在該實(shí)施方式中，第2導(dǎo)入部為設(shè)置在第2圓環(huán)20內(nèi)部的流體通道，其一端在第2處理用面2開口，其另一端與第2流體供給部p2相連接。在第2流體供給部p2中，可采用壓縮機(jī)、其他泵。通過(guò)流體壓力賦予結(jié)構(gòu)pi加壓的第1被處理流動(dòng)體從第1導(dǎo)入部dl被導(dǎo)入兩圓環(huán)10、20的內(nèi)側(cè)的空間，通過(guò)第1處理用面1和第2處理用面2之間，從兩圓環(huán)10、20的外側(cè)穿過(guò)。此時(shí)，受到第1被處理流動(dòng)體的輸送壓力的第2圓環(huán)20克服接觸表面壓力賦予機(jī)構(gòu)4的彈壓，遠(yuǎn)離第1圓環(huán)10，使兩處理用面間分開微小的間隔。關(guān)于因兩處理用面1、2的接近·分離而形成的兩處理用面1、2間的間隔，后面詳細(xì)敘述。在兩處理用面1、2間，從第2導(dǎo)入部d2供給第2被處理流動(dòng)體并與第1被處理流動(dòng)體合流，利用處理用面的旋轉(zhuǎn)促進(jìn)混合(反應(yīng))。然后，兩流體的混合(反應(yīng))所生成的產(chǎn)物從兩處理用面1、2排出到兩圓環(huán)10、20的外側(cè)。在圓環(huán)10、20外側(cè)排出的產(chǎn)物最終通過(guò)殼體3的排出口 32排出到殼體3的外部(自己排出)。上述的被處理流動(dòng)體的混合及反應(yīng)(伴有反應(yīng)的情況下)通過(guò)相對(duì)于第2處理用部20的第1處理用部10的由旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)部所產(chǎn)生的旋轉(zhuǎn)，通過(guò)第1處理用面1與第2處理用面2進(jìn)行。在第1及第2處理用面1、2間，第2導(dǎo)入部d2的開口部m2的下游側(cè)形成使上述第 1被處理流動(dòng)體和第2被處理流動(dòng)體反應(yīng)的處理室。具體而言，對(duì)于兩處理用面1、2間，在表示第2圓環(huán)20的底面的圖11 (C)中以斜線表示的第2圓環(huán)20直徑的內(nèi)外方向rl，第2 導(dǎo)入部的開口部m2、即第2開口部m2的外側(cè)區(qū)域H具有作為上述處理室發(fā)揮作用。因此， 該反應(yīng)室在兩處理用面1、2間位于第1導(dǎo)入部dl和第2導(dǎo)入部d2的兩開口部ml、m2的下游側(cè)。從第2開口部m2導(dǎo)入至兩處理用面1、2間的第2被處理流動(dòng)體，在上述形成反應(yīng)室的區(qū)域H，相對(duì)于從第1開口部ml經(jīng)過(guò)圓環(huán)內(nèi)側(cè)的空間的導(dǎo)入至兩處理用面1、2間的第 1被處理流動(dòng)體而被混合，在伴有反應(yīng)的情況下兩被處理流動(dòng)體反應(yīng)。流動(dòng)體通過(guò)流體壓力賦予結(jié)構(gòu)Pl而受到輸送壓力，在兩處理用面1、2間的微小間隙中要朝著圓環(huán)的外側(cè)移動(dòng)， 但是，由于第1圓環(huán)10旋轉(zhuǎn)，所以，在上述反應(yīng)區(qū)域H內(nèi)，被混合的流動(dòng)體并不是在圓環(huán)直徑的內(nèi)外方向上從內(nèi)側(cè)向外側(cè)直線地移動(dòng)，而是在俯視處理用面的狀態(tài)下，以圓環(huán)的旋轉(zhuǎn)軸為中心，螺旋狀地從圓環(huán)的內(nèi)側(cè)向外側(cè)移動(dòng)。這樣，在進(jìn)行混合(反應(yīng))的領(lǐng)域H，通過(guò)螺旋狀地從內(nèi)側(cè)向外側(cè)移動(dòng)，可以確保在兩處理用面1、2間的微小間隔中具有充分混合(反應(yīng))所需要的區(qū)間，可促進(jìn)均勻的反應(yīng)。另外，混合(反應(yīng))產(chǎn)生的產(chǎn)物在上述微小的第1及第2處理用面1、2間形成均質(zhì)的產(chǎn)物，特別是在結(jié)晶或析出的情況下形成微粒。至少，在上述的流體壓力賦予結(jié)構(gòu)pi負(fù)荷的輸送壓力、上述的接觸表面壓力賦予機(jī)構(gòu)4的作用力、以及圓環(huán)的旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的離心力的均衡的基礎(chǔ)上，可使兩處理用面1、2 間的間隔均衡為優(yōu)選的微小間隔，并且，受到流體壓力賦予結(jié)構(gòu)Pl負(fù)荷的輸送壓力及圓環(huán)的旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的離心力的被處理流動(dòng)體，螺旋狀地使上述處理用面1、2間的微小間隔中移動(dòng)，促進(jìn)混合(反應(yīng))。上述的混合(反應(yīng))，通過(guò)流體壓力賦予結(jié)構(gòu)Pl所負(fù)荷的輸送壓力、圓環(huán)的旋轉(zhuǎn)而強(qiáng)制地進(jìn)行。即，混合(反應(yīng))，在可接近 分離地對(duì)向配設(shè)且至少一方相對(duì)于其它一方進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的處理用面1、2間，強(qiáng)制地均勻發(fā)生。因此，特別是，反應(yīng)所引起的產(chǎn)物的結(jié)晶或析出，可通過(guò)流體壓力賦予結(jié)構(gòu)pi所負(fù)荷的輸送壓力的調(diào)整、圓環(huán)的旋轉(zhuǎn)速度即圓環(huán)的轉(zhuǎn)速的調(diào)整這樣的比較容易控制的方法來(lái)控制。這樣，該流體處理裝置，通過(guò)輸送壓力、離心力的調(diào)整，進(jìn)行影響產(chǎn)物的大小的處理用面1、2間的間隔的控制，并且，在對(duì)產(chǎn)物的均勻生成造成影響的上述領(lǐng)域H進(jìn)行移動(dòng)距離的控制方面優(yōu)異。另外，上述的處理并不局限于產(chǎn)物析出的物質(zhì)，也包含液體的情況。另外，在產(chǎn)物是微粒等的微細(xì)的固體的情況下，產(chǎn)物可在處理后的流體中沉淀，另外也可處于在連續(xù)相中存在分散相的分散液的狀態(tài)。予以說(shuō)明的是，旋轉(zhuǎn)軸50并不限于鉛直配置，也可以配置在水平方向，也可傾斜的配置。因?yàn)樘幚碇?，在兩處理用?、2間的微細(xì)的間隔進(jìn)行混合(反應(yīng))，實(shí)質(zhì)上可以排除重力的影響。圖I(A)中表示第1導(dǎo)入部dl在第2托架21中，與第2圓環(huán)20的軸心一致，朝上下鉛直延伸。但是，第1導(dǎo)入部dl并不僅限于與第2圓環(huán)20的軸心一致，只要是能夠向兩圓環(huán)10、20所圍成的空間供給第1被處理流動(dòng)體即可，也可以設(shè)置在第2托架21的中央部分22的其他位置，另外，也可以非鉛直的傾斜的延伸。圖12(A)表示上述裝置的更優(yōu)選的實(shí)施方式。如圖所示，第2處理用部20具有上述第2處理用面2、并且具有受壓面23，該受壓面23位于第2處理用面2的內(nèi)側(cè)并與該第 2處理用面2鄰接。以下，該受壓面23又稱為分離用調(diào)整面23。如圖所示，該分離用調(diào)整面23為傾斜面。如上所述，在第2托架21的底部即下部，形成圓環(huán)收容部41，該圓環(huán)收容部41內(nèi)收容有第2處理用部20。另外，雖沒有圖示，通過(guò)旋轉(zhuǎn)阻止裝置，使第2處理用部20相對(duì)于第2托架21不旋轉(zhuǎn)地被收容。上述的第2處理用面2從第2托架21中露出。在該實(shí)施方式中，處理用面1、2間的、第1處理用部10及第2處理用部20的內(nèi)側(cè)為被處理物的流入部，第1處理用部10及第2處理用部20的外側(cè)為被處理物的流出部。上述的接觸表面壓力賦予機(jī)構(gòu)4相對(duì)于第1處理用面1以壓接或接近的狀態(tài)推壓第2處理用面2，通過(guò)該接觸表面壓力與流體壓力等的使兩處理用面1、2間分離的力的平衡，形成上述規(guī)定厚度的薄膜流體。換言之，通過(guò)上述力的平衡，兩處理用面1、2間的間隔保持為規(guī)定的微小間隔。具體而言，在該實(shí)施方式中，接觸表面壓力賦予機(jī)構(gòu)4由以下部分構(gòu)成上述的圓環(huán)收容部41 ；發(fā)條收容部42，該發(fā)條收容部42設(shè)置在圓環(huán)收容部41的內(nèi)部即圓環(huán)收容部 41的最深處；彈簧43 ；以及，空氣導(dǎo)入部44。但是，接觸表面壓力賦予機(jī)構(gòu)4也可只具有上述圓環(huán)收容部41、上述發(fā)條收容部 42、彈簧43以及空氣導(dǎo)入部44中的至少任意一個(gè)。圓環(huán)收容部41與第2處理用部20間隙配合，從而圓環(huán)收容部41內(nèi)的第2處理用部20的位置或深或淺地位移，即可上下位移。上述的彈簧43的一端與發(fā)條收容部42的內(nèi)部抵接，彈簧43的另一端與圓環(huán)收容部41內(nèi)的第2處理用部20的前部即上部抵接。在圖1中，彈簧43雖僅顯示1個(gè)，但是優(yōu)選通過(guò)多個(gè)彈簧43來(lái)推壓第2處理用部20的各個(gè)部分。即，通過(guò)增加彈簧43的數(shù)目，可以賦予第2處理用部20更加均等的推壓力。所以，優(yōu)選第2托架21為安裝數(shù)個(gè)至數(shù)十個(gè)彈簧43的復(fù)合型。在該實(shí)施方式中，還可通過(guò)上述空氣導(dǎo)入部44向圓環(huán)收容部41內(nèi)導(dǎo)入空氣。通過(guò)這樣的空氣的導(dǎo)入，將圓環(huán)收容部41與第2處理用部20之間作為加壓室，將彈簧43與空氣壓力一起作為推壓力施加于第2處理用部20上。因此，通過(guò)調(diào)整從空氣導(dǎo)入部44導(dǎo)入的空氣壓力，可調(diào)整運(yùn)轉(zhuǎn)中第2處理用面2相對(duì)于第1處理用面1的接觸表面壓力。并且，代替利用空氣壓力的空氣導(dǎo)入部44，也可利用通過(guò)油壓等其他的流體壓力產(chǎn)生推壓力的機(jī)構(gòu)來(lái)實(shí)施。接觸表面壓力賦予機(jī)構(gòu)4除了供給并調(diào)節(jié)上述的推壓力即接觸表面壓力的一部分之外，還兼作位移調(diào)整機(jī)構(gòu)和緩沖機(jī)構(gòu)。詳細(xì)而言，接觸表面壓力賦予機(jī)構(gòu)4作為位移調(diào)整機(jī)構(gòu)，通過(guò)空氣壓的調(diào)整而追隨啟動(dòng)時(shí)、運(yùn)轉(zhuǎn)中軸方向的伸展、磨耗所引起的軸向位移，可維持初期的推壓力。另外，如上所述，接觸表面壓力賦予機(jī)構(gòu)4由于采用可位移地保持第2處理用部20的浮動(dòng)機(jī)構(gòu)，也具有作為微振動(dòng)、旋轉(zhuǎn)定位的緩沖機(jī)構(gòu)的功能。接著，關(guān)于采用上述的結(jié)構(gòu)的處理裝置的使用狀態(tài)，根據(jù)圖I(A)進(jìn)行說(shuō)明。首先，第1被處理流動(dòng)體受到來(lái)自流體壓力賦予結(jié)構(gòu)Pl的輸送壓力，通過(guò)第1導(dǎo)入部dl導(dǎo)入密閉殼體的內(nèi)部空間。其它一方面，通過(guò)由旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)部所產(chǎn)生的旋轉(zhuǎn)軸50的旋轉(zhuǎn)，第1處理用部10旋轉(zhuǎn)。由此，使第1處理用面1與第2處理用面2在保持微小間隔的狀態(tài)下相對(duì)地旋轉(zhuǎn)。第1被處理流動(dòng)體在保持微小間隔的兩處理用面1、2間形成薄膜流體，從第2導(dǎo)入部d2導(dǎo)入的第2被處理流動(dòng)體在兩處理用面1、2間與該薄膜流體合流，同樣構(gòu)成薄膜流體的一部分。通過(guò)該合流，第1及第2被處理流動(dòng)體混合而形成產(chǎn)物。而且在伴有反應(yīng)的情況下，兩流動(dòng)體反應(yīng)，均勻的反應(yīng)得到促進(jìn)，形成其產(chǎn)物。由此，在伴有析出的情況下可比較均勻地生成微細(xì)的粒子，即使在不伴有析出的情況下，仍可實(shí)現(xiàn)均勻的混合狀態(tài)(在伴有反應(yīng)的情況下均勻的反應(yīng))。予以說(shuō)明的是，認(rèn)為析出的產(chǎn)物由于第1處理用面1的旋轉(zhuǎn)而在其與第2處理用面2之間受到剪切，有時(shí)會(huì)被進(jìn)一步微細(xì)化。在此，第1處理用面1與第2處理用面2，通過(guò)調(diào)整為1 μ m至1mm、特別是1 μ m至10 μ m的微小間隔，可實(shí)現(xiàn)均勻的混合狀態(tài)(在伴有反應(yīng)的情況下均勻的反應(yīng))，同時(shí)，可生成數(shù)nm單位的超微粒。產(chǎn)物從兩處理用面1、2間排出，從殼體3的排出口 32排出到殼體外部。被排出的產(chǎn)物通過(guò)周知的減壓裝置在真空或減壓了的環(huán)境內(nèi)形成霧狀，通過(guò)碰到環(huán)境內(nèi)的其他部分而成為流動(dòng)體流下，可以作為脫氣后的液態(tài)物回收。予以說(shuō)明的是，在該實(shí)施方式中，處理裝置具有殼體，但也可以不設(shè)置這樣的殼體來(lái)實(shí)施。例如，可實(shí)施為設(shè)置用于脫氣的減壓罐即真空罐，在該罐內(nèi)部配置處理裝置。在該情況下，當(dāng)然在處理裝置中不具有上述的排出口。如上所述，可將第1處理用面1與第2處理用面2的間隔調(diào)整為機(jī)械的間隔設(shè)定不可能達(dá)到的μ m單位的微小間隔，其機(jī)制說(shuō)明如下。第1處理用面1與第2處理用面2可相對(duì)地接近分離，并且相對(duì)地旋轉(zhuǎn)。在該例中，第1處理用面1旋轉(zhuǎn)，第2處理用面2具有在軸方向可移動(dòng)的結(jié)構(gòu)(浮動(dòng)結(jié)構(gòu))，相對(duì)于第1處理用面1接近分離。因此，在該例中，第2處理用面2的軸方向位置通過(guò)力的平衡，即上述的接觸表面壓力與分離力的平衡，以μ m單位的精度進(jìn)行設(shè)定，由此進(jìn)行兩處理用面1、2間的微小間隔的設(shè)定。如圖12(A)所示，作為接觸表面壓力，可以列舉以下實(shí)例在接觸表面壓力賦予機(jī)構(gòu)4中，從空氣導(dǎo)入部44施加的空氣壓、即施加正壓情況下的該壓力，彈簧43的推壓力。予以說(shuō)明的是，在圖12 15、17所示的實(shí)施方式中，為避免圖面的繁雜，省略了第 2導(dǎo)入部d2的描繪。關(guān)于這一點(diǎn)，也可以看成是未設(shè)置第2導(dǎo)入部d2的位置的剖面。另外，圖中，U表示上方，S表示下方。另一方面，作為分離力，可以列舉作用于分離側(cè)的受壓面、即第2處理用面2及分離用調(diào)整面23的流體壓力；第1處理用部10的旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的離心力；和對(duì)空氣導(dǎo)入部44 施加負(fù)壓的情況下的該負(fù)壓。予以說(shuō)明的是，在對(duì)裝置進(jìn)行清洗時(shí)，通過(guò)增大施加于上述的空氣導(dǎo)入部44的負(fù)壓，可加大兩處理用面1、2的分離，可容易地進(jìn)行清洗。而且，通過(guò)這些力的平衡，使第2處理用面2相對(duì)于第1處理用面1以隔開規(guī)定的微小間隔的位置穩(wěn)定，實(shí)現(xiàn)μ m單位精度的設(shè)定。對(duì)分離力進(jìn)一步詳細(xì)地說(shuō)明。