專利名稱：簾式涂布裝置和簾式涂布方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及簾式涂布裝置和簾式涂布方法，其中至少一層涂布液從狹縫中噴 出，通過一對簾邊導軌使所噴出的涂布液自由落下，所述簾邊導軌以幕簾的形式引導涂 布液，從而將涂布液施加到連續(xù)運行的載體上。
背景技術(shù)：
傳統(tǒng)上，簾式涂布方法已經(jīng)被提議作為用于生產(chǎn)光敏材料例如膠片的涂布方法。簾式涂布方法的實例包括ω方法，其中涂布液從噴嘴狹縫中噴出，通過一對 簾邊導軌(其以幕簾的形式引導所述涂布液)使所述涂布液自由落下，并使其與連續(xù)運行 的載體碰撞(在下文中，術(shù)語“載體”也被稱為“卷材(web)”或“基材”)，以形成涂 膜；Gi)方法，其中涂布液從狹縫中噴出，在滑動表面上移動，通過一對簾邊導軌(其以 幕簾的形式引導所述涂布液)使所述涂布液自由落下，并使其與連續(xù)運行的卷材碰撞以 形成涂膜；Gii)方法(多層涂布法)，其中具有不同組成的涂布液從各噴嘴狹縫中噴出， 通過一對簾邊導軌(其以幕簾的形式引導所述涂布液)使所述涂布液自由落下，并使其與 連續(xù)運行的卷材碰撞以形成涂膜；以及Gv)方法(多層涂布法)，其中具有不同組成的涂 布液從各噴嘴狹縫中噴出，在滑動表面上成層，通過一對簾邊導軌(其以幕簾的形式引 導所述涂布液)使所述涂布液自由落下，并使其與連續(xù)運行的卷材碰撞以形成涂膜。例如，已經(jīng)提出這樣的方法，其中涂布液3從槽型簾式涂布頭1的噴嘴狹縫中噴 出，通過簾邊導軌2(其以幕簾的形式引導所述涂布液)使所述涂布液自由落下，并使其 與連續(xù)運行的卷材5碰撞以形成涂膜，如圖9所示；以及已經(jīng)提出這樣的方法，其中涂布 液從狹縫中噴出，并在滑動簾式涂布頭7的滑動表面8上移動(其中涂布液的邊緣被滑動 部分邊緣導軌9支撐)，通過簾邊導軌2(其以幕簾的形式引導所述涂布液)使所述涂布液 自由落下，并使其與連續(xù)運行的卷材5碰撞以形成涂膜，如

圖10所示(例如參考日本專 利申請公布(JP-B)號49-35447)。在圖9和10中，提供了各自的真空裝置。多層涂布法的實例包括這樣的方法，其中具有不同功能的涂布液從各噴嘴狹縫 中噴出，通過一對簾邊導軌(其以幕簾的形式引導所述涂布液)使所述涂布液自由落下， 并使其與連續(xù)運行的卷材碰撞以形成涂膜；以及包括這樣的方法，其中具有不同功能的 涂布液從各狹縫中噴出，在滑動表面上成層，通過一對簾邊導軌(其以幕簾的形式引導 所述涂布液)使所述涂布液自由落下，并使其與連續(xù)運行的卷材碰撞以形成涂膜。在涂布液(或多種涂布液)通過簾式涂布方法被施加到卷材上的情況中，自由落 下的涂膜的不穩(wěn)定性對生產(chǎn)率和產(chǎn)品質(zhì)量具有極大的不利影響。簾式膜的穩(wěn)定性受到抑制的現(xiàn)象的典型實例包括這樣的現(xiàn)象，其中簾式膜朝向 后面移動(下文中稱為“茶壺現(xiàn)象(teapot phenomenon)” )；以及這樣的現(xiàn)象，其中簾 式膜的厚度在邊緣導軌壁的附近減小(例如，參考S.F.Kistler和Schweize "Liquid Film Coating (液膜涂布)”)。
茶壺現(xiàn)象是簾式膜朝向唇部(Iip)的后面移動而不是垂直落下的現(xiàn)象。這是由于 在唇邊緣處涂布液的動量不平衡之故(涂布液沿著滑動表面向下流動)。當涂布液的粘度減小或其被施加的量增加時，換句話說，當雷諾數(shù)相對較大 時，茶壺現(xiàn)象特別顯著。因為簾式膜的兩個邊緣被一對邊緣導軌支撐，所以由茶壺現(xiàn)象 引起的簾式膜的任意彎曲不能發(fā)生，因此簾式膜變形。因此，所施加的涂布液的量在簾式膜的寬度方向是不均勻的，因此不能獲得良 好的涂膜。作為針對茶壺現(xiàn)象的對策，已經(jīng)提出了這樣的邊緣導軌，其是彎曲的，以便匹 配簾式膜的形狀(例如，參考日本專利申請?zhí)亻_(JP-A)號09-253552)。該提議使得根除由茶壺現(xiàn)象引起的簾式膜的變形是可能的。然而，因為茶壺 現(xiàn)象引起的簾式膜的變形程度很大程度上根據(jù)操作條件諸如涂布液的性質(zhì)及其流速而變 化，因此存在必需根據(jù)條件改變邊緣導軌形狀的問題，這在實際應用中并不令人滿意。為解決這個問題，已經(jīng)提出一種平板型邊緣導軌，其中邊緣導軌輔助水沿其 向下流動的表面(下文中稱為“邊緣導軌輔助水向下流動表面”、“輔助水向下流動 表面”或“向下流動表面”)以平板形成，以便允許根據(jù)操作條件顯著變化的簾式膜 曲率，并且該向下流動表面具有對于簾式膜的變形量充足的寬度(例如，參考JP-A號 2001-46939)。然而，因為邊緣導軌輔助水向下流動表面是平板，因此在邊緣導軌上的簾式膜 的落下位置由于在簾式涂布裝置或伴隨卷材的空氣附近的輕微氣流而變化。如果該變化 很大，則存在簾式膜與邊緣導軌輔助水向下流動表面的端部(寬度方向)接觸，并因此涂 膜厚度變得不均勻的問題。此外，存在在卷材上簾式膜的落下位置變化并且因此產(chǎn)生涂布不均勻的問題。已經(jīng)提出邊緣導軌，其中邊緣導軌輔助水向下流動表面在寬度方向的中心處具 有凸起形狀(例如，參考國際公布號W02008/000507)。已經(jīng)證實，該提議使得能夠確保邊緣導軌的中心可調(diào)整性并抑制由干擾引起的 涂膜落下位置變化造成的涂布不均勻發(fā)生。然而，在該提議中，邊緣導軌輔助水向下流動表面的凸起形狀從其上面部分到 其下面部分具有恒定的曲率。因此，當與茶壺現(xiàn)象相關(guān)的簾式膜的曲率很大時，則產(chǎn)生 三維液體流，彎曲部分顯著偏離向下流動表面的凸起形狀頂點，因此涂布液流動到遠離 邊緣導軌的凸起形狀頂點的部分。涂布液向遠離頂點的部分的流動使得簾式膜的寬度變寬，并且由于涂布液表面 張力增加，簾式膜的兩個邊緣在簾寬度方向被拉向中心。因此，簾式膜移動至凸起形狀 的頂點并且沿著該頂點向下落，并存在三維液體流的曲率引起涂膜在其邊緣的厚度不均 勻的問題。在邊緣導軌附近產(chǎn)生簾式膜厚度減小的現(xiàn)象，這在距離每個邊緣導軌大約幾毫 米到大約IOmm的任意地方是顯著的。本發(fā)明所涉及的研究結(jié)果表明，在這類部分的簾 式膜的厚度是在中心部分的簾式膜厚度的約60%至約95%。當薄膜部分被施加到卷材上時，在涂膜的兩個邊緣之內(nèi)形成薄膜部分，其造成 涂膜厚度不均勻并因此引發(fā)涂布損失。