首先，關(guān)于流體壓力，密封流路中的第2處理用部20受到來(lái)自于流體壓力賦予結(jié)構(gòu)Pi的被處理流動(dòng)體的送入壓力即流體壓力。此時(shí)，與流路中的第ι處理用面相對(duì)的面、 即第2處理用面2和分離用調(diào)整面23成為分離側(cè)的受壓面，流體壓力作用在該受壓面上， 產(chǎn)生因流體壓所引起的分離力。其次，關(guān)于離心力，如果第1處理用部10高速旋轉(zhuǎn)，則離心力作用于流體，該離心力的一部分成為分離力，該分離力作用在兩處理用面1、2相互遠(yuǎn)離的方向上。此外，當(dāng)從上述的空氣導(dǎo)入部44向第2處理用部20施加負(fù)壓時(shí)，該負(fù)壓作為分離力起作用。以上，在本申請(qǐng)發(fā)明的說(shuō)明中，將使第1與第2處理用面1、2相互分離的力作為分離力進(jìn)行說(shuō)明，并非將上述表示的力從分離力中排除。如上所述，在密閉的被處理流動(dòng)體的流路中，介有處理用面1、2間的被處理流動(dòng)體，形成分離力與接觸表面壓力賦予機(jī)構(gòu)4所賦予的接觸表面壓力達(dá)到平衡的狀態(tài)，由此在兩處理用面1、2間實(shí)現(xiàn)均勻的混合狀態(tài)，在伴有反應(yīng)的情況下實(shí)現(xiàn)均勻的反應(yīng)，同時(shí)形成適合進(jìn)行微細(xì)產(chǎn)物的結(jié)晶 析出的薄膜流體。這樣，該裝置通過(guò)在兩處理用面1、2間強(qiáng)制地介有薄膜流體，可在兩處理用面1、2間維持為以往的機(jī)械的裝置中不可能的微小間隔， 實(shí)現(xiàn)高精度地生成作為產(chǎn)物的微粒。換言之，處理用面1、2間的薄膜流體的厚度通過(guò)上述的分離力與接觸表面壓力的調(diào)整而調(diào)整至所希望的厚度，能夠進(jìn)行需要的均勻的混合狀態(tài)(在伴有反應(yīng)的情況下均勻的反應(yīng))的實(shí)現(xiàn)和微細(xì)的產(chǎn)物的生成處理。所以，在要形成小的薄膜流體的厚度的情況下，只要調(diào)整接觸表面壓力或分離力以使得接觸表面壓力相對(duì)于分離力增大即可，相反地，在要形成大的薄膜流體的厚度的情況下，只要調(diào)整接觸表面壓力或分離力以使得分離力相對(duì)于接觸表面壓力增大即可。在增加接觸表面壓力的情況下，在接觸表面壓力賦予機(jī)構(gòu)4中，從空氣導(dǎo)入部44 賦予空氣壓、即正壓，或者，將彈簧43變更為推壓力大的彈簧或增加其個(gè)數(shù)即可。在增加分離力的情況下，可以增加流體壓力賦予結(jié)構(gòu)pi的送入壓力，或者增加第 2處理用面2、分離用調(diào)整面23的面積，除此之外，還可以調(diào)整第1處理用部10的旋轉(zhuǎn)從而增大離心力，或者減低來(lái)自空氣導(dǎo)入部44的壓力?；蛘?，可以賦予負(fù)壓。彈簧43是作為在延伸方向產(chǎn)生推壓力的推力發(fā)條，但是，也可以是作為在收縮方向產(chǎn)生力的拉力發(fā)條，可形成接觸表面壓力賦予機(jī)構(gòu)4的結(jié)構(gòu)的一部分或全部。在減小分離力的情況下，可以減少流體壓力賦予結(jié)構(gòu)pi的送入壓力，或者減少第 2處理用面2、分離用調(diào)整面23的面積，除此之外，還可以調(diào)整第1處理用部10的旋轉(zhuǎn)從而減少離心力，或者增大來(lái)自空氣導(dǎo)入部44的壓力?；蛘咭部梢越档拓?fù)壓。進(jìn)而，作為接觸表面壓力以及分離力的增加減少的要素，除上述以外，還可加入粘度等被處理流動(dòng)體的特性，這樣的被處理流動(dòng)體的特性的調(diào)整也可作為上述要素的調(diào)整來(lái)進(jìn)行。予以說(shuō)明的是，分離力之中，作用于分離側(cè)的受壓面即第2處理用面2以及分離用調(diào)整面23上的流體壓力，可理解為構(gòu)成機(jī)械密封的開啟力的力。在機(jī)械密封中，第2處理用部20相當(dāng)于密封環(huán)，在對(duì)該第2處理用部20施加流體壓力的情況下，當(dāng)使第2處理用部20與第1處理用部10分離的力作用的情況下，該力為開啟力。更詳細(xì)而言，如上述的第1實(shí)施方式那樣，當(dāng)在第2處理用部20中僅設(shè)置分離側(cè)的受壓面、即第2處理用面2以及分離用調(diào)整面23的情況下，送入壓力的全部構(gòu)成開啟力。 予以說(shuō)明的是，在第2處理用部20的背面?zhèn)纫苍O(shè)置受壓面的情況下，具體而言，在后述的圖 12(B)及圖17的情況下，在送入壓力中，作為分離力作用的力與作為接觸表面壓力作用的力的差形成開啟力。在此，使用圖12(B)對(duì)第2處理用部20的其他實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。如圖12(B)所示，在從該第2處理用部20的圓環(huán)收容部41露出的部位并且在內(nèi)周面?zhèn)?，設(shè)置面向第2處理用面2的相反側(cè)即上方側(cè)的接近用調(diào)整面M。即，在該實(shí)施方式中，接觸表面壓力賦予機(jī)構(gòu)4由圓環(huán)收容部41、空氣導(dǎo)入部44以及上述接近用調(diào)整面M構(gòu)成。但是，接觸表面壓力賦予機(jī)構(gòu)4也可以只具備上述圓環(huán)收容部41、上述發(fā)條收容部42、彈簧43、空氣導(dǎo)入部44以及上述接近用調(diào)整面M中的至少任意一個(gè)。該接近用調(diào)整面M受到施加于被處理流動(dòng)體上的規(guī)定的壓力，產(chǎn)生使第2處理用面2接近第1處理用面1的方向移動(dòng)的力，作為接近用接觸表面壓力賦予機(jī)構(gòu)4的一部分， 擔(dān)當(dāng)接觸表面壓力的供給側(cè)的作用。其它一方面，第2處理用面2與上述的分離用調(diào)整面 23受到施加于被處理流動(dòng)體上的規(guī)定的壓力，產(chǎn)生使第2處理用面2從第1處理用面1分離的方向移動(dòng)的力，擔(dān)當(dāng)對(duì)于分離力的一部分的供給側(cè)的作用。接近用調(diào)整面24、第2處理用面2以及分離用調(diào)整面23均為受到上述的被處理流動(dòng)體的輸送壓力的受壓面，根據(jù)其方向，實(shí)現(xiàn)產(chǎn)生上述接觸表面壓力與產(chǎn)生分離力的不同的作用。接近用調(diào)整面M的投影面積Al與合計(jì)面積A2的面積比A1/A2稱為平衡比K，對(duì)上述的開啟力的調(diào)整非常重要，其中，接近用調(diào)整面M的投影面積Al是在與處理用面的接近·分離的方向、即第2圓環(huán)20的出沒方向正交的假想平面上投影的接近用調(diào)整面M的投影面積，合計(jì)面積A2是在該假想平面上投影的第2處理用部20的第2處理用面2及分離用調(diào)整面23的投影面積的合計(jì)面積。接近用調(diào)整面M的前端與分離用調(diào)整面23的前端，一同被限定在環(huán)狀的第2調(diào)整用部20的內(nèi)周面25即前端線Ll上。因此，通過(guò)在何處放置接近用調(diào)整面M的基端線 L2的決定，可進(jìn)行平衡比K的調(diào)整。S卩，在該實(shí)施方式中，在利用被處理用流體的送出壓力作為開啟力的情況下，通過(guò)使第2處理用面2以及分離用調(diào)整面23的合計(jì)投影面積大于接近用調(diào)整面M的投影面積， 可產(chǎn)生與其面積比率相對(duì)應(yīng)的開啟力。對(duì)于上述開啟力，變更上述平衡線，即變更接近用調(diào)整面M的面積Al，由此，能夠通過(guò)被處理流動(dòng)體的壓力、即流體壓力進(jìn)行調(diào)整。滑動(dòng)面實(shí)際表面壓力P、即接觸表面壓力中的流體壓力所產(chǎn)生的表面壓力可用下式計(jì)算。P = PlX (K-k)+Ps式中，Pl表示被處理流動(dòng)體的壓力、即流體壓力，K表示上述平衡比，k表示開啟力系數(shù)，I3S表示彈簧及背壓力。通過(guò)該平衡線的調(diào)整來(lái)調(diào)整滑動(dòng)面實(shí)際表面壓力P，由此使處理用面1、2間形成所希望的微小間隙量，形成被處理流動(dòng)體所產(chǎn)生的薄膜流體，使產(chǎn)物變微細(xì)，另外進(jìn)行均勻的混合(反應(yīng))處理。通常，如果兩處理用面1、2間的薄膜流體的厚度變小，則可使產(chǎn)物更細(xì)。相反，如果薄膜流體的厚度變大，處理變得粗糙，單位時(shí)間的處理量增加。所以，通過(guò)上述滑動(dòng)面實(shí)際表面壓力P的調(diào)整，能夠在調(diào)整兩處理用面1、2間的間隙而實(shí)現(xiàn)所期望的均勻混合狀態(tài) (在伴有反應(yīng)的情況下為均勻的反應(yīng))的同時(shí)獲得微細(xì)的產(chǎn)物。以下，稱滑動(dòng)面實(shí)際表面壓力P為表面壓力P。歸納該關(guān)系，在使上述產(chǎn)物較粗的情況下，可以減小平衡比，減小表面壓力P，增大上述間隙，增大上述厚度。相反，在使上述產(chǎn)物更細(xì)的情況下，可以增大平衡比K，增大表面壓力P，減小上述間隙，減小上述厚度。這樣，作為接觸表面壓力賦予機(jī)構(gòu)4的一部分，形成接近用調(diào)整面對(duì)，通過(guò)其平衡線的位置，可以實(shí)施接觸表面壓力的調(diào)整，即調(diào)整處理用面間的間隙來(lái)實(shí)施。在上述的間隙的調(diào)整中，如上所述，還可以考慮上述的彈簧43的推壓力、空氣導(dǎo)入部44的空氣壓力來(lái)進(jìn)行。并且，流體壓力即被處理流動(dòng)體的輸送壓力的調(diào)整、及成為離心力的調(diào)整的第1處理用部10即第1托架11的旋轉(zhuǎn)的調(diào)整，也是重要的調(diào)整要素。如上所述，該裝置以如下方式構(gòu)成，即，對(duì)于第2處理用部20及相對(duì)于第2處理用部20旋轉(zhuǎn)的第1處理用部10，通過(guò)取得被處理流動(dòng)體的送入壓力、該旋轉(zhuǎn)離心力以及接觸表面壓力的壓力平衡，在兩處理用面上形成規(guī)定的薄膜流體。并且，圓環(huán)的至少一方為浮動(dòng)結(jié)構(gòu)，從而吸收芯振動(dòng)等的定位，排除接觸所引起的磨耗等的危險(xiǎn)性。該圖12⑶的實(shí)施方式中，對(duì)于具備上述的調(diào)整用面以外的結(jié)構(gòu)，與圖I(A)所示的實(shí)施方式一樣。另外，在圖12(B)所示的實(shí)施方式中，如圖17所示，可以不設(shè)置上述分離用調(diào)整面 23來(lái)實(shí)施。如圖12 (B)、圖17所示的實(shí)施方式那樣，在設(shè)置接近用調(diào)整面M的情況下，通過(guò)使接近用調(diào)整面M的面積Al大于上述面積A2，從而不產(chǎn)生開啟力，相反，施加于被處理流動(dòng)體上的規(guī)定的壓力全部作為接觸表面壓力而起作用。也可進(jìn)行這樣的設(shè)定，在該情況下，通過(guò)增大其他的分離力，可使兩處理用面1、2均衡。通過(guò)上述的面積比決定了作用在使第2處理用面2從第1處理用面1分離方向的力，該力作為從流體所受到的力的合力。上述實(shí)施方式中，如上所述，彈簧43為了對(duì)滑動(dòng)面即處理用面賦予均勻的應(yīng)力， 安裝個(gè)數(shù)越多越好。但是，該彈簧43也可如圖13所示那樣，采用單卷型彈簧。其為如圖所示的、中心與環(huán)狀的第2處理用部20同心的1個(gè)螺旋式彈簧。第2處理用部20與第2托架21之間以成為氣密的方式密封，該密封可采用眾所周知的手段。如圖14所示，第2托架21中設(shè)有溫度調(diào)整用封套46，該溫度調(diào)整用封套46冷卻或加熱第2處理用部20，可調(diào)節(jié)其溫度。并且，圖14的3表示上述的殼體，在該殼體3中， 也設(shè)有同樣目的的溫度調(diào)節(jié)用封套35。第2托架21的溫度調(diào)節(jié)用封套46是水循環(huán)用空間，該水循環(huán)用空間形成于在第2 托架21內(nèi)的圓環(huán)收容部41的側(cè)面，并與連通至第2托架21外部的通道47、48相連接。通道47、48的其中任一方向溫度調(diào)整用封套46導(dǎo)入冷卻或加熱用的介質(zhì)，其中其它一方排出該介質(zhì)。另外，殼體3的溫度調(diào)整用封套35是通過(guò)加熱用水或冷卻水的通道，其通過(guò)覆蓋殼體3的外周的覆蓋部34而設(shè)置在殼體3的外周面與該覆蓋部34之間。在該實(shí)施方式中，第2托架21及殼體3具備上述的溫度調(diào)整用的封套，但是，第1 托架11中也可設(shè)置這樣的封套來(lái)實(shí)施。作為接觸表面壓力賦予機(jī)構(gòu)4的一部分，除上述以外，也可設(shè)置如圖15所示的汽缸機(jī)構(gòu)7來(lái)實(shí)施。該汽缸機(jī)構(gòu)7具有汽缸空間部70，該汽缸空間部70設(shè)置在第2托架21內(nèi)；連接部71，該連接部71連接汽缸空間部70與圓環(huán)收容部41 ；活塞體72，該活塞體72收容在汽缸空間部70內(nèi)且通過(guò)連接部71與第2處理用部20相連接；第1噴嘴73，該第1噴嘴73 與汽缸空間部70的上部相連接；第2噴嘴74，該第2噴嘴74與汽缸空間部70的下部相連接；推壓體75，該推壓體75為介于汽缸空間部70上部與活塞體72之間的發(fā)條等。活塞體72可在汽缸空間部70內(nèi)上下滑動(dòng)，通過(guò)活塞體72的該滑動(dòng)，第2處理用部20上下滑動(dòng)，可變更第1處理用面1與第2處理用面2之間的間隙。雖未圖示，具體而言，將壓縮機(jī)等的壓力源與第1噴嘴73連接，通過(guò)從第1噴嘴73 向汽缸空間部70內(nèi)的活塞體72的上方施加空氣壓力即正壓，使活塞體72向下方滑動(dòng)，可使第1及第2處理用面1、2間的間隙變窄。另外雖未圖示，也可將壓縮機(jī)等的壓力源與第2噴嘴74連接，通過(guò)從第2噴嘴74向汽缸空間部70內(nèi)的活塞體72的下方施加空氣壓力即正壓，使活塞體72向上方滑動(dòng)，使第2處理用部20移動(dòng)而在擴(kuò)大第1及第2處理用面1、2 間的間隙、即進(jìn)行打開的方向移動(dòng)。這樣，通過(guò)用從噴嘴73、74獲得的空氣壓，可調(diào)整接觸表面壓力。即使圓環(huán)收容部41內(nèi)的第2處理用部20的上部與圓環(huán)收容部41的最上部之間有足夠的空間，通過(guò)與汽缸空間部70的最上部70a抵接地設(shè)定活塞體72，該汽缸空間部70 的最上部70a也限定了兩處理用面1、2間的間隔的寬度的上限。即，活塞體72與汽缸空間部70的最上部70a作為抑制兩處理用面1、2分離的分離抑制部而發(fā)揮作用，換言之，作為限制兩處理用面1、2間的間隔的最大分開量的機(jī)構(gòu)而發(fā)揮作用。另外，即使兩處理用面1、2彼此未抵接，通過(guò)與汽缸空間部70的最下部70b抵接地設(shè)定活塞體72，該汽缸空間部70的最下部70b限定了兩處理用面1、2間的間隙寬度的下限。即，活塞體72與汽缸空間部70的最下部70b作為抑制兩處理用面1、2接近的接近抑制部而發(fā)揮作用，更換言之，作為限制兩處理用面1、2之間的間隔的最小分開量的機(jī)構(gòu)而發(fā)揮作用。這樣，一邊限定上述間隔的最大及最小的分開量，一邊通過(guò)上述噴嘴73、74的空氣壓來(lái)調(diào)整活塞體72與汽缸空間部70的最上部70a的間隔zl，換言之，調(diào)整活塞體72與汽缸空間部70的最下部70b的間隔z2。噴嘴73、74可以與另一個(gè)壓力源連接，也可以通過(guò)切換或轉(zhuǎn)接連接于一個(gè)壓力源。并且，壓力源可以是供給正壓或供給負(fù)壓的任一種來(lái)實(shí)施。在真空等的負(fù)壓源與噴嘴73、74相連接的情況下，形成與上述的動(dòng)作相反。取代上述的其他接觸表面壓力賦予機(jī)構(gòu)4或者作為上述的接觸表面壓力賦予機(jī)構(gòu)4的一部分，設(shè)置這樣的汽缸機(jī)構(gòu)7，根據(jù)被處理流動(dòng)體的粘度、形狀，進(jìn)行與噴嘴73、74 相連接的壓力源的壓力、間隔zl、z2的設(shè)定，使薄膜流體的厚度達(dá)到所期望的值，施以剪切力，實(shí)現(xiàn)均勻的混合狀態(tài)(在伴有反應(yīng)的情況下均勻的反應(yīng))，可生成微細(xì)的粒子。特別是， 通過(guò)這樣的汽缸機(jī)構(gòu)7，可以在清洗時(shí)、蒸汽滅菌時(shí)等進(jìn)行滑動(dòng)部的強(qiáng)制開閉，可提高清洗、 滅菌的可靠性。如圖16㈧ (C)所示，可以在第1處理用部10的第1處理用面1上形成槽狀凹部13... 13來(lái)實(shí)施，該槽狀凹部13... 13從第1處理用部10的中心側(cè)朝向外側(cè)延伸，即在徑向上延伸。在該情況下，如圖16(A)所示，凹部13. . . 13可作為在第1處理用面1上彎曲或螺旋狀延伸的部分來(lái)實(shí)施，如圖16 (B)所示，也可以實(shí)施為各個(gè)凹部13彎曲為L(zhǎng)字型，并且，如圖16(C)所示，凹部13... 13也可實(shí)施為呈直線放射狀延伸。另外，如圖16⑶所示，優(yōu)選圖16㈧ (C)的凹部13以成為朝向第1處理用面1 的中心側(cè)逐漸加深地形成梯度而實(shí)施。并且，槽狀的凹部13除了可以是連續(xù)的槽之外，也可是間斷的槽。通過(guò)形成這樣的凹部13，具有應(yīng)對(duì)被處理流動(dòng)體的排出量的增加或發(fā)熱量的減少、空蝕控制、流體軸承效果等的效果。在上述圖16所示各實(shí)施方式中，凹部13雖然形成在第1處理用面1上，但也可實(shí)施為形成在第2處理用面2上，并且，也可實(shí)施為形成在第1及第2處理用面1、2雙方上。
在處理用面上未設(shè)置上述凹部13或錐度的情況下，或者，在使它們偏置于處理用面的一部分的情況下，處理用面1、2的表面粗糙度對(duì)被處理流動(dòng)體施加的影響比形成上述凹部13的大。所以，在這樣的情況下，如果要使被處理流動(dòng)體的粒子變小，就必須降低表面粗糙度，即形成光滑的面。特別是，在以均勻的混合(反應(yīng))為目的的情況下，對(duì)于其處理用面的表面粗糙度，在以實(shí)現(xiàn)均勻的混合狀態(tài)(在伴有反應(yīng)的情況下均勻的反應(yīng))、獲得微粒為目的的情況下，前述鏡面、即施加了鏡面加工的面有利于實(shí)現(xiàn)微細(xì)的單分散的產(chǎn)物的結(jié)晶·析出。在圖12至圖17所示的實(shí)施方式中，對(duì)于特別明示以外的結(jié)構(gòu)也與圖I(A)或圖 11(C)所示實(shí)施方式相同。另外，在上述各實(shí)施方式中，殼體內(nèi)全部密封，但是，除此以外，也可實(shí)施為，僅第1 處理用部10及第2處理用部20的內(nèi)側(cè)被密封，其外側(cè)開放。即，直到通過(guò)第1處理用面1 及第2處理用面2之間為止，流路被密封，被處理流動(dòng)體受到全部輸送壓力，但是，在通過(guò)后，流路被打開，處理后的被處理流動(dòng)體不受到輸送壓力。在流體壓力賦予結(jié)構(gòu)pi中，作為加壓裝置，如上所述，優(yōu)選使用壓縮機(jī)實(shí)施，但是，只要能一直對(duì)被處理流動(dòng)體施加規(guī)定的壓力，也可使用其他的手段實(shí)施。例如，可以通過(guò)如下裝置實(shí)施，即，利用被處理流動(dòng)體的自重，一直對(duì)被處理流動(dòng)體施加一定的壓力的裝置。概括上述各實(shí)施方式中的處理裝置，其特征為，對(duì)被處理流動(dòng)體施加規(guī)定的壓力， 在受到該規(guī)定壓力的被處理流動(dòng)體所流動(dòng)的被密封的流體流路中，連接第1處理用面1及第2處理用面2至少2個(gè)可接近·分離的處理用面，施加使兩處理用面1、2接近的接觸表面壓力，通過(guò)使第1處理用面1與第2處理用面2相對(duì)地旋轉(zhuǎn)，利用被處理流動(dòng)體產(chǎn)生機(jī)械密封中用于密封的薄膜流體，與機(jī)械密封相反(不是將薄膜流體用于密封)，使該薄膜流體從第1處理用面1及第2處理用面2之間漏出，在兩面間1、2成為膜的被處理流動(dòng)體間，實(shí)現(xiàn)混合(反應(yīng))的處理，回收。通過(guò)上述劃時(shí)代的方法，可將兩處理用面1、2間的間隔調(diào)整為1 μ m至1mm，尤其是可進(jìn)行1 IOym的調(diào)整。在上述實(shí)施方式中，裝置內(nèi)構(gòu)成被密閉的流體的流路，利用在處理裝置的(第1被處理流動(dòng)體的)導(dǎo)入部側(cè)設(shè)置的流體壓力賦予結(jié)構(gòu)pl，對(duì)被處理流動(dòng)體加壓。另外，也可以不用這樣的流體壓力賦予結(jié)構(gòu)pl進(jìn)行加壓，而是通過(guò)被處理流動(dòng)體的流路被打開的裝置來(lái)實(shí)施。圖18至圖20表示這樣的處理裝置的一個(gè)實(shí)施方式。予以說(shuō)明的是，在該實(shí)施方式中，作為處理裝置，示例有具備從生成的物質(zhì)中除去液體、最終僅確保作為目的的固體(結(jié)晶)的功能的裝置。圖18(A)為處理裝置的簡(jiǎn)略縱剖面圖，圖18(B)是其局部切開擴(kuò)大剖面圖。圖19 是具備圖18所示的處理裝置的第1處理用部101的俯視圖。圖20是上述處理裝置的第1 及第2處理用部101、102的局部的主要部分簡(jiǎn)略縱剖面圖。該圖18至圖20中所示的裝置如上所述，在大氣壓下，投入作為處理對(duì)象的流體， 即被處理流動(dòng)體或搬送這樣的處理對(duì)象物的流體。予以說(shuō)明的是，圖18⑶及圖20中，為避免圖面的繁雜，省略了第2導(dǎo)入部d2而描述(也可看成不設(shè)有第2導(dǎo)入部d2的位置的剖面)。如圖18(A)所示，該流體處理裝置具備反應(yīng)裝置G及減壓泵Q。該反應(yīng)裝置G具備作為旋轉(zhuǎn)構(gòu)件的第1處理用部101 ；保持該處理用部101的第1托架111 ；作為相對(duì)于殼體被固定的構(gòu)件的第2處理用部102 ；固定該第2處理用部102的第2托架121 ；彈壓機(jī)構(gòu)103 ；動(dòng)壓發(fā)生機(jī)構(gòu)104(圖19(A))；使第1處理用部101與第1托架111 一同旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動(dòng)部；殼體106 ；供給(投入)第1被處理流動(dòng)體的第1導(dǎo)入部dl ；向減壓泵Q排出流體的排出部108。關(guān)于驅(qū)動(dòng)部省略其圖示。上述第1處理用部101及第2處理用部102分別是具有挖空?qǐng)A柱中心的形狀的環(huán)狀體。兩處理用部101、102是分別把兩處理用部101、102所呈圓柱的一個(gè)底面作為處理用面110、120的構(gòu)件。上述處理用面110、120具有被鏡面研磨的平坦部。在該實(shí)施方式中，第2處理用部102的處理用面120是整個(gè)面都實(shí)施了鏡面研磨的平坦面。另外，雖然使第1處理用部 101的處理用面110的整個(gè)面成為與第2處理用部102相同的平坦面，但是，如圖19(A)所示，在平坦面中，有多個(gè)溝槽112. . . 112。該溝槽112. . . 112以第1處理用部101所呈圓柱的中心為中心側(cè)，向圓柱的外周方向放射狀地延伸。有關(guān)上述第1及第2處理用部101、102的處理用面110、120的鏡面研磨，優(yōu)選表面粗糙度Ra為0. 01 1. 0 μ m。對(duì)于該鏡面研磨，更優(yōu)選Ra達(dá)到0. 03 0. 3 μ m。有關(guān)處理用部101、102的材質(zhì)，采用硬質(zhì)且可以鏡面研磨的材料。有關(guān)處理用部 101,102的該硬度，優(yōu)選為至少維式硬度1500以上。并且，優(yōu)選采用線膨脹系數(shù)小的原料或熱傳導(dǎo)高的原料。這是由于，在處理時(shí)產(chǎn)生熱量的部分與其他部分之間，如果膨脹率的差較大，就會(huì)發(fā)生變形，從而影響適當(dāng)間隔的確保。作為上述處理用部101、102的原料，尤其優(yōu)選采用以下物質(zhì)等SIC即碳化硅，其維式硬度為2000 2500 ；表面DLC即類鉆碳涂層的SIC，其中類鉆碳的維式硬度為3000 4000 ；WC即碳化鎢，其維式硬度為1800 ；表面施加了 DLC涂層的WCJi^2或以BTC、B4C為代表的硼系陶瓷，維式硬度為4000 5000。圖18所示的殼體106雖省略了底部的圖示，但是為有底的筒狀體，上方被上述第 2托架121覆蓋。第2托架121在其下面固定上述第2處理用部102，在上方設(shè)有上述導(dǎo)入部dl。導(dǎo)入部dl具有料斗170，該料斗170用于從外部投入流體、被處理物。雖未圖示，上述的驅(qū)動(dòng)部具備電動(dòng)機(jī)等動(dòng)力源以及從該動(dòng)力源接受動(dòng)力供給而旋轉(zhuǎn)的軸50。如圖18(A)所示，軸50配置于殼體106的內(nèi)部朝上下延伸。并且，軸50的上端部設(shè)有上述第1托架111。第1托架111是保持第1處理用部101的裝置，通過(guò)設(shè)置在上述軸 50上，使第1處理用部101的處理用面110與第2處理用部102的處理用面120相對(duì)應(yīng)。第1托架111為圓柱狀體，在上面中央固定有第1處理用部101。第1處理用部 101與第1托架111成為一體地被固定，相對(duì)于第1托架111不改變其位置。其它一方面，在第2托架121的上面中央形成有收容第2處理用部102的收容凹部 124。上述收容凹部IM具有環(huán)狀的橫剖面。第2處理用部102以與收容凹部124同心的方式收容在圓柱狀的收容凹部124內(nèi)。
該收容凹部124的結(jié)構(gòu)與圖1 (A)所示的實(shí)施方式相同(第1處理用部101對(duì)應(yīng)第1圓環(huán)10，第1托架111對(duì)應(yīng)第1托架11，第2處理用部102對(duì)應(yīng)第2圓環(huán)20，第2托架 121對(duì)應(yīng)第2托架21)。并且，該第2托架121具備上述彈壓機(jī)構(gòu)103。優(yōu)選彈壓機(jī)構(gòu)103使用彈簧等彈性體。彈壓機(jī)構(gòu)103與圖I(A)的接觸表面壓力賦予機(jī)構(gòu)4對(duì)應(yīng)，采用同樣結(jié)構(gòu)。S卩，彈壓機(jī)構(gòu)103推壓與第2處理用部102的處理用面120相反側(cè)的面、即底面，對(duì)位于第1處理用部 101側(cè)、即下方的第2處理用部102的各位置均等地彈壓。其它一方面，收容凹部124的內(nèi)徑大于第2處理用部102的外徑，由此，當(dāng)如上所述同心地配設(shè)時(shí)，在第2處理用部102的外周面102b與收容凹部124的內(nèi)周面之間，如圖 18(B)所示那樣，設(shè)定間隔tl。同樣，在第2處理用部102的內(nèi)周面10 與收容凹部124的中心部分22的外周面之間，如圖18(B)所示那樣，設(shè)定間隔t 2。上述間隔tl、t2分別用于吸收振動(dòng)及偏心舉動(dòng)，其大小以如下方式設(shè)定，即，大于等于能夠確保動(dòng)作的尺寸并且可以形成密封。例如，在第1處理用部101的直徑為IOOmm 至400_的情況下，優(yōu)選該間隔tl、t2分別為0. 05 0. 3_。第1托架111被一體地固定在軸50上，與軸50—起旋轉(zhuǎn)。另外，雖未圖示，但通過(guò)制動(dòng)器，第2處理用部102不會(huì)相對(duì)于第2托架121旋轉(zhuǎn)。但是，在兩處理用面110、120間， 為了確保處理所需要的0. 1 10微米的間隔、即如圖20(B)所示的微小間隔t，如圖18(B) 所示，在收容凹部124的底面、即頂部和第2處理用部102的頂部12 即上面之間，設(shè)有間隙t3。對(duì)于該間隙t3，與上述的間隔一起，考慮軸50振動(dòng)、延伸而設(shè)定。如上所述，通過(guò)間隔tl t3的設(shè)定，第1處理用部101，如圖18⑶所示，不僅在相對(duì)于第2處理用部102接近 分離的方向zl上可變，而且對(duì)于其處理用面110的傾斜方向z2也可變。S卩，在該實(shí)施方式中，彈壓機(jī)構(gòu)103和上述間隔tl t3構(gòu)成浮動(dòng)機(jī)構(gòu)，通過(guò)該浮動(dòng)機(jī)構(gòu)，至少第2處理用部102的中心及傾斜可以在從數(shù)微米至數(shù)毫米左右的很小量的范圍內(nèi)變動(dòng)。由此，吸收旋轉(zhuǎn)軸的芯振動(dòng)、軸膨脹、第1處理用部101的面振動(dòng)和振動(dòng)。對(duì)第1處理用部101的處理用面110所具有的上述溝槽112，進(jìn)一步詳細(xì)地說(shuō)明如下。溝槽112的后端到達(dá)第1處理用部101的內(nèi)周面101a，其前端朝著第1處理用部101 的外側(cè)y即外周面?zhèn)妊由?。該溝?12如圖19(A)所示，其橫截面積從環(huán)狀的第1處理用部101的中心χ側(cè)朝著第1處理用部101的外側(cè)y即外周面?zhèn)戎饾u減少。溝槽112的左右兩側(cè)面112a、112b的間隔wl從第1處理用部101的中心χ側(cè)朝著第1處理用部101的外側(cè)y即外周面?zhèn)戎饾u減小。并且，溝槽112的深度W2如圖19⑶ 所示，從第1處理用部101的中心χ側(cè)朝著第1處理用部101的外側(cè)y即外周面?zhèn)戎饾u減小。即，溝槽112的底112c從第1處理用部101的中心χ側(cè)朝著第1處理用部101的外側(cè) y即外周面?zhèn)戎饾u變淺。這樣，溝槽112的寬度及深度都朝著外側(cè)y即外周面?zhèn)戎饾u減小，使其橫截面積朝著外側(cè)y逐漸減小。并且，溝槽112的前端即y側(cè)成為終點(diǎn)。S卩，溝槽112的前端即y側(cè)不到達(dá)第1處理用部101的外周面101b，在溝槽112的前端與外周面IOlb之間，隔著外側(cè)平坦面113。該外側(cè)平坦面113為處理用面110的一部分。