關(guān)于膜厚度減小現(xiàn)象，邊界層的形成——其是由于在簾式膜落下時在簾式膜的 自由落下部分與每個邊緣導軌附近的簾式膜之間的流體摩擦引起——引起在每個邊緣導 軌附近的簾式膜形成涂布液在簾寬度方向向中心移動。同樣，在每個邊緣導軌附近的涂 布液流動部分與在簾寬度方向的中心處的涂布液穩(wěn)流部分之間的表面張力的差異——其 是由于涂布液中的表面活性劑的動態(tài)性能引起的——類似地引起簾式膜形成涂布液在簾 寬度方向向中心移動。同時，已知的是，位于每個邊緣導軌處的涂布液與氣相之間的凹液面引起簾式 膜形成涂布液向著每個邊緣導軌移動(例如，參考J.Van Havenbergh，H.Bussmann, and P.Joos Colloid Interface Sci.，101，462，(1984))。涂膜厚度的不均勻通過確保簾式膜形成涂布液在寬度方向向中心移動的趨勢 (其由邊界層的形成以及表面張力的差異引起)與簾式膜形成涂布液朝向每個邊緣導軌 移動的趨勢(其由凹液面引起)之間的良好平衡來抑制(例如，參考日本專利(JP-B)號 2630512)。作為實現(xiàn)上述的手段，涂布液粘度水平、簾式膜中心部分與簾式膜邊緣之間的 表面張力差異以及每個邊緣導軌的液體接觸部分的尺寸被限定，以便確保如上所述的良 好平衡。該方法能夠?qū)崿F(xiàn)膜厚度的均勻性。然而，實際上，考慮到產(chǎn)品設(shè)計(product deign)，當存在配制相關(guān)的限制諸如對涂布液性質(zhì)——其被提供以實現(xiàn)高涂膜質(zhì)量——的 限制時，難于限制表面張力的差異。因此，存在著均勻性僅在有限的涂布液條件下可實 現(xiàn)的問題。同樣，本發(fā)明所涉及的研究結(jié)果顯示，厚膜部分在薄膜部分的內(nèi)部(在簾式膜 寬度方向)存在。然而，與涉及薄膜部分的方法相反，用于減少厚膜部分的方法迄今為 止還未被公開。在上述簾式涂布方法中，存在著由下述引起的現(xiàn)象當涂布液自由落下時，涂 布液流動緩慢的部分(邊界層)在簾式膜的每個邊緣附近存在，并且流動速度的差異引起 簾式膜兩個邊緣附近的涂布液以收縮的方式向中心流動。因此，當涂布液與連續(xù)運行的 卷材碰撞以形成涂膜時，存在著薄膜部分120a(圖11)在涂膜20的邊緣附近(寬度方向) 形成(圖1)以及厚膜部分120b(圖11)在涂膜20的內(nèi)側(cè)上(寬度方向)形成的問題。為防止邊界層在簾式膜中形成，已經(jīng)提出一種技術(shù)，其中通過限定涂布液的粘 度和表面張力以及每個邊緣導軌的液體接觸表面的形狀，邊界層在簾式膜中的形成得到 抑制，由涂布液以收縮方式流動引起的薄膜部分120a和厚膜部分120b的形成從而被阻 止，并且涂膜厚度的均勻性因此得以實現(xiàn)(例如，參考JP-B號2630512)。然而，該技術(shù)存在這樣的問題，即邊界層的影響僅在有限的涂布液性質(zhì)條件下 可被減小，并且非常難于調(diào)節(jié)涂布液的粘度和表面張力。此外，為防止邊界層在簾式膜中形成，已經(jīng)提出一種技術(shù)，其中通過將邊緣導 軌輔助液排出(在涂布液向下流動的方向)到邊緣導軌，在簾式膜的每個邊緣附近的邊界 層的形成被阻止(例如，參考JP-A號01-199668)。然而，該技術(shù)存在如下問題由邊緣導軌輔助液產(chǎn)生的簾式膜的加速不足，因 此邊界層的形成不能被根除。
為穩(wěn)定涂布液的自由落下，已經(jīng)提出一種顯示出簾式膜的中心可調(diào)整性的技 術(shù)，其中邊緣導軌輔助液向下流動表面具有弧形凸起形狀；因此，當不存在風引起的 干擾時，簾式膜位于凸起部分的頂點處，并且當簾式膜由于風引起的干擾而從凸起部分 的頂點偏離時，通過增加涂布液的動態(tài)表面張力該偏離的簾式膜返回至凸起部分的頂點 (例如，參考 2008-529753)。然而，該技術(shù)存在這樣的問題當涂布液的靜態(tài)表面張力小至大約35mN/m 時，由于風引起的干擾，簾式膜從突起部分的頂點偏離并且附著至邊緣導軌的側(cè)表面， 從而導致簾式膜不均勻。同樣，該技術(shù)存在這樣的另一問題當涂布液非線性落下時， 涂膜均勻性受損，并出現(xiàn)涂布不均勻。此外，該技術(shù)存在又一問題，即用于噴射邊緣導 軌輔助液的多孔材料被涂布液堵塞，從而導致邊緣導軌輔助液不均勻噴出。如果涂布液被附著至多孔材料，則其用溶劑諸如鹽酸洗掉。然而，要求困難的 分解操作等，并且去除堵塞是困難的，因此對開發(fā)無堵塞的邊緣導軌存在強烈需求。為解決堵塞問題，已經(jīng)提出一種技術(shù)，其中邊緣導軌輔助水向下流動表面作為 金屬表面形成，并且輔助水從設(shè)置在該金屬表面中的噴射口噴出(例如，參考美國專利 號 7,081,163)。然而，這種技術(shù)涉及其中邊緣導軌輔助水直接流入噴射口中的結(jié)構(gòu)，并因此存 在這樣的問題，即難于均勻地噴射邊緣導軌輔助水，另一問題是，因為邊緣導軌輔助水 向下流動表面是平坦表面，因此輔助液不會線性落下，因此形成不穩(wěn)定的簾式膜，而又 一問題是，簾式膜不會由于風引起的干擾而搖動。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明旨在解決相關(guān)領(lǐng)域的上述問題并實現(xiàn)下述目標。本發(fā)明的一個目標是提供簾式涂布裝置和簾式涂布方法，其能夠防止由于茶壺 效應(其是簾式涂布方法特有的現(xiàn)象)而引起的簾式膜變形，并且也能夠抑制由于干擾引 起的簾式膜落下位置的變化以及抑制膜厚度減小現(xiàn)象和膜厚度增加現(xiàn)象。本發(fā)明還旨在實現(xiàn)其它目標。本發(fā)明的另一目標是提供簾式涂布裝置和簾式涂 布方法，其能夠防止簾式膜變得不穩(wěn)定(這是由于輔助水的湍流(turbulence)和風引起的 干擾造成的)并且還能夠抑制由每個導向單元附近的邊界層引起的簾式膜厚度增加，即 使輔助水的表面張力低也是如此。 用于解決所述問題的手段如下。<1>簾式涂布裝置，其包括一對邊緣導軌，其被配置為支撐至少一種涂布液的兩個側(cè)邊緣，以便形成自由 落下的涂布液膜并將所述涂布液膜施加到連續(xù)運行的載體上；和輔助水引入口，其允許輔助水在每個邊緣導軌的邊緣導軌輔助水向下流動表面 的寬度方向基本均勻地從所述邊緣導軌輔助水向下流動表面的上面部分向所述邊緣導軌 輔助水向下流動表面的下面部分引入，其中所述邊緣導軌輔助水向下流動表面在其上面部分具有基本為平坦表面形式 的平坦表面部分，和其中所述邊緣導軌輔助水向下流動表面在其下面部分具有弧形部分，所述弧形部分在所述寬度方向設(shè)于中心處并且其以弧形突出；和平坦表面部分，其在所述寬度方 向設(shè)于所述弧形部分的兩側(cè)上。<2>根據(jù)<1>所述的簾式涂布裝置，其中所述弧形部分具有2mm至5mm的曲率半徑。<3>根據(jù)<1>或<2>所述的簾式涂布裝置，其中從所述邊緣導軌輔助水向下流動 表面的所述上面部分處的所述平坦表面部分到所述邊緣導軌輔助水向下流動表面的所述 下面部分處的所述弧形部分存在連續(xù)的形狀變化。<4>根據(jù)<1>至<3>任一項所述的簾式涂布裝置，其中所述邊緣導軌輔助水向下 流動表面具有沿著倒置等腰三角形的斜邊提供的弧形區(qū)域，所述斜邊連接所述弧形部分 在所述寬度方向的中心線與在所述邊緣導軌輔助水向下流動表面的所述上面部分提供的 所述平坦表面部分的兩端。<5>根據(jù)<4>所述的簾式涂布裝置，其中輔助水引入口與所述等腰三角形頂點之 間的距離在IOmm至35mm的范圍內(nèi)。<6>根據(jù)<1>至<5>任一項所述的簾式涂布裝置，其中所述輔助水以0.40m/sec 至1.20m/sec的速率被引入。<7>簾式涂布裝置，其包括具有涂布液噴射口的噴射單元，其被配置為從所述涂布液噴射口噴射涂布液；一對導向單元，其每個具有輔助水引入口，輔助水經(jīng)過所述輔助水引入口被引 入，所述導向單元被配置為在寬度方向支撐簾式膜的兩個邊緣，所述寬度方向基本垂 直于由涂布液形成的簾式膜向下流動的方向；以及引導所述簾式膜到所傳送的載體上； 和傳送單元，其被配置為傳送所述載體，其中所述一對導向單元每個具有凹入部分，所述輔助水經(jīng)過所述凹入部分向下 流動，和其中基本垂直于所述凹入部分的底表面形成的所述凹入部分的側(cè)表面與暴露表 面形成銳角，所述暴露表面被形成以便與所述側(cè)表面連續(xù)并且與所述側(cè)表面相交。<8>根據(jù)<7>所述的簾式涂布裝置，其中所述凹入部分具有0.2mm至0.5mm的 最大深度。<9>根據(jù)<7>或<8>所述的簾式涂布裝置，其中在所述凹入部分的所述側(cè)表面與 另一側(cè)表面之間的最大距離在1.5mm至4.0mm的范圍內(nèi)。<10>根據(jù)<7>至<9>任一項所述的簾式涂布裝置，其中每個導向單元在所述輔 助水向下流動的方向具有在所述輔助水引入口之上的平坦表面，并且其中所述平坦表面 是5mm至15mm長和7mm或更大寬度的矩形。<11>根據(jù)<7>至<10>任一項所述的簾式涂布裝置，其中所述輔助水以0.4m/sec 至2.1m/sec的速率引入。<12>根據(jù)<7>至<11>任一項所述的簾式涂布裝置，其中所述輔助水引入口在所 述輔助水向下流動的方向具有0.2mm至0.5mm的最大縫隙。<13>簾式涂布方法，其包括用一對邊緣導軌支撐至少一種涂布液的兩個側(cè)邊緣，以便形成自由落下的涂布液膜并將所述涂布液膜施加到連續(xù)運行的載體上；和在每個邊緣導軌的邊緣導軌輔助水向下流動表面的寬度方向基本均勻地，從所 述邊緣導軌輔助水向下流動表面的上面部分向所述邊緣導軌輔助水向下流動表面的下面 部分，經(jīng)過輔助水引入口引入輔助水，其中所述邊緣導軌輔助水向下流動表面在其上面部分具有基本為平坦表面形式 的平坦表面部分，和其中所述邊緣導軌輔助水向下流動表面在其下面部分具有弧形部分，所述弧形 部分在所述寬度方向設(shè)于中心處并且其以弧形突出；和平坦表面部分，其在所述寬度方 向設(shè)于所述弧形部分的兩側(cè)上。<14>根據(jù)<13>所述的簾式涂布方法，其中所述弧形部分具有2mm至5mm的曲
率半徑。<15>根據(jù)<13>或<14>所述的簾式涂布方法，其中從所述邊緣導軌輔助水向下 流動表面的所述上面部分處的所述平坦表面部分到所述邊緣導軌輔助水向下流動表面的 所述下面部分處的所述弧形部分存在連續(xù)的形狀變化。<16>根據(jù)<13>至<15>任一項所述的簾式涂布方法，其中所述邊緣導軌輔助水 向下流動表面具有沿著倒置等腰三角形的斜邊提供的弧形區(qū)域，所述斜邊連接所述弧形 部分在所述寬度部分的中心線與在所述邊緣導軌輔助水向下流動表面的上面部分提供的 所述平坦表面部分的兩端。<17>根據(jù)<16>所述的簾式涂布方法，其中輔助水引入口與所述等腰三角形頂點 之間的距離在IOmm至35mm的范圍內(nèi)。<18>根據(jù)<13>至<17>任一項所述的簾式涂布方法，其中所述輔助水以0.40m/ sec至1.20m/sec的速率被引入。<19>簾式涂布方法，其包括從涂布液噴射口噴射涂布液；通過使用一對導向單元，在基本垂直于由涂布液形成的簾式膜向下流動的方向 的寬度方向，支撐簾式膜的兩個邊緣，并將所述簾式膜引導到所傳送的載體上，所述一 對導向單元每個具有輔助水引入口，輔助水經(jīng)過所述輔助水引入口被引入；和傳送所述載體，其中所述一對導向單元每個具有凹入部分，所述輔助水經(jīng)過所述凹入部分向下 流動，和其中基本垂直于所述凹入部分的底表面形成的所述凹入部分的側(cè)表面與暴露表 面形成銳角，所述暴露表面被形成以便與所述側(cè)表面連續(xù)并且與所述側(cè)表面相交。<20>根據(jù)<19>所述的簾式涂布方法，其中所述凹入部分具有0.2mm至0.5mm 的最大深度。<21>根據(jù)<19>或<20>所述的簾式涂布方法，其中在所述凹入部分的所述側(cè)表 面與另一側(cè)表面之間的最大距離在1.5_至4.0mm的范圍內(nèi)。<22>根據(jù)<19>至<21>任一項所述的簾式涂布方法，其中每個導向單元在所述 輔助水向下流動的方向具有在所述輔助水引入口之上的平坦表面，并且其中所述平坦表 面是5mm至15mm長和7mm或更大寬度的矩形。
<23>根據(jù)<19>至<22>任一項所述的簾式涂布方法，其中所述輔助水以0.4m/ sec至2.1m/sec的速率引入。<24>根據(jù)<19>至<23>任一項所述的簾式涂布裝置，其中所述輔助水引入口在 所述輔助水向下流動的方向具有0.2mm至0.5mm的最大縫隙。本發(fā)明使得解決相關(guān)領(lǐng)域的上述問題并實現(xiàn)提供簾式涂布裝置和簾式涂布方法 的目標成為可能，所述簾式涂布裝置和簾式涂布方法能夠防止由于茶壺效應(其是簾式 涂布方法特有的現(xiàn)象)而引起的簾式膜變形，并且也能夠抑制由于干擾引起的簾式膜落 下位置的變化以及抑制膜厚度減小現(xiàn)象和膜厚度增加現(xiàn)象。本發(fā)明還使得實現(xiàn)提供簾式涂布裝置和簾式涂布方法的其它目標成為可能，所 述簾式涂布裝置和簾式涂布方法能夠防止簾式膜變得不穩(wěn)定(這是由于輔助水的湍流和 風引起的干擾造成的)并且還能夠抑制由每個導向單元附近的邊界層引起的簾式膜厚度 增加，即使輔助水的表面張力低也是如此。附圖簡述圖1是顯示本發(fā)明簾式涂布裝置中的邊緣導軌實例的示意圖。圖2是顯示本發(fā)明簾式涂布裝置中的邊緣導軌實例的正視圖。圖3是顯示本發(fā)明簾式涂布裝置中的邊緣導軌實例的“A截面”圖。圖4是顯示本發(fā)明簾式涂布裝置中的邊緣導軌實例的“B截面”圖。圖5是顯示本發(fā)明簾式涂布裝置中的邊緣導軌實例的“C截面”圖。圖6是顯示本發(fā)明簾式涂布裝置中的邊緣導軌實例的圖(部分1)。圖7是顯示本發(fā)明簾式涂布裝置中的邊緣導軌實例的圖(部分2)。圖8是顯示本發(fā)明中的邊緣導軌實例的橫截面圖。圖9是顯示槽型簾式涂布裝置的實例的圖。圖10是顯示滑動簾式涂布裝置的實例的圖。圖11是解釋涂膜的薄膜部分和厚膜部分的圖。圖12是顯示本發(fā)明的滑動簾式涂布裝置的實例的示意圖。圖13是顯示本發(fā)明的槽型簾式涂布裝置的實例的示意圖。圖14是顯示本發(fā)明的槽型簾式涂布裝置的另一實例的示意圖。圖15是解釋本發(fā)明的簾式涂布裝置中的邊緣導軌(導向單元)的實例的圖。圖16是顯示本發(fā)明的簾式涂布裝置中的邊緣導軌(導向單元)的實例的正視 圖。圖17是顯示本發(fā)明的簾式涂布裝置中的邊緣導軌(導向單元)的內(nèi)部結(jié)構(gòu)的實 例的圖。圖18是顯示常規(guī)簾式涂布裝置中的邊緣導軌(導向單元)的實例的橫截面圖。圖19是顯示本發(fā)明的簾式涂布裝置中的邊緣導軌(導向單元)的實例的橫截面 圖。圖20是解釋模具式涂布(die coating)的圖(部分1)。圖21是解釋模具式涂布的圖(部分2)。圖22是顯示本發(fā)明的簾式涂布裝置中的邊緣導軌(導向單元)的實例的透視 圖。