在該圖19所示的實(shí)施方式中，上述溝槽112的左右兩側(cè)面112a、112b及底112c 構(gòu)成流路限制部。該流路限制部、第1處理用部101的溝槽112周圍的平坦部以及第2處理用部102的平坦部構(gòu)成動(dòng)壓發(fā)生機(jī)構(gòu)104。但是，也可僅對(duì)溝槽112的寬度及深度的其中任一方采用上述結(jié)構(gòu)，減小截面積。上述的動(dòng)壓發(fā)生機(jī)構(gòu)104通過(guò)在第1處理用部101旋轉(zhuǎn)時(shí)穿過(guò)兩處理用部101、 102間的流體，在兩處理用部101、102之間可確保所希望的微小間隔，在使兩處理用部101、 102分離的方向上產(chǎn)生作用力。通過(guò)這樣的動(dòng)壓的發(fā)生，可在兩處理用面110、120間產(chǎn)生 0. 1 10 μ m的微小間隔。這樣的微小間隔，雖可以根據(jù)處理的對(duì)象進(jìn)行調(diào)整選擇，但是，優(yōu)選1 6μπι，更優(yōu)選1 2μπι。在該裝置中，通過(guò)上述微小間隔，可以實(shí)現(xiàn)以往不可能的均勻的混合狀態(tài)(在伴有反應(yīng)的情況下均勻的反應(yīng))和生成微細(xì)的粒子。溝槽112... 112能夠以如下方式實(shí)施，S卩，筆直地從中心χ側(cè)朝向外側(cè)y延伸。但是，在該實(shí)施方式中，如圖19(A)所示，對(duì)于第1處理用部101的旋轉(zhuǎn)方向r，溝槽112的中心χ側(cè)以比溝槽112的外側(cè)y先行的方式、即位于前方的方式彎曲，使溝槽112延伸。通過(guò)這樣的溝槽112. . . 112彎曲地延伸，可更有效地通過(guò)動(dòng)壓發(fā)生機(jī)構(gòu)104產(chǎn)生分離力。接著，對(duì)該裝置的動(dòng)作進(jìn)行說(shuō)明。如圖18 (A)所示，從料斗170投入的、通過(guò)第1導(dǎo)入部dl的第1被處理流動(dòng)體R， 通過(guò)環(huán)狀的第2處理用部102的中空部，受到第1處理用部101的旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的離心力，進(jìn)入兩處理用部101、102間，在旋轉(zhuǎn)的第1處理用部101的處理用面110與第2處理用部102 的處理用面120之間，進(jìn)行均勻的混合(反應(yīng))、及根據(jù)情況的微細(xì)粒子的生成，隨后，來(lái)到兩處理用部101、102的外側(cè)，通過(guò)排出部108排出至減壓泵Q側(cè)(以下根據(jù)需要將第1被處理流動(dòng)體R僅稱為流體R)。在上述中，進(jìn)入到環(huán)狀第2處理用部102的中空部的流體R如圖20(A)所示，首先，進(jìn)入旋轉(zhuǎn)的第1處理用部101的溝槽112。其它一方面，被鏡面研磨的、作為平坦部的兩處理用面110、120即使通過(guò)空氣或氮?dú)獾葰怏w也維持氣密性。所以，即使受到旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的離心力，在該狀態(tài)下，流體R也不能夠從溝槽112進(jìn)入由彈壓機(jī)構(gòu)103壓合的兩處理用面110、120之間。但是，流體R與作為流路限制部而形成的溝槽112的上述兩側(cè)面112a、 112b及底112c慢慢地碰撞，產(chǎn)生作用于使兩處理用面110、120分離的方向上的動(dòng)壓。如圖20(B)所示，由此，流體R從溝槽112滲出到平坦面上，可確保兩處理用面110、120間的微小間隔t即間隙。而且，在這樣鏡面研磨了的平坦面之間，進(jìn)行均勻的混合(反應(yīng))及微細(xì)粒子的生成。并且，上述溝槽112的彎曲更為可靠地對(duì)流體作用離心力，更有效進(jìn)行上述的動(dòng)壓的產(chǎn)生。這樣，該流體處理裝置通過(guò)動(dòng)壓與彈壓機(jī)構(gòu)103所產(chǎn)生的彈壓力的平衡，能夠在兩鏡面即處理用面110、120間確保微細(xì)均勻的間隔即間隙。而且，通過(guò)上述結(jié)構(gòu)，該微小間隔可形成為1 μ m以下的超微細(xì)間隔。另外，通過(guò)采用上述浮動(dòng)機(jī)構(gòu)，處理用面110、120間的定位的自動(dòng)調(diào)整成為可能， 對(duì)于因旋轉(zhuǎn)及發(fā)熱所引起的各部分的物理變形，能夠抑制處理用面110、120間的各個(gè)位置的間隔的偏差，可維持該各個(gè)位置的上述微小間隔。予以說(shuō)明的是，在上述實(shí)施方式中，浮動(dòng)機(jī)構(gòu)是僅在第2托架121上設(shè)置的機(jī)構(gòu)。除此以外，還可以取代第2托架121，在第1托架111上也設(shè)置浮動(dòng)機(jī)構(gòu)，或者在第1托架 111與第2托架121上都設(shè)置浮動(dòng)機(jī)構(gòu)。圖21至圖23表示上述的溝槽112的其他實(shí)施方式。如圖21㈧⑶所示，溝槽112作為流路限制部的一部分，可在其前端具備平坦的壁面112d。并且，在該圖21所示的實(shí)施方式中，在底112c上，在第1壁面112d與內(nèi)周面 IOla之間設(shè)有臺(tái)階112e，該臺(tái)階11 也構(gòu)成流路限制部的一部分。如圖22(A) (B)所示，溝槽112可實(shí)施為，具有多個(gè)分叉的枝部112f. . . 112f，各枝部112f通過(guò)縮小其寬度而具有流路限制部。在圖21及圖22的實(shí)施方式中，特別是對(duì)于沒有示出的結(jié)構(gòu)，與圖1 (A)、圖11 (C)、 圖18至圖20中所示的實(shí)施方式相同。并且，在上述各實(shí)施方式中，對(duì)于溝槽112的寬度及深度的至少其中一方，從第1 處理用部101的內(nèi)側(cè)朝向外側(cè)，逐漸減小其尺寸，由此構(gòu)成流路限制部。此外，如圖23(A) 及圖23(B)所示，通過(guò)不變化溝槽112的寬度及深度在溝槽112中設(shè)置終端面112f，該溝槽 112的終端面112f也可以形成流路限制部。如圖19、圖21及圖22表示的實(shí)施方式所示， 動(dòng)壓產(chǎn)生以如下方式進(jìn)行，即，通過(guò)溝槽112的寬度及深度如前述那樣變化，使溝槽112的底及兩側(cè)面成為傾斜面，由此，該傾斜面成為相對(duì)于流體的受壓部，產(chǎn)生動(dòng)壓。其它一方面， 在圖23(A) (B)所示實(shí)施方式中，溝槽112的終端面成為相對(duì)于流體的受壓部，產(chǎn)生動(dòng)壓。另外，在該圖23(A) (B)所示的情況下，也可實(shí)施為一并使溝槽112的寬度及深度的至少其中一方的尺寸逐漸減小。予以說(shuō)明的是，關(guān)于溝槽112的結(jié)構(gòu)，并不限定于上述圖19、圖21至圖23所示的結(jié)構(gòu)，也可實(shí)施為具有其他形狀的流路限制部的結(jié)構(gòu)。例如，在圖19、圖21至圖23所示結(jié)構(gòu)中，溝槽112并不穿透到第1處理用部101 的外側(cè)。即，在第1處理用部101的外周面與溝槽112之間，存在外側(cè)平坦面113。但是，并不限定于上述實(shí)施方式，只要能產(chǎn)生上述的動(dòng)壓，溝槽112也可到達(dá)第1處理用部101的外周面?zhèn)?。例如，在圖23(B)所示的第1處理用部101的情況下，如虛線所示，可實(shí)施為，使剖面面積小于溝槽112的其他部位的部分形成于外側(cè)平坦面113上。另外，如上所述，以從內(nèi)側(cè)向外側(cè)逐漸減小截面積的方式形成溝槽112，使溝槽 112的到達(dá)第1處理用部101外周的部分(終端)形成最小截面積即可(未圖示)。但是， 為有效地產(chǎn)生動(dòng)壓，如圖19、圖21至圖23所示，優(yōu)選溝槽112不穿透第1處理用部101外周面?zhèn)?。在此，?duì)上述圖18至圖23所示的各種實(shí)施方式進(jìn)行總結(jié)。該處理裝置使具有平坦處理用面的旋轉(zhuǎn)構(gòu)件與同樣具有平坦處理用面的固定構(gòu)件以它們的平坦處理用面同心地相對(duì)，在一邊在旋轉(zhuǎn)構(gòu)件的旋轉(zhuǎn)下從固定構(gòu)件的開口部供給被反應(yīng)原料一邊從兩構(gòu)件的地向平面處理用面間進(jìn)行反應(yīng)處理的該處理裝置中，不是機(jī)械地調(diào)整間隔，而是在旋轉(zhuǎn)構(gòu)件中設(shè)置增壓機(jī)構(gòu)，能夠通過(guò)其產(chǎn)生的壓力來(lái)保持間隔，并且形成機(jī)械的間隔調(diào)整所不可能達(dá)到的1 6 μ m的微小間隔，混合(反應(yīng))的均勻化以及生成粒子的微細(xì)化能力及反應(yīng)的均勻化能力可顯著提高。S卩，在該流體處理裝置中，旋轉(zhuǎn)構(gòu)件與固定構(gòu)件在其外周部具有平坦處理用面，該平坦處理用面具有面上的密封功能，提供高速旋轉(zhuǎn)式的處理裝置，該高速旋轉(zhuǎn)式的處理裝置產(chǎn)生流體靜力學(xué)的力即流體靜力、流體動(dòng)力學(xué)的力即流體動(dòng)力、或者空氣靜力學(xué)-空氣動(dòng)力學(xué)的力。上述的力使上述密封面之間產(chǎn)生微小的間隔，并可提供具有如下功能的流體處理裝置，即，非接觸、機(jī)械安全、高度的混合(反應(yīng))的均勻化。能形成該微小間隔的要因，一個(gè)是旋轉(zhuǎn)構(gòu)件的旋轉(zhuǎn)速度，另一個(gè)是被處理物(流體)的投入側(cè)與排出側(cè)的壓力差所引起的。在投入側(cè)未設(shè)置壓力賦予機(jī)構(gòu)的情況即在大氣壓下投入被處理物(流體)的情況下，由于無(wú)壓力差，需要只依靠旋轉(zhuǎn)構(gòu)件的旋轉(zhuǎn)速度來(lái)產(chǎn)生密封面間的分離。這作為流體動(dòng)力學(xué)的力或空氣動(dòng)力學(xué)的力而已知。圖18(A)所示裝置中，雖表示為將減壓泵Q連接在上述混合裝置G的排出部，但也可如前面所述那樣實(shí)施為，不設(shè)置殼體106，且不設(shè)置減壓泵Q，而是如圖M(A)所示，將處理裝置作為減壓用的罐T，在該罐T中配設(shè)混合裝置G。在該情況下，通過(guò)使罐T內(nèi)減壓至真空或接近真空的狀態(tài)，混合裝置G中生成的被處理物成霧狀地噴射到罐T內(nèi)，通過(guò)回收碰到罐T的內(nèi)壁而流下的被處理物，或，回收相對(duì)于上述流下的被處理物作為氣體(蒸汽)被分離的、充滿罐T上部的物質(zhì)，可獲得處理后的目的物。另外，即使在使用減壓泵Q的情況下，如圖M (B)所示，混合裝置G經(jīng)由減壓泵Q連接氣密的罐T，由此在該罐T內(nèi)處理后的被處理物形成霧狀，可進(jìn)行目的物的分離 抽出。此外，如圖M (C)所示，減壓泵Q直接連接于罐T，在該罐T內(nèi)，連接減壓泵Q以及與減壓泵Q分開的流體R的排出部，可進(jìn)行目的物的分離。在該情況下，對(duì)于氣化部，液體 R(液狀部)被減壓泵Q吸引聚集，通過(guò)排出部排出，而不從汽化部排出。在上述各實(shí)施方式中，示出了將第1及第2的兩種被處理流動(dòng)體分別從第2托架 21、121及第2圓環(huán)20、102導(dǎo)入，使之混合(反應(yīng))。下面，對(duì)被處理流動(dòng)體向裝置導(dǎo)入的其他實(shí)施方式按順序進(jìn)行說(shuō)明。如圖I(B)所示，可實(shí)施為，在圖KA)所示的處理裝置中，設(shè)置第3導(dǎo)入部d3將第 3被處理流動(dòng)體導(dǎo)入兩處理用面1、2間，使其與第2被處理流動(dòng)體同樣地與第1被處理流動(dòng)體混合(反應(yīng))。第3導(dǎo)入部d3向處理用面1、2間供給與第1被處理流動(dòng)體混合的第3被處理流動(dòng)體。在該實(shí)施方式中，第3導(dǎo)入部d3是設(shè)在第2圓環(huán)20內(nèi)部的流體通道，其一端在第2 處理用面2上開口，其另一端連接第3流體供給部p3。在第3流體供給部p3中，可采用壓縮機(jī)、其他的泵。第3導(dǎo)入部d3在第2處理用面2上的開口部與第2導(dǎo)入部d2的開口部相比位于第1處理用面1的旋轉(zhuǎn)中心的外側(cè)。即，在第2處理用面2中，第3導(dǎo)入部d3的開口部較第2導(dǎo)入部d2的開口部位于下游側(cè)。在第3導(dǎo)入部d3的開口部與第2導(dǎo)入部d2的開口部之間，在第2圓環(huán)20的直徑的內(nèi)外方向上隔開間隔。該圖I(B)所示裝置中，第3導(dǎo)入部d3以外的構(gòu)成與圖ΚΑ)所示的實(shí)施方式相同。 予以說(shuō)明的是，在該圖I(B)及下面說(shuō)明的圖1(C)、圖1(D)、圖2 圖11中，為避免圖面的繁雜，省略了殼體3。予以說(shuō)明的是，在圖9(B) (C)、圖10、圖11㈧⑶中，描繪了殼體3的一部分。另外，如圖I(C)所示，可實(shí)施為，在圖I(B)所示處理裝置中，設(shè)置第4導(dǎo)入部d4，將第4被處理流動(dòng)體導(dǎo)入兩處理用面1、2間，使其與第2及第3被處理流動(dòng)體同樣地與第 1被處理流動(dòng)體混合(反應(yīng))。第4導(dǎo)入部d4向處理用面1、2間供給與第1被處理流動(dòng)體混合的第4被處理流動(dòng)體。在該實(shí)施方式中，第4導(dǎo)入部d4是設(shè)在第2圓環(huán)20內(nèi)部的流體通道，其一端在第2 處理用面2上開口，其另一端連接第4流體供給部p4。在第4流體供給部p4中，可采用壓縮機(jī)、其他的泵。第4導(dǎo)入部d4在第2處理用面2中的開口部較第3導(dǎo)入部d3開口部位于第1處理用面1的旋轉(zhuǎn)中心的外側(cè)。即，在第2處理用面2中，第4導(dǎo)入部d4的開口部較第3導(dǎo)入部d3的開口部位于下游側(cè)。對(duì)于圖I(C)所示裝置的第4導(dǎo)入部d4以外的結(jié)構(gòu)，與圖I(B)所示的實(shí)施方式相同。并且，雖未圖示，也可實(shí)施為，另外設(shè)置第5導(dǎo)入部、第6導(dǎo)入部等5個(gè)以上的導(dǎo)入部，分別使5種以上的被處理流動(dòng)體混合(反應(yīng))。另外，如圖I(D)所示，可實(shí)施為，在圖丄㈧的裝置中，將設(shè)置在第2托架21上的第1導(dǎo)入部dl與第2導(dǎo)入部d2同樣地設(shè)置在第2處理用面2上，以取代將其設(shè)置在第2 托架21上。在該情況下，在第2處理用面2中，第1導(dǎo)入部dl的開口部也較第2導(dǎo)入部d2 位于旋轉(zhuǎn)的中心側(cè)即上游側(cè)。在上述圖I(D)所示裝置中，第2導(dǎo)入部d2的開口部與第3導(dǎo)入部d 3的開口部一起配置在第2圓環(huán)20的第2處理用面2上。但是，導(dǎo)入部的開口部并不限于上述相對(duì)于處理用面的配置。特別是，可如圖2(A)所示，將第2導(dǎo)入部d2的開口部設(shè)置在第2圓環(huán)20 的內(nèi)周面的、與第2處理用面2鄰接的位置來(lái)實(shí)施。在該圖2(A)所示裝置中，第3導(dǎo)入部 d3的開口部雖與圖I(B)所示裝置同樣地配置在第2處理用面2上，但是，也可通過(guò)將第2 導(dǎo)入部d2的開口部配置在上述第2處理用面2的內(nèi)側(cè)，與第2處理用面2鄰接的位置，從而將第2被處理流動(dòng)體直接導(dǎo)入到處理用面。這樣通過(guò)將第1導(dǎo)入部dl的開口部設(shè)置在第2托架21上，將第2導(dǎo)入部d2的開口部配置在第2處理用面2的內(nèi)側(cè)，即與第2處理用面2鄰接的位置(在該情況下，設(shè)置上述第3導(dǎo)入部d3不是必須的)，特別是在使多個(gè)被處理流動(dòng)體反應(yīng)的情況下，能夠?qū)牡? 導(dǎo)入部dl導(dǎo)入的被處理流動(dòng)體與從第2導(dǎo)入部d2導(dǎo)入的被處理流動(dòng)體在不反應(yīng)的狀態(tài)下導(dǎo)入兩處理用面1、2間，并且可使兩者在兩處理用面1、2間初次發(fā)生反應(yīng)。因此，上述結(jié)構(gòu)特別適合于使用反應(yīng)性高的被處理流動(dòng)體的情況。予以說(shuō)明的是，上述的“鄰接”并不僅限于以下情況，即，將第2導(dǎo)入部d2的開口部如圖2(A)所示地以與第2圓環(huán)20的內(nèi)側(cè)側(cè)面接觸的方式設(shè)置。從第2圓環(huán)20至第2導(dǎo)入部d2的開口部的距離為以下程度即可，即，在多個(gè)的被處理流動(dòng)體被導(dǎo)入兩處理用面1、 2間以前不被混合(反應(yīng))的程度，例如，也可以設(shè)置在接近第2托架21的第2圓環(huán)20的位置。并且，也可以將第2導(dǎo)入部d2的開口部設(shè)置在第1圓環(huán)10或第1托架11側(cè)。另外，在上述的圖1 (B)所示裝置中，在第3導(dǎo)入部d3的開口部與第2導(dǎo)入部d2的開口之間，在第2圓環(huán)20的直徑的內(nèi)外方向隔開間隔，但也可實(shí)施為，如圖2 (B)所示，不設(shè)置這樣的間隔，將第2及第3被處理流動(dòng)體導(dǎo)入兩處理用面1、2間，立刻使兩流動(dòng)體合流。 根據(jù)處理的對(duì)象選擇上述圖2(B)所示裝置即可。