圖23是顯示本發(fā)明的簾式涂布裝置中的邊緣導軌(導向單元)的另一實例的透 視圖。圖24是解釋位于簾式膜與輔助水之間的邊界層的圖。圖25是顯示關(guān)于實施例B-I和B-13至B-19，簾式膜在寬度方向的流速分布評 價結(jié)果的圖。圖26是顯示關(guān)于實施例B-I和B-21，簾式膜在寬度方向的流速分布評價結(jié)果的 圖。圖27是顯示關(guān)于實施例B-I、B-13、B_14和B_18，簾式膜落下速度的評價結(jié) 果，在距離滑動模具(slidedie)底部10_的高度處測量。圖28是顯示關(guān)于實施例B-l、B-13、B_14和B_18，簾式膜落下速度的評價結(jié) 果，在距離滑動模具底部140mm的高度處測量。
具體實施例方式下面詳細解釋本發(fā)明的第一實施方式。(簾式涂布裝置和簾式涂布方法)本發(fā)明的簾式涂布裝置包括一對邊緣導軌，其被配置為支撐至少一種涂布液 的兩個側(cè)邊緣以便形成自由落下的涂布液膜并將該涂布液膜施加到連續(xù)運行的載體上； 和輔助水引入口。如果必要，簾式涂布裝置可進一步包括適當選擇的其它單元(一個或 多個)。本發(fā)明的簾式涂布方法包括下述步驟用一對邊緣導軌支撐至少一種涂布液 的兩個側(cè)邊緣，以便形成自由落下的涂布液膜并將所述涂布液膜施加到連續(xù)運行的載體 上；和引入輔助水。如果必要，簾式涂布方法可進一步包括適當選擇的其它步驟(一個 或多個)。<輔助水引入口和引入輔助水的步驟>輔助水引入口使得輔助水在每個邊緣導軌的邊緣導軌輔助水向下流動表面的寬 度方向基本均勻地，從該邊緣導軌輔助水向下流動表面的上面部分到該邊緣導軌輔助水 向下流動表面的下面部分引入。引入輔助水的步驟是在每個邊緣導軌的邊緣導軌輔助水 向下流動表面的寬度方向基本均勻地，從該邊緣導軌輔助水向下流動表面的上面部分到 該邊緣導軌輔助水向下流動表面的下面部分引入輔助水的步驟。-邊緣導軌輔助水向下流動表面_邊緣導軌輔助水向下流動表面在其上面部分具有平坦表面部分(其基本為平坦 表面的形式)并且在其下面部分具有弧形部分(其在寬度方向設(shè)于中心處并且其以弧形突 出)和平坦表面部分(其在寬度部分設(shè)于弧形部分的兩側(cè)上)。一弧形部分一弧形部分的曲率半徑不受特別限制并且可以根據(jù)預期目的進行適當選擇。然 而，該曲率半徑優(yōu)選在2mm至5mm的范圍內(nèi)，更優(yōu)選為3mm至4mm。當曲率半徑小于2mm時，邊緣導軌輔助水可能難以在弧形部分的表面上均勻地 流下。當曲率半徑大于5_時，將簾式膜保持在弧形部分上的力可能減小。相反，當 曲率半徑處于更優(yōu)選的范圍中時，具有下述優(yōu)勢簾式膜良好地保持在邊緣導軌的弧形部分上并因此能夠進行穩(wěn)定的涂布。從所述邊緣導軌輔助水向下流動表面的上面部分處的平坦表面部分到所述邊緣 導軌輔助水向下流動表面的下面部分處的弧形部分存在連續(xù)的形狀變化。邊緣導軌輔助水向下流動表面具有沿著倒置等腰三角形的斜邊提供的弧形區(qū) 域，所述斜邊連接所述弧形部分的中心線(相對于寬度方向)與在所述邊緣導軌輔助水向 下流動表面的上面部分提供的所述平坦表面部分的兩個端部(見圖2)。這里，輔助水引入口與等腰三角形的頂點之間的距離不受特別限制并且可以根 據(jù)預期目的進行適當選擇。然而，所述距離優(yōu)選在IOmm至35mm的范圍內(nèi)，更優(yōu)選為 IOmm 至 25mm0當該距離小于IOmm時，該距離不足以考慮到在簾式膜從滑動模具的下邊緣自 由落下時所謂茶壺現(xiàn)象引起的簾式膜彎曲。當該距離大于35mm時，可考慮到茶壺現(xiàn) 象，但是輔助水引入口與等腰三角形的頂點之間的距離太長，所以輔助水均勻地向下流 動是困難的，并且因此簾式膜可能不穩(wěn)定。相反，當該距離處于更優(yōu)選的范圍時，具有 下述優(yōu)勢可以避免茶壺效應并且因此輔助水均勻地向下流動。在槽型模具簾式涂布裝置的情況中，不發(fā)生茶壺效應，所以在倒置等腰三角形 的形狀中不需要平坦表面部分，并且如果沒有設(shè)置平坦表面部分，也沒有問題。輔助水被引入的速率(下文中也稱為“(輔助水的)引入速率”)不受特別限制 并且可以根據(jù)預期目的進行適當選擇。然而，弓丨入速率優(yōu)選在0.40m/SeC至1.20m/SeC的 范圍內(nèi)，更優(yōu)選為0.6m/sec至l.Om/sec。當引入速率低于0.40m/SeC時，在每個邊緣導軌附近的簾式膜的落下速度的增加 不充分，所以由于在每個邊緣導軌附近的簾式膜和在中心處的簾式膜之間的落下速度差 異，在簾式膜中可能形成邊界層，并因此簾式膜的厚度可能存在不均勻。當引入速率高 于1.20m/SeC時，邊緣導軌輔助水的量太大，以至于可能在倒置等腰三角形形狀的平坦表 面部分處干擾簾式膜，并且可能在邊緣導軌的下面部分出現(xiàn)湍流。相反，當引入速率在 更優(yōu)選的范圍中時，具有下述優(yōu)勢可以使簾式膜均勻且穩(wěn)定。輔助水引入口在輔助水向下流動方向的最大縫隙不特別限定，并且可適當選 擇。但是，最大縫隙優(yōu)選在0.20mm到0.50mm的范圍內(nèi)。下面參考附圖具體解釋了本發(fā)明的第一實施方式。圖1顯示本發(fā)明的邊緣導軌的實例。在本發(fā)明中，在邊緣導軌主體(2)的上面部分，設(shè)有狹縫(輔助水引入口) (11)，其允許邊緣導軌輔助水(10)在邊緣導軌輔助水向下流動表面(23)的寬度方向被向 下且基本均勻地引入。簾式膜(6)以箭頭所示的方向落下，并且簾式膜(6)的每個邊緣被沿著邊緣導軌 主體(2)的邊緣導軌輔助水向下流動表面(23)落下的邊緣導軌輔助水(10)支撐。圖2顯示了本發(fā)明中的邊緣導軌輔助水向下流動部分的正視圖；圖3顯示了沿著 圖2中的線A所取的其上面部分的截面；圖4顯示了沿著圖2的線B所取的其中間部分 的截面；以及圖5顯示了沿著圖2的線C所取的其下面部分的截面。如圖3所示，邊緣導軌輔助水向下流動表面(23)的上面部分具有平坦表面形狀 (平坦表面部分)(12)。如圖5所示，關(guān)于下面部分的截面形狀，其在寬度方向的中心相應于涂布寬度的中心并且被提供以弧形端的凸起部分(13)。弧形端的凸起部分(13)具有 預定范圍的角θ 1，并且存在設(shè)于弧形端的凸起部分(13)兩側(cè)上的平坦表面部分(15)。在圖4中，形成斜邊凸起的弧形部分(14)。優(yōu)選使得在弧形端的凸起部分(13)與平坦表面形狀部分(15)之間設(shè)置的連接部 分盡可能光滑，以便確保邊緣導軌輔助水(10)的落下速度在寬度方向的均勻性。連接部 分可以是如圖6所示的連接部分(17)或者可以是平坦表面形狀部分(15)的端部，其通過 延伸弧形端的凸起部分(13)的弧的切線形成，如圖7所示。期望的是角θ 1在30度至90度的范圍內(nèi)。當角θ 1如此大以至于在該范圍之 外時，邊緣導軌輔助水(10)可能在位于邊緣導軌輔助水向下流動表面(23)上面部分的平 坦表面部分(12)與弧形端的凸起部分(13)之間的過渡部分處擴展至兩側(cè)，因此邊緣導軌 輔助水(10)可能不會沿著弧形端的凸起部分(13)流動。在邊緣導軌輔助水向下流動表面(23)的上面部分的平坦表面部分(12)的平坦表 面形狀使得允許由茶壺現(xiàn)象引起的簾式膜(6)的任意彎曲成為可能。此外，在邊緣導軌輔助水向下流動表面(23)的下面部分的弧形端的凸起部分 (13)使得解決邊緣導軌處簾式膜的中心可調(diào)整性差的問題成為可能。如剛才所述，在邊緣導軌輔助水向下流動表面(23)的上面部分的平坦表面部分 (12)和在其下面部分的弧形端的凸起部分(13)使得同時解決現(xiàn)有邊緣導軌存在的問題成 為可能。弧形端的凸起部分(13)的弦長與邊緣導軌輔助水向下流動表面(23)的寬度(W) 相比較小。因此，在弧形部分的兩側(cè)上提供平坦表面使得邊緣導軌輔助水(10)(其在向 下流動表面的整個寬度基本均勻地向下流動)的落下速度相對于向下流動表面的上表面 和下表面能夠基本恒定。在簾式膜(6)由于茶壺現(xiàn)象發(fā)生很大彎曲或者簾式膜(6)的落下位置由于涂布部 分附近的氣流而發(fā)生很大變化并且其因此偏離弧形端的凸起部分(13)的情況下，平坦表 面具有臨時支撐簾式膜(6)的功能。本發(fā)明所涉及的研究結(jié)果顯示，當邊緣導軌輔助水(10)的落下速度在寬度方向 具有分布，特別是當邊緣導軌輔助水向下流動表面中心處的流動速度小而在其兩個側(cè)邊 緣處的流動速度大時，存在由下述引起的問題由于其在中心的速度以及其在兩個側(cè)邊 緣的速度之間的差異，由邊緣導軌輔助水(10)支撐的簾式膜(6)被拉向兩個側(cè)邊緣，因 此不可能使簾式膜(6)精確落在期望的位置處。相反，當邊緣導軌輔助水向下流動表面(23)中心處的流動速度大而其兩個側(cè)邊 緣處的流動速度小時，簾式膜的落下位置是穩(wěn)定的；然而，因為邊緣導軌輔助水(10)的 量局部增加，因此由施加到卷材(5)上的涂布液形成的膜的邊緣的涂布液量有所變化， 并因此缺乏線性，從而導致邊緣處的涂布損失。此外，當邊緣導軌輔助水(10)的落下速度在寬度方向具有分布時，存在這樣的 情況其中由于茶壺現(xiàn)象以變形的方式落下的簾式膜(6)在該寬度方向被拉向更高速度 一側(cè)并進一步變形，這導致簾式膜(6)厚度的不均勻性并因此導致膜(A)(由施加到卷材 (5)上的涂布液形成)的涂布液量有所變化。如上所述，設(shè)于邊緣導軌輔助水向下流動表面的上面部分處的平坦表面部分(12)中的狹縫(11)的噴射均勻性(對寬度方向而言)是重要的。在本發(fā)明中，由于狹縫(11)主要設(shè)置在平坦表面部分中，因此在寬度方向均勻 地噴射邊緣導軌輔助水(10)是容易的。如圖10所示，設(shè)于邊緣導軌主體(2)中的邊緣導軌輔助水(10)的流路基本具有 與所謂的槽模(槽形噴嘴，slotdie)或簾模(curtaindie)內(nèi)部結(jié)構(gòu)相同的結(jié)構(gòu)，并且其內(nèi) 部寬度與圖1所示的狹縫(11)的噴射寬度近似相同。邊緣導軌輔助水(10)經(jīng)過圖8中所示的至第一集流腔(manifold) (21)的入口(未 顯示)供應，邊緣導軌輔助水(10)在寬度方向的流量通過第二集流腔(19)和槽(18)以 及(20)調(diào)節(jié)，并且邊緣導軌輔助水(10)被噴射通過狹縫(11)。每個集流腔通常具有單型或雙型。采用雙型集流腔進一步改進了在寬度方向的 噴射均勻性。關(guān)于流動出口的形狀，內(nèi)部流路的寬度與邊緣導軌輔助水的噴射寬度相比是小 的，對流動出口設(shè)置大的縫隙(0.5mm至1.5mm)，并且存在于出口附近擴張的扇形部 分。因此，邊緣導軌輔助水在寬度方向均勻流出的條件受到限制。本發(fā)明涉及的研究結(jié)果顯示，當設(shè)置大小為約0.2mm至約0.5mm的狹縫縫隙 時，可以獲得狹縫(11)在寬度方向的噴射均勻性。關(guān)于圖10所示的實例，通過增加第一集流腔(21)的體積或減小第一槽(20)的 縫隙，可以獲得流動速度在寬度方向的均勻性。同樣，通過提供第二集流腔(19)可以獲得進一步的均勻性。圖2的正視圖和圖5的“C截面”圖均涉及本發(fā)明中的邊緣導軌輔助水向下流 動部分，其顯示了從平坦表面部分(12)(位于邊緣導軌輔助水向下流動表面的上面部分) 至弧形端的凸起部分(13)(位于其下面部分)的形狀變化。形成了倒置等腰三角形，其 斜邊連接弧形端的凸起部分(13)的中心線(相對于寬度方向)與平坦表面部分(12)的兩 端。沿著等腰三角形的斜邊設(shè)置的區(qū)域相對于涂布寬度中心的方向為凸弧的形狀。圖4顯示的“B截面”表示圖3中顯示的“A截面”與圖5中顯示的“C截 面”之間的過渡區(qū)的一部分。示于圖4中的平坦表面部分(12)的寬度WP在向下的方向 減小，并且最終等于零(WP = 0)，這產(chǎn)生圖5中所示的“C截面”。關(guān)于“B截面”，當由于茶壺現(xiàn)象在倒置等腰三角形的斜邊處已經(jīng)彎曲的簾式 膜(6)的落下位置偏離弧形端的凸起部分(13)的位置時，簾式膜(6)的落下位置被糾 正，并且簾式膜(6)被引導至弧形端的凸起部分(13)。如果沒有設(shè)置過渡區(qū)，并且存在從平坦表面部分(12)到弧形端的凸起部分(13) 的直接形狀變化，那么簾式膜(6)受到其間的邊界處的大水平差異的干擾，這導致涂膜 邊緣厚度不均勻。作為避免此問題的手段，可能的是，通過增加平坦表面部分(12)的長度，采用 這樣的部分，其允許簾式膜(6)的每個邊緣(由于茶壺現(xiàn)象其已被彎曲)在邊緣導軌上流 動以在垂直方向前進。然而，在這種情況下，因為平坦表面部分的長度很大，因此簾式膜(6)的位置 由于諸如在涂布部分附近的氣流的干擾而在平坦表面部分有所變化，并且因此不可能穩(wěn) 定地引導簾式膜(6)至弧形端的凸起部分(13)。
如上所述，當沿著由“B截面”顯示的過渡區(qū)的斜邊設(shè)置的區(qū)域相對于涂布寬 度中心的方向處于弧形時，簾式膜(6)的中心可調(diào)整性增加，從而使得實現(xiàn)穩(wěn)定操作以 及減少涂布損失成為可能。期望的是圖2顯示的角θ 2應當盡可能小。隨著角θ 2變得更小，捕獲在等腰三角形斜邊的簾式膜的落下方向變得更接近 垂直方向，并且簾式膜的變形程度變得更小。相反，隨著角θ 2變得更大，對于捕獲在 斜邊的簾式膜而言更容易變形，因此，更容易出現(xiàn)涂布不均勻。由于這類現(xiàn)象，期望也使示于圖2中的上面部分的LL尺寸變小。因為邊緣導軌輔助水在圖2顯示的頂部處的LT尺寸表示的區(qū)域中不會向下流 動，因此簾式膜的落下速度較低。因為這可促進簾式膜每個邊緣的厚度減小，因此期望 LT尺寸小。盡管其取決于簾式膜(6)的彎曲程度，但是圖2中顯示的邊緣導軌輔助水向下 流動表面上面部分處的狹縫(11)與倒置等腰三角形的頂點之間的距離L優(yōu)選在IOmm至 35mm的范圍內(nèi)。本發(fā)明涉及的研究結(jié)果顯示，在液體粘度為250mPa · s至l,500mPa · s和液體 表面張力為30mN/m至40mN/m的丙烯酸乳液粘合劑以1.25cc/cm · sec至2.5cc/cm · sec 的流速施加，以及邊緣導軌輔助水(10)以每6.5mm邊緣導軌輔助水向下流動表面(23)的 寬度為100CC/min至300cc/min的量施加的條件下，邊緣導軌輔助水向下流動表面(23)的 寬度是20mm(換言之，邊緣導軌輔助水向下流動表面(23)的每個邊緣在寬度方向離中心 IOmm)的情況下，距離L優(yōu)選為20mm左右。