另外，對(duì)于上述的圖I(D)所示裝置，第1導(dǎo)入部dl的開口部與第2導(dǎo)入部d2的開口部之間，在第2圓環(huán)20直徑的內(nèi)外方向隔開了間隔，但也可實(shí)施為，不設(shè)置該間隔，而將第1及第2被處理流動(dòng)體導(dǎo)入兩處理用面1、2間，立刻使兩流動(dòng)體合流(沒有圖示)。根據(jù)處理的對(duì)象選擇這樣的開口部的配置即可。在上述的圖1 (B)及圖1 (C)所示實(shí)施方式中，在第2處理用面2中，將第3導(dǎo)入部 d3的開口部配置在第2導(dǎo)入部d2的開口部的下游側(cè)，換言之，在第2圓環(huán)20的直徑的內(nèi)外方向上，配置在第2導(dǎo)入部d2的開口部的外側(cè)。此外，如圖2(C)及圖3(A)所示，可在第 2處理用面2中，將第3導(dǎo)入部d3的開口部配置于在第2圓環(huán)20的周方向r0上與第2導(dǎo)入部d2開口部不同的位置來(lái)實(shí)施。在圖3中，ml表示第1導(dǎo)入部dl的開口部即第1開口部，m2表示第2導(dǎo)入部d2的開口部即第2開口部，m3表示第3導(dǎo)入部d3的開口部(第3 開口部)，rl為圓環(huán)直徑的內(nèi)外方向。另外，在將第1導(dǎo)入部dl設(shè)置在第2圓環(huán)20上的情況下，也可如圖2 (D)所示，在第2處理用面2中，將第1導(dǎo)入部dl的開口部配置于在第2圓環(huán)20的周方向與第2導(dǎo)入部d2的開口部不同的位置來(lái)實(shí)施。在上述圖3(A)所示裝置中，在第2圓環(huán)20的處理用面2中，2個(gè)導(dǎo)入部的開口部被配置在周方向rO的不同位置，但是，也可實(shí)施為，如圖3(B)所示，在圓環(huán)的周方向rO的不同位置配置3個(gè)導(dǎo)入部的開口部，或如圖3(C)所示，在圓環(huán)的周方向rO的不同位置配置 4個(gè)導(dǎo)入部的開口部。予以說(shuō)明的是，在圖3(B) (C)中，m4表示第4導(dǎo)入部的開口部，在圖 3(C)中，m5表示第5導(dǎo)入部的開口部。并且，雖未圖示，也可實(shí)施為，在圓環(huán)的周方向rO的不同位置配置5個(gè)以上的導(dǎo)入部的開口部。在上述所示裝置中，第2導(dǎo)入部至第5導(dǎo)入部，分別可導(dǎo)入不同的被處理流動(dòng)體， 即第2、第3、第4、第5被處理流動(dòng)體。其它一方面，可實(shí)施為，從第2 第5的開口部m2 m5，將全部同類的、即第2被處理流動(dòng)體導(dǎo)入處理用面間。雖未圖示，在該情況下，可實(shí)施為，第2導(dǎo)入部至第5導(dǎo)入部在圓環(huán)內(nèi)部連通，連接到一個(gè)流體供給部，即第2流體供給部 p2。另外，可以通過(guò)組合以下裝置來(lái)實(shí)施，S卩，在圓環(huán)的周方向rO的不同位置設(shè)置多個(gè)導(dǎo)入部的開口部的裝置，以及，在圓環(huán)的徑向即直徑的內(nèi)外方向r 1的不同位置設(shè)置多個(gè)導(dǎo)入部的開口部的裝置。例如，如圖3(D)所示，在第2處理用面2上設(shè)有8個(gè)導(dǎo)入部的開口部m2 m9，其中4個(gè)m2 m5設(shè)置在圓環(huán)的周方向rO的不同位置且徑向rl的相同位置，其他4個(gè)m6 m9設(shè)置在圓環(huán)的周方向rO的不同位置且徑向rl的相同位置。并且，該其它的開口部m6 m9,配置于對(duì)于徑向r 1上述4個(gè)開口部m2 m5的徑向的外側(cè)。另外，該外側(cè)的開口部，也可以分別設(shè)置于與內(nèi)側(cè)的開口部在圓環(huán)的周方向rO相同位置。但考慮圓環(huán)的旋轉(zhuǎn)，也可實(shí)施為，如圖3(D)所示，設(shè)置在圓環(huán)的周方向rO的不同位置。另外，在該情況下，對(duì)于開口部也不限于圖3(D)所示的配置、數(shù)量。例如，如圖3(E)所示，也可將徑向外側(cè)的開口部配置在多邊形的頂點(diǎn)位置，即該情況下的四邊形的頂點(diǎn)位置，將徑向內(nèi)側(cè)的開口部配置在該多邊形的邊上。當(dāng)然，也可采用其他的配置。另外，在第1開口部ml以外的開口部都將第2被處理流動(dòng)體導(dǎo)入處理用面間的情況下，可以實(shí)施為，各導(dǎo)入第2被處理流動(dòng)體的該開口部不是在處理用面的周方向rO上散布，而是如圖3 (F)所示，在周方向rO上形成連續(xù)的開口部。予以說(shuō)明的是，根據(jù)處理的對(duì)象，如圖4(A)所示，可實(shí)施為，在圖I(A)所示裝置中，將設(shè)置在第2圓環(huán)20上的第2導(dǎo)入部d2與第1導(dǎo)入部dl同樣地設(shè)置在第2托架21 的中央部分22。在該情況下，相對(duì)于位于第2圓環(huán)20的中心的第1導(dǎo)入部dl的開口部，第 2導(dǎo)入部d2的開口部位于其外側(cè)，并隔開間隔。并且，如圖4(B)所示，可實(shí)施為，在圖4(A) 所示裝置中，將第3導(dǎo)入部d3設(shè)置于第2圓環(huán)20。如圖4(C)所示，可實(shí)施為，在圖4(A)所示裝置中，第1導(dǎo)入部dl的開口部與第2導(dǎo)入部d2的開口部之間不設(shè)置間隔，將第1及第 2被處理流動(dòng)體導(dǎo)入第2圓環(huán)20內(nèi)側(cè)的空間后，立即使兩流動(dòng)體合流。另外，根據(jù)處理的對(duì)象，可實(shí)施為，如圖4(D)所示，在圖4(A)所示裝置中，和第2導(dǎo)入部d2相同，第3導(dǎo)入部 d3也設(shè)置在第2托架21上。雖未圖示，但是，也可實(shí)施為，在第2托架21上設(shè)置4個(gè)以上的導(dǎo)入部。并且，根據(jù)處理的對(duì)象，如圖5(A)所示，可實(shí)施為，在圖4(D)所示的裝置中，在第 2圓環(huán)20上設(shè)置第4導(dǎo)入部d4，將第4被處理流動(dòng)體導(dǎo)入兩處理用面1、2間。如圖5(B)所示，可實(shí)施為，在圖KA)所示裝置中，將第2導(dǎo)入部d2設(shè)置于第1圓環(huán)10，在第1處理用面1上具有第2導(dǎo)入部d2的開口部。如圖5(C)所示，可實(shí)施為，在圖5(B)所示裝置中，第1圓環(huán)10上設(shè)有第3導(dǎo)入部 d3，在第1處理用面1中，第3導(dǎo)入部d3的開口部配置在與第2導(dǎo)入部d2的開口部在對(duì)于第1圓環(huán)10的周方向不同的位置。如圖5(D)所示，可實(shí)施為，在圖5(B)所示裝置中，取代在第2托架21上設(shè)置第1 導(dǎo)入部dl，在第2圓環(huán)20上設(shè)置第1導(dǎo)入部dl，在第2處理用面2上配置第1導(dǎo)入部dl 的開口部。在該情況下，第1及第2導(dǎo)入部dl、d2的兩開口部在圓環(huán)直徑的內(nèi)外方向上配置在相同位置。另外，如圖6(A)所示，也可實(shí)施為，在圖I(A)所示裝置中，第3導(dǎo)入部d3設(shè)置于第1圓環(huán)10，第3導(dǎo)入部d3的開口部配置于第1處理用面1。在該情況下，第2及第3導(dǎo)入部d2、d3的兩開口部在圓環(huán)直徑的內(nèi)外方向上配置在相同位置。但是，也可以將上述兩開口部配置于對(duì)于圓環(huán)的直徑的內(nèi)外方向不同的位置。圖5(C)所示裝置中，雖然將第2及第3導(dǎo)入部d2、d3的兩開口部設(shè)置于對(duì)于第1 圓環(huán)10的直徑的內(nèi)外方向相同的位置、同時(shí)對(duì)于第1圓環(huán)10的周方向即旋轉(zhuǎn)方向設(shè)置在不同的位置，但是，也可在該裝置中，如圖6(B)所示，將第2及第3導(dǎo)入部d2、d3的兩開口部設(shè)置于對(duì)于第1圓環(huán)10的軸方向相同的位置、同時(shí)對(duì)于第1圓環(huán)10的直徑的內(nèi)外方向上設(shè)置在不同的位置來(lái)實(shí)施。在該情況下如圖6(B)所示，在第2及第3導(dǎo)入部d2、d3的兩開口部之間，在第1圓環(huán)10的直徑的內(nèi)外方向上預(yù)先隔開間隔來(lái)實(shí)施，另外，雖未圖示，也可實(shí)施為，不隔開該間隔，立即使第2被處理流動(dòng)體與第3被處理流動(dòng)體合流。另外，可實(shí)施為，如圖6 (C)所示，取代在第2托架21上設(shè)置第1導(dǎo)入部dl，而是與第2導(dǎo)入部d2 —起，將第1導(dǎo)入部dl設(shè)置在第1圓環(huán)10上。在該情況下，在第1處理用面1中，第1導(dǎo)入部dl的開口部設(shè)置在第2導(dǎo)入部d2的開口部的上游側(cè)(第1圓環(huán)10的直徑的內(nèi)外方向的內(nèi)側(cè))。在第1導(dǎo)入部dl的開口部與第2導(dǎo)入部d2的開口部之間，在第 1圓環(huán)10的直徑的內(nèi)外方向上預(yù)先間隔。但是，雖未圖示，也可不隔開該間隔地實(shí)施。
另外，可實(shí)施為，如圖6(D)所示，在圖6(C)所示裝置的第1處理用面1中，在第1 圓環(huán)10的周方向的不同位置，配置第1導(dǎo)入部dl及第2導(dǎo)入部d2的各個(gè)開口部。另外，雖未圖示，在圖6(C)⑶所示的實(shí)施方式中，可實(shí)施為，在第1圓環(huán)10上設(shè)置3個(gè)以上的導(dǎo)入部，在第2處理用面2中在周方向的不同位置，或者，在圓環(huán)直徑的內(nèi)外方向的不同位置，配置各開口部。例如，也可在第1處理用面1中采用第2處理用面2中所采用的圖3(B) 圖3(F)所示開口部的配置。如圖7(A)所示，可實(shí)施為，在圖I(A)所示裝置中，取代在第2圓環(huán)20上設(shè)置第2 導(dǎo)入部d2，在第1托架11上設(shè)置第2導(dǎo)入部d2。在該情況下，在被第1托架11上面的第 1圓環(huán)10所包圍的部位中，優(yōu)選在第1圓環(huán)10的旋轉(zhuǎn)的中心軸的中心配置第2導(dǎo)入部d2 的開口部。如圖7(B)所示，在圖7(A)所示的實(shí)施方式中，可將第3導(dǎo)入部d3設(shè)置于第2圓環(huán)20，將第3導(dǎo)入部d3的開口部配置于第2處理用面2。另外，如圖7 (C)所示，可實(shí)施為，取代在第2托架21上設(shè)置第1導(dǎo)入部dl，在第1 托架11上設(shè)置第1導(dǎo)入部dl。在該情況下，在被第1托架11上面的第1圓環(huán)10所包圍的部位中，優(yōu)選在第1圓環(huán)10的旋轉(zhuǎn)的中心軸上配置第1導(dǎo)入部dl的開口部。另外，在該情況下，如圖所示，可將第2導(dǎo)入部d2設(shè)置于第1圓環(huán)10，將其開口部配置在第1處理用面1 上。另外，雖未圖示，在該情況下，可將第2導(dǎo)入部d2設(shè)置于第2圓環(huán)20，在第2處理用面 2上配置其開口部。并且，如圖7(D)所示，可實(shí)施為，將圖7(C)所示的第2導(dǎo)入部d2與第1導(dǎo)入部dl 一起設(shè)置在第1托架11上。在該情況下，在被第1托架11上面的第1圓環(huán)10所包圍的部位中，配置第2導(dǎo)入部d2的開口部。另外，在該情況下，在圖7(C)中，也可把第2圓環(huán)20 上設(shè)置的第2導(dǎo)入部d2作為第3導(dǎo)入部d3。在上述圖1 圖7所示的各實(shí)施方式中，第1托架11及第1圓環(huán)10相對(duì)于第2托架21及第2圓環(huán)20旋轉(zhuǎn)。此外，如圖8(A)所示，在圖I(A)所示裝置中，在第2托架2上設(shè)置收到來(lái)自旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)部的旋轉(zhuǎn)力而旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)軸51，使第2托架21在與第1托架11相反的方向上旋轉(zhuǎn)來(lái)實(shí)施。對(duì)于旋轉(zhuǎn)軸51的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)部，也可以與使第1托架11的旋轉(zhuǎn)軸 50旋轉(zhuǎn)不同來(lái)設(shè)置，或者通過(guò)齒輪等動(dòng)力傳遞手段，從使第1托架11的旋轉(zhuǎn)軸50旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動(dòng)部收到動(dòng)力來(lái)實(shí)施。在該情況下，第2托架21與上述殼體分體地形成，并與第1托架11 同樣地可旋轉(zhuǎn)地收容在該殼體內(nèi)。并且，如圖8 (B)所示，可實(shí)施為，在圖8 (A)所示裝置中，取代在第2圓環(huán)20上設(shè)置第2導(dǎo)入部d2，與圖7(B)的裝置同樣，在第1托架11上設(shè)置第2導(dǎo)入部d2。另外，雖未圖示，也可實(shí)施為，圖8 (B)所示裝置中，在第2托架21上設(shè)置第2導(dǎo)入部d2，以取代在第1托架11上設(shè)置第2導(dǎo)入部d2。在該情況下，第2導(dǎo)入部d2與圖4(A) 的裝置相同。如圖8(C)所示，也可實(shí)施為，在圖8(B)所示裝置中，在第2圓環(huán)20上設(shè)置第 3導(dǎo)入部d3，將該導(dǎo)入部d3的開口部配制在第2處理用面2上。并且，如圖8(D)所示，也可實(shí)施為，不使第1托架11旋轉(zhuǎn)，僅旋轉(zhuǎn)第2托架21。雖未圖示，也可實(shí)施為，在圖I(B) 圖7所示的裝置中，第2托架21與第1托架11都旋轉(zhuǎn)， 或僅第2托架21單獨(dú)旋轉(zhuǎn)。如圖9 (A)所示，第2處理用部20為圓環(huán)，第1處理用部10不是圓環(huán)，而是與其他的實(shí)施方式的第1托架11同樣的、直接具有旋轉(zhuǎn)軸50并旋轉(zhuǎn)的構(gòu)件。在該情況下，將第1 處理用部10的上面作為第1處理用面1，該處理用面不是環(huán)狀，即不具備中空部分，形成一樣的平坦面。并且，在圖9(A)所示裝置中，與圖I(A)的裝置同樣，第2圓環(huán)20上設(shè)有第2 導(dǎo)入部d2，其開口部配置在第2處理用面2上。如圖9⑶所示，可實(shí)施為，在圖9(A)所示裝置中，第2托架21與殼體3獨(dú)立，在殼體3與該第2托架21之間，設(shè)置接觸表面壓力賦予機(jī)構(gòu)4，該接觸表面壓力賦予機(jī)構(gòu)4是使第2托架21向設(shè)有第2圓環(huán)20的第1處理用部10接近·分離的彈性體等。在該情況下，如圖9 (C)所示，第2處理用部20不形成圓環(huán)，作為相當(dāng)于上述第2托架21的構(gòu)件，可將該構(gòu)件的下面作為第2處理用面2而形成。并且，如圖10(A)所示，可實(shí)施為，在圖9(C) 所示裝置中，第1處理用部10也不形成圓環(huán)，與圖9 (A) (B)所示裝置一樣，在其他的實(shí)施方式中，將相當(dāng)于第1托架11的部位作為第1處理用部10，將其上面作為第1處理用面1。在上述各實(shí)施方式中，至少第1被處理流動(dòng)體是從第1處理用部10與第2處理用部20即第1圓環(huán)10與第2圓環(huán)20的中心部供給的，通過(guò)利用其他的被處理流動(dòng)體所進(jìn)行的處理，即混合(反應(yīng))后，被排出至其直徑的內(nèi)外方向的外側(cè)。此外，如圖10⑶所示，也可實(shí)施為，從第1圓環(huán)10及第2圓環(huán)20的外側(cè)朝向內(nèi)側(cè)供給第1被處理流動(dòng)體。在該情況下，如圖所示，以殼體3密封第1托架11及第2托架 21的外側(cè)，將第1導(dǎo)入部dl直接設(shè)置于該殼體3，在殼體的內(nèi)側(cè)，該導(dǎo)入部的開口部配置在與兩圓環(huán)10、20的對(duì)接位置相對(duì)應(yīng)的部位。并且，圖I(A)的裝置中，在設(shè)有第1導(dǎo)入部dl 的位置，即成為第1托架11的圓環(huán)1的中心的位置，設(shè)有排出部36。另外，夾著托架的旋轉(zhuǎn)的中心軸，在殼體的該開口部的相反側(cè)配置第2導(dǎo)入部d2的開口部。但是，第2導(dǎo)入部d2 的開口部與第1導(dǎo)入部dl的開口部相同，只要是在殼體的內(nèi)側(cè)并且配置在與兩圓環(huán)10、20 的對(duì)接位置相對(duì)應(yīng)的部位即可，而不限定為上述這樣的形成在第1導(dǎo)入部dl的開口部的相反側(cè)。該情況下，兩圓環(huán)10、20的直徑的外側(cè)成為上游，兩圓環(huán)10、20的內(nèi)側(cè)成為下游側(cè)。這樣，在將被處理流動(dòng)體的移動(dòng)從外側(cè)向內(nèi)側(cè)進(jìn)行的情況下，如圖16(E)所示，也可實(shí)施為，在第1處理用部10的第1處理用面1上，形成從第1處理用部10的外側(cè)向中心側(cè)延伸的槽狀的凹部13. . . 13。通過(guò)形成這樣的凹部13. . . 13，對(duì)于上述的平衡比K，優(yōu)選形成為100%以上的非平衡型。其結(jié)果為，旋轉(zhuǎn)時(shí)，上述的槽狀的凹部13. . . 13產(chǎn)生動(dòng)壓，兩處理用面1、2可以可靠地非接觸旋轉(zhuǎn)，避免接觸所產(chǎn)生的磨耗等危險(xiǎn)。在該圖16(E)所示的實(shí)施方式中，由被處理流動(dòng)體的壓力所產(chǎn)生的分離力，發(fā)生于凹部13的內(nèi)端13a。如圖10(C)所示，可實(shí)施為，在圖10(B)所示裝置中，對(duì)于設(shè)置于殼體3的側(cè)部的第2導(dǎo)入部d2，代替該位置而設(shè)置于第1圓環(huán)10，將其開口部配置于第1處理用面1。在該情況下，如圖10⑶所示，可實(shí)施為，第1處理用部10不作為圓環(huán)形成，與圖9 (A)、圖9 (B)、 圖10(A)所示裝置同樣，在其他實(shí)施方式中，將相當(dāng)于第1托架11的部位作為第1處理用部10，將其上面作為第1處理用面1，進(jìn)而，將第2導(dǎo)入部d2設(shè)置于該第1處理用部10內(nèi)， 將其開口部配置于第1處理用面1。如圖11 (A)所示，可實(shí)施為，在圖10⑶所示裝置中，第2處理用部20不形成圓環(huán)， 在其他的實(shí)施方式中，將相當(dāng)于第2托架21的構(gòu)件作為第2處理用部20，將其下面作為第2處理用面2。而且，可以實(shí)施為，將第2處理用部20作為與殼體3獨(dú)立的構(gòu)件，在殼體3 與第2處理用部20之間，與圖9 (B) (C)以及圖10(A)所示裝置同樣設(shè)有接觸表面壓力賦予機(jī)構(gòu)4。另外，如圖Il(B)所示，也可實(shí)施為，將圖11㈧所示裝置的第2導(dǎo)入部d2作為第 3導(dǎo)入部d3，另外設(shè)置第2導(dǎo)入部d2。在該情況下，在第2處理用面2中將第2導(dǎo)入部d2 的開口部相比第3導(dǎo)入部d3的開口部配置于下游側(cè)。上述的圖4所示的各裝置、圖5 (A)、圖7 (A)⑶(D)、圖8⑶(C)所示裝置是其他被處理流動(dòng)體在到達(dá)處理用面1、2間前對(duì)于第1被處理流動(dòng)體合流的裝置，不適合結(jié)晶、析出的反應(yīng)快速的物質(zhì)。但是，對(duì)于反應(yīng)速度慢的物質(zhì)則可采用這樣的裝置。對(duì)于適合于本申請(qǐng)發(fā)明涉及的方法的發(fā)明的實(shí)施的流體處理裝置，歸納如下。如上所述，該流體處理裝置具備流體壓力賦予結(jié)構(gòu)，該流體壓力賦予結(jié)構(gòu)對(duì)被處理流動(dòng)體賦予規(guī)定的壓力；第1處理用部10和第2處理用部20至少2個(gè)處理用部，該第1 處理用部10設(shè)于該規(guī)定的壓力的被處理流動(dòng)體流動(dòng)的被密封的流體流路中，該第2處理用部20相對(duì)于第1處理用部10能夠相對(duì)地接近分離；該第1處理用面1及第2處理用面2 的至少2個(gè)處理用面，第1處理用面1及第2處理用面2的至少2個(gè)處理用面在這些處理用部10、20中設(shè)置在相互對(duì)向的位置；旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，該旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)使第1處理用部10 與第2處理用部20相對(duì)地旋轉(zhuǎn)；在兩處理用面1、2之間，進(jìn)行至少2種被處理流動(dòng)體的混合的處理(在伴有反應(yīng)的情況下也進(jìn)行反應(yīng)的處理)。在第1處理用部10和第2處理用部20中至少第2處理用部20具備受壓面，并且該受壓面的至少一部分通過(guò)第2處理用面 2構(gòu)成，受壓面受到流體壓力賦予結(jié)構(gòu)賦予被處理流動(dòng)體的至少一方的壓力，產(chǎn)生在第2處理用面2從第1處理用面1分離的方向上使其移動(dòng)的力。而且，在該裝置中，在可接近分離且相對(duì)地旋轉(zhuǎn)的第1處理用面1與第2處理用面2之間受到上述的壓力的被處理流動(dòng)體通過(guò)，由此各被處理流動(dòng)體一邊形成規(guī)定厚度的薄膜流體一邊通過(guò)兩處理用面1、2間，由此在該被處理流動(dòng)體間生成所希望的混合狀態(tài)(反應(yīng))。另外，在該流體處理裝置中，優(yōu)選采用具備緩沖機(jī)構(gòu)的裝置，該緩沖機(jī)構(gòu)調(diào)整第1 處理用面1及第2處理用面2的至少一方的微振動(dòng)、定位。另外，在該流體處理裝置中，優(yōu)選采用具備位移調(diào)整機(jī)構(gòu)的裝置，該位移調(diào)整機(jī)構(gòu)調(diào)整第1處理用面1及第2處理用面2的一方或雙方的、由磨耗等引起的軸方向的位移，可維持兩處理用面1、2間的薄膜流體的厚度。并且，在該處理裝置中，作為上述的流體壓力賦予結(jié)構(gòu)，可采用對(duì)被處理流動(dòng)體施加一定的送入壓力的壓縮機(jī)等的加壓裝置。予以說(shuō)明的是，上述的加壓裝置采用能進(jìn)行送入壓力的增減的調(diào)整的裝置。因?yàn)椋?該加壓裝置需能將設(shè)定的壓力保持一定，但是，作為調(diào)整處理用面間的間隔的參數(shù)，也有必要能進(jìn)行調(diào)整。另外，在該流體處理裝置中，可以采用具有分離抑制部的裝置，該分離抑制部規(guī)定上述的第1處理用面1與第2處理用面2之間的最大間隔，抑制其以上的兩處理用面1、2 的分離。進(jìn)而另外，在該流體處理裝置中，可以采用具有接近抑制部的裝置，該接近抑制部規(guī)定上述第1處理用面1與第2處理用面2之間的最小間隔，抑制其以上的兩處理用面1、2的接近。進(jìn)而，在該流體處理裝置中，可以采用第1處理用面1與第2處理用面2雙方在相互相反的方向進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的裝置。另外，在該流體處理裝置中，可以采用具備溫度調(diào)整用的封套的裝置，該溫度調(diào)整用的封套調(diào)整上述第1處理用面1與第2處理用面2的一方或雙方的溫度。另外進(jìn)而，在該流體處理裝置中，優(yōu)選采用以下裝置上述第1處理用面1與第2 處理用面2的一方或雙方的至少一部分進(jìn)行了鏡面加工。在該流體處理裝置中，可以采用以下結(jié)構(gòu)上述第1處理用面1與第2處理用面2 的一方或雙方具有凹部。進(jìn)而，在該流體處理裝置中，優(yōu)選采用以下結(jié)構(gòu)作為使一方的被處理流動(dòng)體混合 (反應(yīng))的其它一方的被處理流動(dòng)體的供給手段，具有與一方的被處理流動(dòng)體的通道獨(dú)立的另外的導(dǎo)入路，在上述第1處理用面與第2處理用面的至少任意一方上，具有與上述另外的導(dǎo)入路相通的開口部，可以將從該另外的導(dǎo)入路送來(lái)的其它一方的被處理流動(dòng)體導(dǎo)入上述一方的被處理流動(dòng)體。另外，作為實(shí)施本申請(qǐng)發(fā)明的處理裝置具有流體壓力賦予結(jié)構(gòu)，該流體壓力賦予結(jié)構(gòu)對(duì)被處理流動(dòng)體賦予規(guī)定的壓力；第1處理用面1及第2處理用面2至少2個(gè)可相對(duì)的接近分離的處理用面，第1處理用面1及第2處理用面2與該規(guī)定壓力的被處理流動(dòng)體流過(guò)的被密封的流體流路連接；接觸表面壓力賦予機(jī)構(gòu)，該接觸表面壓力賦予機(jī)構(gòu)對(duì)兩處理用面1、2賦予接觸表面壓力；旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，該旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)使第1處理用面1及第2處理用面2相對(duì)旋轉(zhuǎn)；由于具有上述結(jié)構(gòu)，在兩處理用面1、2間，進(jìn)行至少2種的被處理流動(dòng)體的混合(反應(yīng))，采用以下的結(jié)構(gòu)在被賦予接觸表面壓力的同時(shí)相對(duì)旋轉(zhuǎn)的第1處理用面1及第2處理用面2之間，流過(guò)從流體壓力賦予結(jié)構(gòu)賦予了壓力的至少1種被處理流動(dòng)體，并且，通過(guò)流過(guò)另一種被處理流動(dòng)體，由此從流體壓力賦予結(jié)構(gòu)被賦予了壓力的上述一種被處理流動(dòng)體一邊形成規(guī)定厚度的薄膜流體，一邊通過(guò)兩處理用面1、2間，此時(shí)，該另一種被處理流動(dòng)體被混合，在被處理流動(dòng)體間，發(fā)生所希望的混合狀態(tài)(反應(yīng))。該接觸表面壓力賦予機(jī)構(gòu)可以構(gòu)成上述裝置中的調(diào)整微振動(dòng)、定位的緩沖機(jī)構(gòu)、 位移調(diào)整機(jī)構(gòu)來(lái)實(shí)施。進(jìn)而，作為實(shí)施本申請(qǐng)發(fā)明的處理裝置，可以采用以下裝置，S卩，該裝置具有第1 導(dǎo)入部，該第1導(dǎo)入部將混合(反應(yīng))的2種被處理流動(dòng)體中的至少一方的被處理流動(dòng)體導(dǎo)入該裝置；流體壓力賦予結(jié)構(gòu)P，該流體壓力賦予結(jié)構(gòu)P連接于第ι導(dǎo)入部并向該一方的被處理流動(dòng)體賦予壓力；第2導(dǎo)入部，該第2導(dǎo)入部將混合(反應(yīng))的2種被處理流動(dòng)體中的至少其他一方的被處理流動(dòng)體導(dǎo)入該裝置；至少2個(gè)處理用部，該至少2個(gè)處理用部為設(shè)置于該一方的被處理流動(dòng)體流過(guò)的被密封的流體流路的第1處理用部10和相對(duì)于第1處理用部10可相對(duì)接近分離的第2處理用部20 ；第1處理用面1及第2處理用面2至少2個(gè)處理用面，第1處理用面1及第2處理用面2在這些處理用部10、20中設(shè)置在相互對(duì)向的位置；托架21，該托架21以第2處理用面2露出的方式收容第2處理用部20 ；旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，該旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)使第1處理用部10與第2處理用部20相對(duì)旋轉(zhuǎn)；接觸表面壓力賦予機(jī)構(gòu)4，該接觸表面壓力賦予機(jī)構(gòu)4推壓第2處理用部20，使第2處理用面2相對(duì)于第1處理用面1處于壓接或接近的狀態(tài)；在兩處理用面1、2間，進(jìn)行被處理流動(dòng)體間的混合(反應(yīng))，上述托架21是不可動(dòng)體，在具有上述第1導(dǎo)入部的開口部的同時(shí)，對(duì)處理用面1、2間的間隙施加影響，第1處理用部10與第2導(dǎo)入部20的至少一方具有上述第2導(dǎo)入部的開口部， 第2處理用部20為環(huán)狀體，第2處理用面2相對(duì)于托架21滑動(dòng)，與第1處理用面1接近分離，第2處理用部20具有受壓面，受壓面受到流體壓力賦予結(jié)構(gòu)ρ賦予被處理流動(dòng)體的壓力，在使第2處理用面2從第1處理用面1分離的方向上產(chǎn)生使其移動(dòng)的力，上述受壓面的至少一部分由第2處理用面2構(gòu)成，在可接近分離且相對(duì)旋轉(zhuǎn)的第1處理用面1與第2處理用面2之間，被賦予了壓力的一方的被處理流動(dòng)體通過(guò)，同時(shí)，通過(guò)將其它一方的被處理流動(dòng)體供給到兩處理用面1、2間，兩被處理流動(dòng)體一邊形成規(guī)定厚度的薄膜流體一邊通過(guò)兩處理用面1、2間，通過(guò)中的被處理流動(dòng)體被混合，從而促進(jìn)被處理流動(dòng)體間的所希望的混合(反應(yīng))，通過(guò)接觸表面壓力賦予機(jī)構(gòu)4的接觸表面壓力與流體壓力賦予結(jié)構(gòu)ρ所賦予的流體壓力的使兩處理用面1、2間分離的力的平衡，在兩處理用面1、2間保持產(chǎn)生上述規(guī)定厚度的薄膜流體的微小間隔。該處理裝置中，也可實(shí)施為，第2導(dǎo)入部也與連接于第1導(dǎo)入部一樣地連接于另外的流體壓力賦予結(jié)構(gòu)，從而被加壓。并且，也可實(shí)施為，從第2導(dǎo)入部導(dǎo)入的被處理流動(dòng)體不是被另外的流體壓力賦予結(jié)構(gòu)加壓，而是被第2導(dǎo)入部中產(chǎn)生的負(fù)壓吸引并供給到兩處理用面1、2間，上述負(fù)壓是由第1導(dǎo)入部所導(dǎo)入的被處理流動(dòng)體的流體壓力所產(chǎn)生的。并且，也可實(shí)施為，該其它一方的被處理流動(dòng)體在第2導(dǎo)入部?jī)?nèi)通過(guò)其自重移動(dòng)，即從上方流向下方，從而被供給至處理用面1、2間。如上所述，不僅限于將第1導(dǎo)入部的開口部設(shè)置在第2托架上，也可將第1導(dǎo)入部的該開口部設(shè)置在第1托架上，上述第1導(dǎo)入部的開口部成為一方的被處理流動(dòng)體的向裝置內(nèi)的供給口。另外，也可實(shí)施為，將第1導(dǎo)入部的該開口部形成在兩處理用面的至少一方。但是，在以下情況下，即，根據(jù)反應(yīng)，有必要從第1導(dǎo)入部供給必須先導(dǎo)入處理用面1、2 之間的被處理流動(dòng)體的情況下，形成其它一方的被處理流動(dòng)體的裝置內(nèi)的供給口的第2導(dǎo)入部的開口部無(wú)論位于哪一個(gè)處理用面，相比上述第1導(dǎo)入部的開口部都必須配置在下游側(cè)的位置。并且，作為用于實(shí)施本申請(qǐng)發(fā)明的處理裝置，可采用以下的裝置。