當距離L是35mm時，可以容易地考慮由茶壺現(xiàn)象引起的簾式膜(6)的曲率。 然而，距離L如此大以至往往存在與由涂布部分附近的風引起的簾式膜(6)的落下位置變 化相關(guān)的不利影響。期望圖5中顯示的弧狀凸起形狀的曲率半徑R在2mm至5mm的范圍內(nèi)。在本發(fā)明涉及的研究中，作為調(diào)查簾式膜(6)可被保持的極限的結(jié)果，通過在 下述條件下在與涂布寬度方向成直角的表面的方向(其中垂直方向為參考方向)傾斜邊緣 導軌主體(2):液體粘度為250mPa · s和液體表面張力為39mN/m的熱敏層溶液(用于 熱敏紙)丨固體含量濃度(S.C.) 29.9%,粘度250mPa ·3(Β_型粘度計)，液體表面張 力39mN/m(鉬板方法中的靜態(tài)表面張力)}以2.5CC/Cm · sec的流速施加，以及邊緣導 軌輔助水(10)以每6.5mm邊緣導軌輔助水向下流動表面的寬度為100CC/min的量施加， 已經(jīng)發(fā)現(xiàn)下述當曲率半徑小于2mm時，邊緣導軌輔助水(10)難于在寬度方向均勻地向 下流動，不管其中心可調(diào)整性如何；當曲率半徑是3mm，保持簾式膜的力是最大的；并 且當曲率半徑大于5mm時，保持簾式膜的力急劇下降。沿著倒置等腰三角形的每個斜邊設(shè)置的弧狀凸起形狀的曲率半徑R不受特別限 定。當該曲率半徑R(近似)等于圖5顯示的弧狀凸起形狀的曲率半徑R時，就處理和 生產(chǎn)而言可產(chǎn)生促進，并且邊緣導軌的生產(chǎn)成本從而可被降低。盡管其取決于簾式膜(6)的曲率，但是邊緣導軌輔助水向下流動表面(23)的寬 度優(yōu)選在7mm至20mm的范圍內(nèi)。本發(fā)明涉及的研究結(jié)果顯示，在液體粘度為250mPa · s至l,500mPa · s和液體表面張力為30mN/m至40mN/m的丙烯酸乳液粘合劑以1.25cc/cm · sec至2.5cc/cm · sec
的流速被施加，以及邊緣導軌輔助水(10)以每6.5mm的邊緣導軌輔助水向下流動表面(23)寬度為100CC/min至300cc/min的量施加的條件下，邊緣導軌輔助水向下流動表面 (23)的寬度是20mm(換言之，邊緣導軌輔助水向下流動表面(23)的每個邊緣在寬度方 向離其中心IOmm)的情況下，在寬度方向，簾式膜(6)不與邊緣導軌輔助水向下流動表 面(23)的邊緣接觸。然而，在邊緣導軌輔助水向下流動表面(23)的寬度是7mm或更小 時，在寬度方向，簾式膜(6)有時與邊緣導軌輔助水向下流動表面(23)的邊緣接觸。如上所述，當采用圖8所示的邊緣導軌的內(nèi)部結(jié)構(gòu)時，狹縫(11)處的噴射速度 可以自由設(shè)定，并且本發(fā)明涉及的研究結(jié)果顯示，由邊緣導軌主體(2)支撐的簾式膜(6) 的兩個邊緣的落下速度可以自由設(shè)定。在常規(guī)方法中，輔助水從邊緣導軌輔助水向下流動表面的上面部分向其下面部 分被基本均勻地噴射。本發(fā)明涉及的研究結(jié)果顯示，在這種情況下，在每個邊緣導軌附 近的簾式膜的落下速度比自由落下的簾式膜的落下速度小至多約30%。在常規(guī)方法中，輔助水從多孔玻璃的細孔中以約0.5cm/sec至約2.0cm/sec的速 度噴射(噴射量50cc/min至200cc/min，邊緣導軌高度150mm)，其與在簾寬度方向 的中央部分的約1.6m/SeC的落下速度相比是低的(落下高度150mm)，并且簾式膜與輔 助水混合，所述輔助水已經(jīng)從上面部分噴出且被重力加速而且其以增加的速度下落，這 被認為是形成薄膜部分的原因。采用本發(fā)明的邊緣導軌使得將邊緣導軌輔助水的向下流動噴射速度自由設(shè)定在 40cm/sec至I20cm/Sec的范圍內(nèi)成為可能。因此，與自由落下簾式膜在在寬度方向的中 心位置處的厚度相比，可使每個邊緣導軌附近的薄膜部分的厚度足夠大。同樣，薄膜部 分的厚度可以通過改變噴射速度來控制。這使得，無論邊界層形成與否，控制每個邊緣導軌附近的簾式膜的落下速度以 及減小簾式膜的厚度成為可能。作為本發(fā)明涉及的研究結(jié)果，減少簾式膜的厚度的增加也是可能的。據(jù)推斷，簾式膜厚度的增加同時可以通過設(shè)定邊緣導軌輔助水的向下流動噴射 速度在40cm/sec至120cm/sec的范圍內(nèi)來減小，如上所述，這使與每個邊緣導軌附近的 簾式膜的落下速度與邊界層之間的任何關(guān)系不起作用，并且這因此減小與引起簾式膜厚 度減小的簾式膜上的表面張力梯度相關(guān)的液體流。然而，因為增加膜厚度的機理至今不 清楚，因此此時不可能及時清楚地解釋減小膜厚度增加的機理。下面詳細解釋本發(fā)明的第二實施方式。(簾式涂布裝置和簾式涂布方法)本發(fā)明的簾式涂布裝置用于卷材涂布并包括噴射單元、一對導向單元和傳送單 元。如果必要，簾式涂布裝置可進一步包括適當選擇的其它單元(一個或多個)。本發(fā)明的簾式涂布方法用于卷材涂布并包括噴射步驟、導向步驟和傳送步驟。 如果必要，簾式涂布方法可進一步包括適當選擇的其它步驟(一個或多個)。<噴射單元和噴射步驟>噴射單元是具有涂布液噴射口的單元，被配置為將涂布液從涂布液噴射口噴 出。噴射步驟是從狹縫噴射涂布液的步驟。
_涂布液_涂布液不受特別限制并且可以根據(jù)預期目的進行適當選擇。其實例包括丙烯酸 乳液、熱敏液體、熱轉(zhuǎn)印帶涂布液、水性涂布液和溶劑涂布液。對于涂布液的粘度，適當?shù)恼扯确秶鶕?jù)使用槽型模具簾式涂布裝置還是滑動 模具簾式涂布裝置作為簾式涂布裝置而變化。同樣，在簾式涂布方法中，涂布液的粘度 需要被調(diào)節(jié)至適當?shù)恼扯确秶?。適當?shù)恼扯确秶皇芴貏e限制并且可以根據(jù)預期目的進行適當選擇。在槽型模 具簾式涂布裝置的情況中，涂布液優(yōu)選具有ImPa · s至2,OOOmPa · s的低剪切粘度。在 滑動模具簾式涂布裝置的情況中，涂布液優(yōu)選具有ImPa · s至500mPa · s的粘度。在其 性能值顯示粘度隨切變減少的涂布液的情況中，其粘度優(yōu)選在上述低剪切粘度范圍內(nèi)。對于槽型模具簾式涂布裝置，當涂布液的粘度較低時，在操作期間臨時停止 涂布以進行調(diào)節(jié)或類似操作的情況中，涂布液從模具狹縫滴下。當涂布液粘度大于 2,OOOmPa · s時，(1)很難除去涂布液中的氣泡，從而可能由涂布液中的氣泡引起氣泡 相關(guān)的缺陷，和(2)涂布液的噴射壓力增加，以致對送液泵具有更高的負荷，并且液體 供應系統(tǒng)需要抗壓性。在滑動模具簾式涂布裝置的情況中，就膜厚度均勻性而言，優(yōu)選 涂布液的粘度較低。當涂布液的粘度較高時，在涂布液沿滑動部分向下流動時，在滑動 部分邊緣導軌(圖12中的數(shù)字109指示)附近的涂布液流動緩慢，并且如上所述形成邊 界層，所以當涂布液沿滑動部分向下流動時，由于粘度抗性，涂布液具有膜厚度增加部 分。當涂布液的粘度大于500mPa · s時，與在中心平坦部分的涂布液相比，在距離邊緣 IOmm到40mm的區(qū)域中，涂布液的膜厚度增加超過20%，這是由于當涂布液沿滑動部分 向下流動時膜厚度增加機制引起的，并且出現(xiàn)與膜厚度不均勻相關(guān)的缺陷，這導致纏繞 失敗和/或干燥失敗。