該處理裝置具有多個(gè)的導(dǎo)入部，該多個(gè)的導(dǎo)入部分別導(dǎo)入混合(反應(yīng))的2種以上的被處理流動(dòng)體；流體壓力賦予結(jié)構(gòu)P，該流體壓力賦予結(jié)構(gòu)對(duì)該2種以上的被處理流動(dòng)體的至少一種賦予壓力；至少2個(gè)處理用部，該至少2個(gè)處理用部是設(shè)置在該被處理流動(dòng)體流動(dòng)的被密封的流體流路中的第1處理用部10與可相對(duì)于第1處理用部10接近分離的第 2處理用部20 ；第1處理用面1及第2處理用面2至少2個(gè)處理用面1、2，該第1處理用面 1及第2處理用面2設(shè)置在這些處理用部10、20中相互面對(duì)的位置；旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，該旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)使第1處理用部10與第2處理用部20相對(duì)旋轉(zhuǎn)；在兩處理用面1、2之間，進(jìn)行被處理流動(dòng)體間的混合(反應(yīng))，在第1處理用部10與第2處理用部20中，至少第2處理用部20具有受壓面，并且，該受壓面的至少一部分由第2處理用面2構(gòu)成，受壓面受到流體壓力賦予結(jié)構(gòu)施加于被處理流動(dòng)體的壓力，在使第2處理用面2從第1處理用面1分離方向上產(chǎn)生使其移動(dòng)的力，并且，第2處理用部20具有朝向與第2處理用面2相反側(cè)的接近用調(diào)整面對(duì)，接近用調(diào)整方面M受到施加在被處理流動(dòng)體上的規(guī)定的壓力，在使第2處理用面2向第1處理用面1接近的方向上產(chǎn)生使其移動(dòng)的力，通過(guò)上述接近用調(diào)整面M的接近分離方向的投影面積與上述受壓面的接近分離方向的投影面積的面積比，決定第2處理用面2相對(duì)于第1處理用面1向分離方向移動(dòng)的力，該力作為從被處理流動(dòng)體所受到的全壓力的合力，被賦予了壓力的被處理流動(dòng)體在可接近分離且相對(duì)旋轉(zhuǎn)的第1處理用面1與第2 處理用面2之間通過(guò)，在該被處理流動(dòng)體中混合(反應(yīng))的其他被處理流動(dòng)體在兩處理用面間被混合，被混合的被處理流動(dòng)體一邊形成規(guī)定厚度的薄膜流體一邊通過(guò)兩處理用面1、 2之間，從而在通過(guò)處理用面間的過(guò)程中獲得希望的產(chǎn)物。另外，對(duì)本申請(qǐng)發(fā)明的處理方法歸納如下。該處理方法為賦予第1被處理流動(dòng)體規(guī)定的壓力，將第1處理用面1及第2處理用面2至少2個(gè)可相對(duì)接近分離的處理用面連接于接受上述規(guī)定壓力的被處理流動(dòng)體所流動(dòng)且被密封的流體流路，施加使兩處理用面1、 2接近的接觸表面壓力，使第1處理用面1與第2處理用面2相對(duì)地旋轉(zhuǎn)，且將被處理流動(dòng)體導(dǎo)入該處理用面1、2之間，通過(guò)與上述分開的流路，將與該被處理流動(dòng)體混合(反應(yīng))的第2被處理流動(dòng)體導(dǎo)入上述處理用面1、2間，使兩被處理流動(dòng)體混合(反應(yīng))，至少將施加于第1被處理流動(dòng)體的上述規(guī)定的壓力作為使兩處理用面1、2分離的分離力，通過(guò)使該分離力與上述接觸表面壓力經(jīng)由處理用面1、2之間的被處理流動(dòng)體達(dá)到平衡，從而在兩處理用面1、2間維持為規(guī)定的微小間隔，被處理流動(dòng)體成為規(guī)定厚度的薄膜流體而通過(guò)兩處理用面1、2間，在該通過(guò)過(guò)程中均勻地進(jìn)行兩被處理流動(dòng)體的混合(反應(yīng))，在伴有析出的反應(yīng)的情況下，可使所希望的反應(yīng)產(chǎn)物結(jié)晶或析出。以下，對(duì)本申請(qǐng)發(fā)明的其他實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。圖25是在可接近·分離的、至少一方相對(duì)于其它一方旋轉(zhuǎn)的處理用面之間對(duì)被處理物進(jìn)行處理的流體處理裝置的略化俯視圖。圖沈的(A)為圖25所示裝置的第1處理用面的簡(jiǎn)略化俯視圖，(B)為圖25所示裝置的處理用面的主要部分的放大圖。圖27的(A)為第2導(dǎo)入部的剖面圖，(B)是用于說(shuō)明第2導(dǎo)入路的處理用面的主要部分的放大圖。在圖25中，U表示上方，S表示下方。圖^(A)、圖27(B)中R表示旋轉(zhuǎn)方向。在圖27⑶中，C表示離心力的方向(半徑方向)。該裝置使用至少2種流體，其中至少1種流體含有至少1種被處理物，在可接近 分離的相互面對(duì)地配設(shè)、至少一方相對(duì)于其它一方旋轉(zhuǎn)的處理用面之間，使上述的各流體合流而形成薄膜流體，在該薄膜流體中使上述的被處理物反應(yīng)。予以說(shuō)明的是，上述的 “處理”，不限于被處理物反應(yīng)的形式，也包含不伴有反應(yīng)地僅僅進(jìn)行混合·分散。如圖25所示，該裝置具有第1托架11、在第1托架11的上方配置的第2托架21、 流體壓力賦予結(jié)構(gòu)P、及接觸表面壓力賦予機(jī)構(gòu)。接觸表面壓力賦予機(jī)構(gòu)由彈簧43及空氣導(dǎo)入部44構(gòu)成。在第1托架11上設(shè)有第1處理用部10及旋轉(zhuǎn)軸50。第1處理用部10是稱為配合環(huán)的環(huán)狀體，具有被鏡面加工的第1處理用面1。旋轉(zhuǎn)軸50以螺栓等的固定件81固定在第1托架11的中心，其后端與電動(dòng)機(jī)等的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置82 (旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu))連接，將旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置82的驅(qū)動(dòng)力傳遞給第1托架11而使該第1托架11旋轉(zhuǎn)。第1處理用部10與上述第1托架11成為一體而進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。在第1托架11的上部，設(shè)有可以收容第1處理用部10的收容部，通過(guò)嵌入該收容部?jī)?nèi)，第1處理用部10安裝在第1托架11上。并且，第1處理用部10通過(guò)止轉(zhuǎn)銷83固定，從而不相對(duì)于第1托架11旋轉(zhuǎn)。但是，也可以取代止轉(zhuǎn)銷83，以熱壓配合等方法固定，從而使其不旋轉(zhuǎn)。上述第1處理用面1從第1托架11露出，朝向第2托架21。第1處理用面的材質(zhì)采用陶瓷或燒成金屬；耐磨鋼；對(duì)其他金屬實(shí)施了固化處理的材料；對(duì)硬質(zhì)材料實(shí)施了內(nèi)襯、涂覆、鍍敷的材料。在第2托架21上設(shè)有第2處理用部20 ；從處理用部?jī)?nèi)側(cè)導(dǎo)入流體的第1導(dǎo)入部 dl ；作為接觸表面壓力賦予機(jī)構(gòu)的彈簧43 ；以及，空氣導(dǎo)入部44。第2處理用部20是稱為壓縮環(huán)的環(huán)狀體，具有被鏡面加工過(guò)的第2處理用面2以及受壓面23 (以下稱其為分離用調(diào)整面23)，該受壓面23位于第2處理用面2的內(nèi)側(cè)并與該第2處理用面2鄰接。如圖所示，該分離用調(diào)整面23為傾斜面。對(duì)第2處理用面2所施加的鏡面加工采用與上述的第1處理用面1相同的方法。另外，對(duì)于第2處理用部20的材質(zhì)采用與上述的第1處理用部10相同的材質(zhì)。分離用調(diào)整面23與環(huán)狀的第2處理用部20 的內(nèi)周面25鄰接。在第2托架21的底部(下部)，形成圓環(huán)收容部41，0形圓環(huán)與第2處理用部20 一起被收容在該圓環(huán)收容部41內(nèi)。并且，通過(guò)止轉(zhuǎn)銷84，第2處理用部20相對(duì)于第2托架21不旋轉(zhuǎn)地被收容。上述第2處理用面2從第2托架21露出。在該狀態(tài)下，第2處理用面2與第1處理用部10的第1處理用面1面對(duì)。該第2托架21所具有的圓環(huán)收容部41是收容第2圓環(huán)20的、主要是處理用面2 側(cè)的相反側(cè)的部位的凹部，在俯視時(shí)，為形成環(huán)狀的溝槽。圓環(huán)收容部41以大于第2圓環(huán)20的尺寸的方式形成，在與第2圓環(huán)20之間具有充分的間隔，收容第2圓環(huán)20。通過(guò)該間隔，該第2處理用部20以能夠在收容部41的軸向以及在與該軸向交叉的方向位移的方式收容在該圓環(huán)收容部41內(nèi)。并且，該第2處理用部20以能夠以如下可位移的方式被收容，即，相對(duì)于圓環(huán)收容部41，使第2處理用部20的中心線(軸方向)與上述圓環(huán)收容部41的軸方向不平行。至少在第2托架21的圓環(huán)收容部41中設(shè)有作為處理用部彈壓部的彈簧43。彈簧43將第2處理用部20朝著第1處理用部10彈壓。并且，作為其他的彈壓方法，也可使用空氣導(dǎo)入部44等供給空氣壓或其他流體壓力的加壓手段，將第2托架21保持的第2處理用部20朝著接近第1處理用部10的方向彈壓。彈簧43及空氣導(dǎo)入部44等的接觸表面壓力賦予機(jī)構(gòu)將第2處理用部20的周方向的各位置(處理用面的各位置)均等地朝著第1處理用部10彈壓。在該第2托架21的中央設(shè)有上述第1導(dǎo)入部dl，從第1導(dǎo)入部dl朝著處理用部外周側(cè)被壓送的流體首先被導(dǎo)入以下空間內(nèi)，即，該第2托架21保持的第2處理用部20、 第1處理用部10及保持該第1處理用部10的第1托架11所圍的空間內(nèi)。并且，在使第2 處理用部20克服彈壓部的彈壓而從第1處理用部10分離的方向上，在第2處理用部20中設(shè)置的受壓面23上，受到來(lái)自流體壓力賦予結(jié)構(gòu)P所產(chǎn)生的上述流體的輸送壓力(供給壓力)。予以說(shuō)明的是，在其他位置由于簡(jiǎn)略說(shuō)明，僅對(duì)受壓面23加以說(shuō)明，但是，正確而言，如圖四(A) (B)所示，與上述受壓面23 —起，在相對(duì)于與后述溝槽狀凹部13的第2處理用部20的軸方向投影面中，將未設(shè)有上述受壓面23的部分23X也作為受壓面，受到流體壓力賦予結(jié)構(gòu)P所產(chǎn)生的上述流體的輸送壓力(供給壓力)。也可實(shí)施為，不設(shè)置上述受壓面23。在該情況下，如圖^(A)所示，也可使用通過(guò)第1處理用面1旋轉(zhuǎn)而獲得的處理用面間的被處理流動(dòng)體的導(dǎo)入效果(微泵效果)，上述第1處理用面1具有溝槽狀凹部13，該溝槽狀凹部13具有接觸表面壓力賦予機(jī)構(gòu)的功能。 這里的微泵效果是指，通過(guò)第1處理用面1的旋轉(zhuǎn)，凹部?jī)?nèi)的流體具有速度地向凹部13的外周方向前端前進(jìn)，接著，送入凹部13的前端的流體另外受到來(lái)自凹部13的內(nèi)周方向的壓力，最終形成使處理用面分離的方向上的壓力，同時(shí)具有將流體導(dǎo)入處理用面間的效果。并且，即使在不旋轉(zhuǎn)的情況下，設(shè)置于第1處理用面1的凹部13內(nèi)的流體所受壓力最終作用在第2處理用面2上，該第2處理用面2作為作用于分離側(cè)的受壓面。對(duì)于設(shè)置于處理用面的凹部13，可對(duì)應(yīng)于含被處理物及產(chǎn)物的流體的物理性能來(lái)實(shí)施其深度、相對(duì)于處理用面在水平方向的總面積、條數(shù)、及形狀。予以說(shuō)明的是，可實(shí)施為，將上述受壓面23與上述凹部13—同設(shè)置在一個(gè)裝置內(nèi)。該凹部13，對(duì)于深度是1 μ m 50 μ m，優(yōu)選為3 μ m 20 μ m，且為設(shè)置于上述處理用面上的凹部，沒有特別限定，相對(duì)于處理用面在水平方向的總面積相對(duì)于處理用面整體為5% 50%，優(yōu)選為15% 25%，并且，其條數(shù)沒有特別限定，為3 50條，優(yōu)選為8 24條，形狀為在處理用面上的彎曲或螺旋狀延伸的形狀，或者為呈L字形彎折的形狀，并且，其深度具有坡度，從高粘度區(qū)域到低粘度區(qū)域，即使在利用微泵效果導(dǎo)入的流體含有固體的情況下，也可將流體穩(wěn)定地導(dǎo)入處理用面之間。另外，設(shè)置于處理用面的凹部13也可以在導(dǎo)入側(cè)即處理用面內(nèi)側(cè)各凹部彼此連接、也可以彼此斷開。如上所述，使受壓面23為傾斜面。該傾斜面(受壓面23)以如下方式形成，即，以被處理流動(dòng)體的流動(dòng)方向?yàn)榛鶞?zhǔn)的上游側(cè)端部的、與設(shè)有凹部13的處理用部的處理用面相對(duì)的軸方向的距離，比下游側(cè)端部的同一距離大。而且，優(yōu)選該傾斜面的以被處理流動(dòng)體的流動(dòng)方向?yàn)榛鶞?zhǔn)的下游側(cè)端部設(shè)置在上述凹部13的軸方向投影面上。具體來(lái)說(shuō)，如圖觀(幻所示，使上述傾斜面(受壓面2 的下游側(cè)端部60設(shè)置在上述凹部13的軸方向投影面上。優(yōu)選上述傾斜面相對(duì)于第2處理用面2的角度θ 1在0.1° 至85°的范圍，更優(yōu)選在10°至55°的范圍，進(jìn)一步優(yōu)選在15°至45°的范圍。該角度 θ 1可根據(jù)被處理物的處理前的形狀予以適當(dāng)變更。另外，上述傾斜面的下游側(cè)端部60設(shè)置在以下區(qū)域內(nèi)，即，從向下游側(cè)與第1處理用面1上設(shè)置的凹部13的上游側(cè)端部13-b離開0. Olmm的位置開始，到向上游側(cè)與下游側(cè)端部13-c離開0. 5mm的位置為止的區(qū)域內(nèi)。更優(yōu)選的是，設(shè)置在以下區(qū)域內(nèi)，即，從向下游側(cè)與上游側(cè)端部13-b離開0. 05mm的位置開始， 到向上游側(cè)與下游側(cè)端部13-c離開1. Omm的位置為止的區(qū)域內(nèi)。與上述傾斜面的角度相同，對(duì)于該下游側(cè)端部60的位置，可根據(jù)被處理物的形狀予以適當(dāng)變更。另外，如圖^(B) 所示，傾斜面(受壓面2 可實(shí)施為弧形面。由此，可更均勻地進(jìn)行被處理物的導(dǎo)入。凹部13除如上述那樣連接之外，也可實(shí)施為間斷的形式。在間斷的情況下，間斷的凹部13的、第1處理用面1的最內(nèi)周側(cè)的上游側(cè)端部形成上述13-b ；同樣，第1處理用面1的最外周側(cè)的上游側(cè)端部形成上述13-c。另外，雖然在上述說(shuō)明中將凹部13形成于第1處理用面1，將受壓面23形成于第 2處理用面2，但是，相反地，也可實(shí)施為，將凹部13形成于第2處理用面2，將受壓面23形成于第1處理用面1。進(jìn)一步，通過(guò)將凹部13形成在第1處理用面1與第2處理用面2兩方，并將凹部 13與受壓面23交替地設(shè)置于各處理用面1、2的周方向，由此，形成于第1處理用面1的凹部13與形成于第2處理用面2的受壓面23可對(duì)向，同時(shí)，形成于第1處理用面1的受壓面 23與形成于第2處理用面2的凹部13可對(duì)向。在處理用面中，也可實(shí)施與凹部13不同的溝槽。作為具體的實(shí)例，如圖16(F)、圖 16(G)所示，在較凹部13的徑向外側(cè)(圖16(F))或徑向內(nèi)側(cè)(圖16(G))，可實(shí)施放射狀延伸的新的凹部14。