粘度可以使用例如B-型粘度計或類似物測量。涂布液的表面張力不受特別限制并且可以根據(jù)預期目的進行適當選擇。然而， 其優(yōu)選在20mN/m至40mN/m的范圍內(nèi)。當表面張力小于20mN/m時，膜本身的表面張力較低，所以膜是松弛的，并且 因此膜容易變形并且由于風引起的干擾而搖動。當表面張力大于40mN/m時，簾式膜以 向上的方向變形。例如利用Face自動表面張力計(由Kyowa Interface Science Co., Ltd制造)或 類似物，可以以鉬板方法測量表面張力為靜態(tài)表面張力。同樣，如在“A study of the behavior of a thin sheet of moving liquid J.Fluid Mechanics, 10 297-305 ” 中所述的,可以 借助通過將針樣外來物質(zhì)插入簾式膜獲得的分開角度(split angle)測量簾式膜的動態(tài)表面 張力。對于簾式膜以向上的方向變形的機制，根據(jù)簾式膜的動壓力和動態(tài)表面張力之 間的平衡，引起變形，并且因此測量和評估該膜的動態(tài)表面張力是重要的。-涂布液狹縫_涂布液狹縫的橫截面形狀是矩形的。涂布液噴射口的大小不受特別限制，并且可以根據(jù)預期目的進行適當選擇。但 是，狹縫優(yōu)選具有大約0.2mm至大約0.5mm的縫隙。
狹縫的縫隙具有使涂布液在寬度方向均勻的功能。狹縫的大小根據(jù)模具集流腔 的大小和形狀、集流腔和狹縫出口之間的距離、第二集流腔的存在或不存在、第二集流 腔的位置、涂布液的流速和粘度等而變化，如在“Slot Coating Fluid mechanics and die design, Sartor, Luigi, Ph.D. University of Minnesota, 1990” 等中所述。涂布液噴射口的材料不受特別限制，并且可以根據(jù)預期目的進行適當選擇。涂 布液噴射口優(yōu)選具有金屬表面，例如SUS、鋁或金屬鍍層諸如硬鍍鉻層。所述材料優(yōu)選為金屬，原因在于即使涂布液含有樹脂也可以防止堵塞。-噴射機構(gòu)_用于噴射涂布液的噴射機構(gòu)可以是槽型模具簾式涂布裝置或滑動模具簾式涂布 裝置，并且噴射機構(gòu)可以根據(jù)預期應用從這些中適當選擇。使用槽型模具簾式涂布裝置施加一層或兩層涂布液。槽型模具簾式涂布裝置 具有朝向下面的狹縫，所以當涂布液粘度較低時，可出現(xiàn)液滴，并且涂布液中的氣泡可 保留在模具頭的集流腔中。但是槽型模具簾式涂布裝置在涂布液的噴射速度方面比滑 動模具簾式涂布裝置高；因此，就當存在大的動態(tài)表面張力時簾式膜以向上方向變形的 機制——其與涂布液的動態(tài)表面張力和涂布液落下時的動壓力(慣性力)之間的平衡相 關(guān)——而言，用于槽型模具簾式涂布裝置的涂布液不容易以向上方向變形。同樣，不設(shè) 置釋放空間(releasing space)例如滑動向下流動表面，所以可促進洗滌，并且洗滌所需要 的洗液(例如水)的量較少。在涂布液的粘度較高的情況中，在操作期間可容易地臨時 停止涂布。使用滑動模具簾式涂布裝置施加一層或兩層(可能三層或更多層)涂布液?；瑒?模具簾式涂布裝置具有朝向上面的狹縫，所以在模具頭的集流腔中不容易積聚氣泡。然 而，滑動部分的面積較大，不容易進行洗滌，并且與槽型模具簾式涂布裝置相比，在操 作期間停止涂布時，需要更大量的洗液。_涂布液的流速_噴射的涂布液的流速不受特別限制，只要可以形成簾式膜，并且流速可以根據(jù) 預期目的進行適當選擇。槽型模具簾式涂布裝置沒有問題，只要涂布液以預期流速噴出，并且該裝置具 有能形成簾式膜的狹縫和集流腔形式的部分?；瑒幽＞吆熓酵坎佳b置沒有問題，只要其具有能使涂布液以預期流速噴出的狹 縫和集流腔形式的部分，并且(在涂布液從狹縫噴出并且然后沿滑動表面向下流動后)可 形成簾式膜。然而，當涂布液的流量相對大時，簾式膜的上面部分的膜厚度部分增加， 所以必須根據(jù)流速在邊緣導軌的上面部分適當?shù)卦O(shè)定邊緣導軌凹槽的寬度(圖16中字母 W所示)。<導向單元和導向步驟>如圖15所示，導向單元是包括輔助水引入口(114)的單元(102)，輔助水經(jīng)過 輔助水引入口(114)引入，所述單元被配置為在寬度方向支撐簾式膜的兩個邊緣，并將 簾式膜(106)引導到所傳送的載體(105)上，所述寬度方向基本垂直于由涂布液形成的簾 式膜(106)向下流動的方向(圖15中箭頭的方向)。導向步驟是通過使用一對導向單元 (102)——每個具有輔助水引入口(114)，輔助水經(jīng)過該輔助水引入口(114)引入，在寬度方向支持簾式膜的兩個邊緣并將簾式膜(106)引導到所傳送的載體(105)上的步驟，所 述寬度方向基本垂直于由涂布液形成的簾式膜(106)向下流動的方向(圖15中箭頭的方 向)°如圖16和19所示，導向單元包括輔助水向下流動凹槽(凹入部分)(116)，輔助 水通過其向下流動?；敬怪庇谳o助水向下流動凹槽(凹入部分)(116)的底表面(116a) 形成的輔助水向下流動凹槽側(cè)表面(凹入部分側(cè)表面)(116b)與暴露表面(121)形成銳角 θ，該暴露表面被形成以便與輔助水向下流動凹槽側(cè)表面(凹入部分側(cè)表面)(116b)連續(xù) 并與輔助水向下流動凹槽側(cè)表面(凹入部分側(cè)表面)(116b)相交。如圖22所示，每個導向單元優(yōu)選在在輔助水向下流動的方向在輔助水引入口 (114)之上具有平坦表面(140)(其測量為5mm至15mm長度和7_或更大寬度)。利 用該平坦表面(140)，避免由滑動表面處的簾式膜與自由表面處的簾式膜之間的速度差異 引起的簾式膜彎曲(茶壺效應)是可能的。_輔助水(邊緣導軌水，輔助液)_根據(jù)涂布液適當選擇輔助水是必須的。在表面張力方面，輔助水比涂布液高是 必須的，以便表現(xiàn)出通過輔助水牽引涂布液將簾式膜保持在邊緣導軌上的作用(所謂的 中心可調(diào)整性)。輔助水的實例包括水性液體，例如水和(在涂布液是溶劑樣物質(zhì)的情況 中)通過將溶劑、水、樹脂、表面活性劑等混合在一起制備的液體。_輔助水引入口 _關(guān)于輔助水引入口，輔助水引入口在輔助水向下流動的方向的最大縫隙(由圖 16中的字母G顯示)不受特別限制，并且可以根據(jù)預期目的進行適當選擇。然而，其優(yōu) 選在0.2mm至0.5mm的范圍內(nèi)，更優(yōu)選為0.2mm至0.4mm。當最大縫隙小于0.2mm時，清潔引入口不容易。當最大縫隙大于0.5mm時，輔 助水的噴射均勻性可能受到損害。輔助水引入口在與輔助水向下流動方向垂直的方向的最大寬度(由圖16中的 字母W顯示)不受特別限制，并且可以根據(jù)預期目的進行適當選擇。然而，其優(yōu)選在 1.5mm至4mm的范圍內(nèi)，更優(yōu)選為2mm至3mm。當該最大寬度小于1.5mm時，在處理精確性方面可能存在問題。當最大寬度大 于4mm時，輔助水可能不會均勻地在整個寬度流動。輔助水的引入速率不受特別限制，只要輔助水沿流動向下表面流動，并且引入 速率可以根據(jù)預期目的進行適當選擇。