其有利于想延長(zhǎng)在處理用面間的停留時(shí)間的情況、處理高粘稠物的流體的情況。予以說(shuō)明的是，關(guān)于與凹部13不同的溝槽，并不對(duì)形狀、面積、條數(shù)、深度作特別限定?？筛鶕?jù)目的實(shí)施該溝槽。在上述的第2處理用部20中，與被導(dǎo)入上述處理用面的流體的流路獨(dú)立，形成具有與處理用面間相通的開口部d20的第2導(dǎo)入部d2。具體而言，第2導(dǎo)入部d2如圖27(A)所示，從上述的第2處理用面2的開口部d20 開始的導(dǎo)入方向相對(duì)于第2處理用面2以規(guī)定的仰角(θ 1)傾斜。該仰角(θ 1)被設(shè)定為大于0度小于90度，并且，在反應(yīng)速度為迅速反應(yīng)的情況下，優(yōu)選設(shè)置為1度以上45度以下。另外，如圖27(B)所示，從上述的第2處理用面2的開口部d20開始的導(dǎo)入方向在沿上述第2處理用面2的平面內(nèi)具有方向性。該第2流體的導(dǎo)入方向的處理用面的半徑方向的成分為從中心遠(yuǎn)離的外方向，并且，與旋轉(zhuǎn)的處理用面間的流體的旋轉(zhuǎn)方向相對(duì)的成分為正向。換言之，以通過(guò)開口部d20的半徑方向、即外方向的線段作為基準(zhǔn)線g，從該基準(zhǔn)線g向旋轉(zhuǎn)方向R具有規(guī)定的角度(θ 2)。即使對(duì)于該角度(Θ2)，也設(shè)定為大于0度小于90度，朝向圖27(B)的網(wǎng)線部分， 從開口部d20排出。并且，在反應(yīng)速度快的反應(yīng)的情況下，該角度(Θ2)為小角度為宜，在反應(yīng)速度慢的反應(yīng)的情況下，優(yōu)選該角度(θ 2)設(shè)定為大角度。另外，該角度可根據(jù)流體的種類、反應(yīng)速度、粘度、處理用面的旋轉(zhuǎn)速度等各種條件進(jìn)行變更來(lái)實(shí)施。開口部d20的口徑優(yōu)選為0. 2μπι 3000μπι，更優(yōu)選為ΙΟμπι ΙΟΟΟμπι。另夕卜， 實(shí)質(zhì)上，在開口部d20的直徑不影響流體的流動(dòng)的情況下，第2導(dǎo)入部d2的直徑設(shè)置在該范圍內(nèi)即可。另外，在要求直線傳播性的情況下，及要求擴(kuò)散性的情況下，優(yōu)選使開口部d20 的形狀等變化，其可根據(jù)流體的種類、反應(yīng)速度、粘度、處理用面的旋轉(zhuǎn)速度等各種條件變更來(lái)實(shí)施。進(jìn)而，上述另外的流路的開口部d20，可設(shè)置在以下點(diǎn)的外徑側(cè)，S卩，利用設(shè)置在第 1處理用面1的凹部的微泵效果導(dǎo)入時(shí)的流動(dòng)方向變換為在處理用面間形成的螺旋狀層流的流動(dòng)方向的點(diǎn)。即，圖26(B)中，優(yōu)選從第1處理用面1上設(shè)置的凹部13的處理用面徑向最外側(cè)開始的、向徑向外側(cè)的距離η為0.5mm以上。并且，在對(duì)相同流體設(shè)置多個(gè)開口部的情況下，優(yōu)選設(shè)置在同心圓上。另外，在對(duì)不同流體設(shè)置多個(gè)開口部的情況下，優(yōu)選設(shè)置在半徑不同的同心圓上。(1)A+B —COK+D —E這樣的反應(yīng)依次實(shí)行，A+B+C —F這樣本來(lái)不應(yīng)該同時(shí)反應(yīng)的反應(yīng)發(fā)生、效率良好地不接觸被處理物，有效地避免反應(yīng)不進(jìn)行這樣的問(wèn)題。
另外，可實(shí)施為，將上述處理用部浸入流體中，將在上述處理用面間混合(反應(yīng)) 得到的流體直接投入到在處理用部的外部的液體或空氣以外的氣體中。并且也可將超聲波能施加在剛剛從處理用面間或處理用面被排出的被處理物上。接著，為了在上述第1處理用面1與第2處理用面2之間、即處理用面間產(chǎn)生溫度差，在第1處理用部10及第2處理用部20的至少一個(gè)上設(shè)置調(diào)溫機(jī)構(gòu)(溫度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)) J1、J2，對(duì)該情況進(jìn)行說(shuō)明。雖然該調(diào)溫機(jī)構(gòu)沒有特別的限定，但是，在以冷卻為目的的情況下，將冷卻部設(shè)置于處理用部10、20。具體而言，將作為調(diào)溫用介質(zhì)的冰水、各種冷媒所通過(guò)的配管或者珀?duì)柼饶軌螂姎饣蚧瘜W(xué)地進(jìn)行冷卻作用的冷卻元件安裝于處理用部10、20。在以加熱為目的的情況下，在處理用部10、20中設(shè)有加熱部。具體而言，將作為調(diào)溫用介質(zhì)的蒸汽或各種熱媒所通過(guò)的配管或電氣加熱器等能夠電氣或化學(xué)地進(jìn)行加熱作用的發(fā)熱元件安裝于處理用部10、20。另外，也可在圓環(huán)收容部設(shè)置可與處理用部直接接觸的新的調(diào)溫用介質(zhì)用的收容部。由此，利用處理用部的熱傳導(dǎo)，可以進(jìn)行處理用面的調(diào)溫。并且，將冷卻元件或發(fā)熱元件埋入處理用部10、20中并通電，或埋入冷熱媒通過(guò)用通道并使調(diào)溫用介質(zhì)(冷熱媒)通過(guò)該通道，從而能夠從內(nèi)側(cè)對(duì)處理用面進(jìn)行調(diào)溫。而且，圖25所示的調(diào)溫機(jī)構(gòu)Jl、J2為其一例，是設(shè)置在各處理用部10、20內(nèi)部的調(diào)溫用介質(zhì)通過(guò)的配管(封套)。利用上述調(diào)溫機(jī)構(gòu)Jl、J2，使一方的處理用面的溫度高于其它一方的處理用面溫度，在處理用面間產(chǎn)生溫度差。例如，第1處理用部10以上述任意的方法加溫至60°C，第2 處理用部20以上述任意的方法形成15°C。此時(shí)，導(dǎo)入處理用面間的流體的溫度從第1處理用面1朝向第2處理用面2從60°C變化至15°C。即，該處理用面間的流體產(chǎn)生溫度梯度。 而且，處理用面間的流體由于該溫度梯度開始對(duì)流，產(chǎn)生相對(duì)于處理用面垂直方向的流動(dòng)。 予以說(shuō)明的是，上述“垂直方向的流動(dòng)”是指流動(dòng)的方向成分中，至少含有相對(duì)于上述處理用面的垂直方向的成分。即使在第1處理用面1或第2處理用面2旋轉(zhuǎn)的情況下，由于相對(duì)于該處理用面垂直方向的流動(dòng)繼續(xù)，因此，可對(duì)處理用面旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的處理用面間的螺旋狀層流的流動(dòng)附加垂直方向的流動(dòng)。該處理用面間的溫度差可實(shí)施為1°C 400°C，優(yōu)選為5°C 100°C。予以說(shuō)明的是，本裝置的旋轉(zhuǎn)軸50并不限定為鉛直地配置。例如，也可為傾斜地配置。因?yàn)樵谔幚碇?，通過(guò)在兩處理用面1、2間形成的流體的薄膜，實(shí)質(zhì)上可排除重力的影響。如圖25所示，第1導(dǎo)入部dl在第2托架21中與第2圓環(huán)20的軸心一致，上下鉛直地延伸。但是，第1導(dǎo)入部dl并不限于與第2圓環(huán)20的軸心一致，只要能向兩圓環(huán)10、20所圍的空間供給第1被處理流動(dòng)體，在第2托架21的中央部分22中，也可設(shè)置在上述軸心以外的位置，并且，也可為非鉛直而是斜向延伸。無(wú)論在哪個(gè)配置角度的情況下，通過(guò)處理用面間的溫度梯度，可相對(duì)于處理用面產(chǎn)生垂直的流動(dòng)。上述處理用面間的流體的溫度梯度中，如果該溫度梯度小，則對(duì)流體僅進(jìn)行熱傳導(dǎo)，但是，溫度梯度一旦超過(guò)某臨界值，流體中會(huì)產(chǎn)生所謂的貝納德對(duì)流現(xiàn)象。該現(xiàn)象，在處理用面間的距離為L(zhǎng)、重力加速度為g、流體的體積熱膨脹率為β、流體的動(dòng)粘度系數(shù)為V、 流體的溫度傳導(dǎo)率為α、處理用面間的溫度差為ΔΤ時(shí)，被以下式定義的無(wú)無(wú)因次數(shù)的瑞利(X 'J-)數(shù)fci所支配。
Ra = L3 · g · β · AT/(α · ν)開始產(chǎn)生貝納德對(duì)流的臨界瑞利數(shù)根據(jù)處理用面與被處理物流體的分界面的性質(zhì)而不同，但大約為1700。大于該臨界值時(shí)產(chǎn)生貝納德對(duì)流。并且，當(dāng)該瑞利數(shù)Ra滿足大于101°附近的值的條件時(shí)，流體為紊流狀態(tài)。即，通過(guò)調(diào)節(jié)該處理用面間的溫度差ΔΤ或處理用面的距離L，并且以使瑞利數(shù)Ra為1700以上的方式調(diào)節(jié)本裝置，可在處理用面間相對(duì)于處理用面產(chǎn)生垂直的方向的流動(dòng)，可實(shí)施上述混合(反應(yīng))操作。但是，上述貝納德對(duì)流在1 ΙΟμπι左右的處理用面間的距離中不容易產(chǎn)生。嚴(yán)密來(lái)說(shuō)，上述瑞利數(shù)適用于ΙΟμπι以下的間隔中的流體，當(dāng)研究貝納德對(duì)流的發(fā)生條件時(shí)， 如果為水，則其溫度差必須為數(shù)千。C以上，現(xiàn)實(shí)中很難實(shí)現(xiàn)。貝納德對(duì)流是由流體的溫度梯度的密度差所形成的對(duì)流，即與重力相關(guān)的對(duì)流。IOym以下的處理用面之間為微重力場(chǎng)的可能性高，在這樣的情況，浮力對(duì)流被抑制。即，在該裝置中現(xiàn)實(shí)地產(chǎn)生貝納德對(duì)流的情況是處理用面間的距離超過(guò)10 μ m的情況。當(dāng)處理用面間的距離為1 ΙΟμπι左右時(shí)，并非通過(guò)密度差產(chǎn)生對(duì)流，而是通過(guò)溫度梯度所產(chǎn)生的流體的表面張力差來(lái)產(chǎn)生對(duì)流。這樣的對(duì)流為馬蘭哥尼對(duì)流，在處理用面間的距離為L(zhǎng)、流體的動(dòng)粘度系數(shù)為V、流體的溫度傳導(dǎo)率為α、處理用面間的溫度差為 ΔΤ、流體的密度為P、表面張力的溫度系數(shù)(表面張力的溫度梯度)為σ時(shí)，被以下式定義的無(wú)因次數(shù)的馬蘭哥尼數(shù)所支配。 Ma = σ · AT'L/(p ·ν· α)開始產(chǎn)生馬蘭哥尼對(duì)流的臨界馬蘭哥尼數(shù)為80左右，在大于該值的條件下產(chǎn)生馬蘭哥尼對(duì)流。即，通過(guò)調(diào)節(jié)該處理用面間的溫度差Δ T或處理用面的距離L、調(diào)節(jié)本裝置以使得馬蘭哥尼數(shù)Ma為80以上，即使10 μ m以下的微小流路也能夠在處理用面間相對(duì)于處理用面產(chǎn)生垂直方向的流動(dòng)，可實(shí)施上述混合(反應(yīng))操作。瑞利數(shù)的計(jì)算使用以下的公式。數(shù)式1
權(quán)利要求
1.一種顏料微粒的表面處理方法，其特征在于，向可接近·分離、且相對(duì)地進(jìn)行位移的處理用面之間供給被處理流動(dòng)體， 通過(guò)含有該流動(dòng)體的供給壓力和施加于進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的處理用面之間的壓力的向接近方向的力與向分離方向的力的壓力的平衡，將處理用面間的距離維持為微小間隔， 通過(guò)將維持為該微小間隔的2個(gè)處理用面間作為被處理流動(dòng)體的流路， 被處理流動(dòng)體形成薄膜流體， 在該薄膜流體中生成顏料微粒， 對(duì)上述生成了的顏料微粒進(jìn)行表面修飾。
2.如權(quán)利要求1所述的顏料微粒的表面處理方法，其特征在于， 具備對(duì)被處理流動(dòng)體賦予壓力的流體壓力賦予機(jī)構(gòu)、第1處理用部及相對(duì)于該第1處理用部可相對(duì)地接近·分離的第2處理用部的至少2 個(gè)處理用部、和使上述的第1處理用部和第2處理用部相對(duì)地進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)； 在上述的各處理用部中相互對(duì)向的位置設(shè)有第1處理用面及第2處理用面的至少2個(gè)處理用面，上述的各處理用面構(gòu)成上述壓力的被處理流動(dòng)體流過(guò)的、被密封了的流路的一部分， 上述第1處理用部和第2處理用部中，至少第2處理用部具備受壓面，而且，該受壓面的至少一部分由上述的第2處理用面構(gòu)成，該受壓面受到上述的流體壓力賦予機(jī)構(gòu)賦予被處理流動(dòng)體的壓力而產(chǎn)生在從第1處理用面使第2處理用面分離的方向移動(dòng)的力，通過(guò)在可接近·分離、且相對(duì)地進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的第1處理用面和第2處理用面之間使上述規(guī)定壓力的被處理流動(dòng)體通過(guò)，上述被處理流動(dòng)體形成上述薄膜流體， 在該薄膜流體中生成顏料微粒， 對(duì)上述生成了的顏料微粒進(jìn)行表面修飾。
3.如權(quán)利要求2所述的顏料微粒的表面處理方法，其特征在于，由上述的流體壓力賦予機(jī)構(gòu)賦予了壓力的一種被處理流動(dòng)體在上述第1處理用面和第2處理用面之間通過(guò)，具備與上述的一種被處理流動(dòng)體不同的另一種被處理流動(dòng)體通過(guò)的獨(dú)立的另外的導(dǎo)入路，與該導(dǎo)入路相通的至少一個(gè)開口部設(shè)于上述第1處理用面和第2處理用面的至少任一方，從該導(dǎo)入路將上述的另一種被處理流動(dòng)體導(dǎo)入上述兩處理用面間， 在上述薄膜流體中，將上述一種被處理流動(dòng)體和另一種被處理流動(dòng)體混合。
4.如權(quán)利要求1 3中任一項(xiàng)所述的顏料微粒的表面處理方法，其特征在于，在上述薄膜流體中進(jìn)行上述顏料微粒的表面修飾。
5.如權(quán)利要求1 4中任一項(xiàng)所述的顏料微粒的表面處理方法，其特征在于，上述表面修飾通過(guò)對(duì)上述顏料微粒的表面進(jìn)行酸性基團(tuán)處理而完成。
6.如權(quán)利要求1 4中任一項(xiàng)所述的顏料微粒的表面處理方法，其特征在于，上述表面修飾通過(guò)對(duì)上述顏料微粒的表面進(jìn)行堿性基團(tuán)處理而完成。
7.一種顏料微粒，其用上述權(quán)利要求1 6中任一項(xiàng)所述的顏料微粒的表面處理方法而得到。
8.一種顏料微粒的分散液，其用上述權(quán)利要求1 6中任一項(xiàng)所述的顏料微粒的表面處理方法而得到。
全文摘要
本發(fā)明以小的能量有效地不伴有成本增加地進(jìn)行顏料微粒的表面處理。本發(fā)明為一種顏料微粒的表面處理方法，其特征在于，在可接近·分離地相對(duì)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的2個(gè)處理用面間維持1mm以下的微小間隔，將維持為該微小間隔的2個(gè)處理用面間作為被處理流動(dòng)體的流路，由此形成被處理流動(dòng)體的薄膜流體(強(qiáng)制薄膜)，在該薄膜流體(強(qiáng)制薄膜)中生成顏料微粒，在上述薄膜流體(強(qiáng)制薄膜)中將上述生成的顏料微粒進(jìn)行表面修飾。
文檔編號(hào)C09B67/46GK102325844SQ20098015719
公開日2012年1月18日 申請(qǐng)日期2009年11月10日 優(yōu)先權(quán)日2009年3月3日
發(fā)明者榎村真一 申請(qǐng)人:M技術(shù)株式會(huì)社