但是，優(yōu)選在0.4m/SeC到2.1m/SeC的范圍內(nèi)，更 優(yōu)選為 0.8m/sec 到 1.6m/sec。當引入速率低于0.4m/sec時，可能形成邊界層。當引入速率高于2.1m/sec時， 輔助水可傾斜并向下地引入。在輔助水向下流動表面具有輔助水向下流動凹槽(凹入部分)的情況(第二實施 方式)中，輔助水向下流動表面寬度較小，并且在其兩側(cè)存在壁表面，所以與輔助水向 下流動表面具有弧形端的凸起形狀的情況(第一實施方式)相比，輔助水可被良好地保 持，并且輔助水的落下速度可以增加。同樣，因為向下流動表面寬度較小，所以可以使輔助水在向下流動表面的整個 寬度均勻地向下流動。如果輔助水的引入速率不改變，那么因為向下流動表面的寬度較小，所以噴射的輔助水的量可以被減少。輔助水引入口是橫截面為矩形的狹縫形式。優(yōu)選地，邊緣導軌中的流動路徑為 長狹縫的形式。然而，在狹縫較長的情況中，如果發(fā)生堵塞，清潔比較困難；同樣，在 現(xiàn)實中，從結(jié)構(gòu)觀點看，設(shè)置較長狹縫是困難的。因此，優(yōu)選在邊緣導軌的內(nèi)部設(shè)置集流腔，如圖17中所示。同樣，如在圖17 中所示，第二集流腔的設(shè)置使輔助水移動更短的距離到達輔助水引入口是可能的，從而 使均勻地噴射輔助水成為可能。輔助水引入口的材料不受特別限制，并且可以根據(jù)預期目的進行適當選擇。然 而，所述材料優(yōu)選為金屬，原因在于即使涂布液含有樹脂也可以防止堵塞。_輔助水向下流動凹槽(凹入部分)_輔助水向下流動凹槽(凹入部分)包括底表面和基本垂直于所述底表面形成的凹 入部分側(cè)表面。凹入部分側(cè)表面與暴露表面形成銳角，暴露表面被形成以便與凹入部分側(cè)表面 連續(xù)并與凹入部分側(cè)表面相交。所述銳角不受特別限制，只要其小于90°，并且其可以根據(jù)預期目的適當?shù)剡x 擇。然而，其優(yōu)選在30°至80°的范圍內(nèi)，更優(yōu)選為45°至60°。當該銳角小于30°時，在處理精確性方面可能有不利影響。當該銳角大于80° 時，銳角的作用可能受到損害。相反，當該銳角處于更優(yōu)選的范圍內(nèi)時，存在著下述優(yōu) 勢邊緣導軌輔助水可以得到良好保持。輔助水向下流動凹槽(凹入部分)的最大深度(以圖19中的字母h顯示)不受 特別限制，并且可以根據(jù)預期目的進行適當選擇。然而，其優(yōu)選在0.2mm至0.5mm的范 圍內(nèi)，更優(yōu)選為0.2mm至0.35mm。當最大深度小于0.2mm時，輔助水可溢出輔助水向下流動凹槽(凹入部分)。當 最大深度大于0.5mm時，可出現(xiàn)湍流。輔助水向下流動凹槽側(cè)表面(凹入部分側(cè)表面)與另一輔助水向下流動凹槽側(cè)表 面(凹入部分側(cè)表面)之間的最大距離(輔助水向下流動凹槽(凹入部分)的最大寬度 W,示于圖19中)不受特別限制，并且可以根據(jù)預期目的進行適當選擇。然而，其優(yōu)選 在1.5mm至4.0mm的范圍內(nèi)，更優(yōu)選為2mm至3mm。當最大距離小于1.5mm時，輔助水可能難以流動并且溢出凹入部分。當最大距 離大于4.0mm時，簾式膜可能不穩(wěn)定并且在下面部分可出現(xiàn)湍流。對于滑動模具簾式涂布裝置，當涂布液的流速較大并且當在邊緣導軌的上面部 分簾式膜的厚度比凹槽的最大寬度(W)大時，必須適當?shù)卦O(shè)定凹槽寬度(W)。-載體-載體不受特別限制，只要其能支撐涂布液，并且其可以根據(jù)預期目的適當?shù)剡x 擇。載體的形狀、結(jié)構(gòu)和大小不受特別限定，并且可以根據(jù)預期目的適當?shù)剡x擇。載體的實例包括剝離紙、原紙、合成紙和PET膜。<傳送單元和傳送步驟>傳送單元是被配置為傳送載體的單元。傳送步驟是傳送載體的步驟。
下面參考附圖進一步詳細解釋本發(fā)明的簾式涂布裝置和簾式涂布方法。下述實施方式是適合本發(fā)明的那些實施方式，并且包括各種技術(shù)上優(yōu)選的限 定。應當注意，本發(fā)明不限于這些實施方式，除非另外說明。圖12顯示了作為本發(fā)明的簾式涂布裝置的滑動簾式涂布裝置的實例。在圖12中，滑動簾式涂布裝置(簾式涂布頭)(107)包括被提供作為噴射單元 的槽(110)和(111)、集流腔(112)和(113)和狹縫(未顯示)，其被配置為噴射涂布液 (103)。這些噴射單元噴出涂布液(103)到滑動表面(108)上，涂布液(103)在滑動表面 (108)上流動，然后從滑動表面(108)自由落下，以便形成簾式膜(106)，然后在連續(xù)運 行的卷材(基材)(105)形成涂膜。在這種情況下，卷材(105)通過傳送單元(未顯示) 傳送。在滑動表面(108)的側(cè)面，提供滑動部分邊緣導軌(導向單元)(109)，并且在簾 式膜(106)的側(cè)面，提供簾式部分邊緣導軌(導向單元)(102)，其被配置為支撐簾式膜 (106)的每個邊緣。在多層同時涂布的情況下，滑動簾式涂布裝置(簾式涂布頭)(107)具有多個集 流腔(112)和(113)和多個槽(110)和(111)。所述多個集流腔(112)和(113)以及多 個槽(110)和(111)使涂布液(103)被噴射到滑動表面(108)上，并且涂布液(103)在滑 動表面(108)上成層。層狀涂布液(103)從滑動表面(108)自由落下，以便形成簾式膜 (106)，然后在連續(xù)運行的卷材(基材)(105)上形成涂膜。圖13是作為本發(fā)明的簾式涂布裝置的槽型簾式涂布裝置的實例的圖。在圖13中，涂布液從設(shè)于槽型簾式涂布頭(101)中的集流腔(112)和槽(110) 中噴出，并且涂布液作為簾式膜(106)向下流動——其每個邊緣被每個邊緣導軌(102)支 撐，然后與基材(105)碰撞并因此被施加到基材(105)上。同時，如圖14所示，涂布液從設(shè)于滑動簾式涂布頭(107)中的集流腔(113)、槽 (110)和狹縫(未顯示)中噴出，涂布液在滑動表面(108)上流動，隨后向下流動——其 每個邊緣被邊緣導軌主體(102)支撐，然后與基材(105)碰撞并因此被施加到基材(105)上。在多層同時涂布的情況下，多個集流腔(113)、槽(110)和狹縫(未顯示)被提 供，涂布液被噴射到滑動表面(108)上，并且涂布液在滑動表面(108)上成層。層狀涂布 液從滑動表面(108)自由落下，以便形成簾式膜(106)，然后在連續(xù)運行的卷材(基材) (105)上形成涂膜。如圖15所示，邊緣導軌主體(102)在其上面部分具有輔助水引入口(114)，其使 得輔助水(115)以向下的方向并且在輔助水向下流動凹槽(凹入部分)(116)的寬度方向 基本均勻地被噴出。輔助水引入口(114)截面形狀為矩形，并且垂直于簾式膜(106)以及垂直于簾式 膜(106)向下落下的方向布置。簾式膜(106)以箭頭的方向落下，并且其兩個邊緣被落入邊緣導軌主體(102)的 輔助水向下流動凹槽(凹入部分)(116)內(nèi)部的輔助水(115)支撐。通過改變流速調(diào)節(jié)閥(未顯示)的打開程度或改變泵的噴射量來設(shè)定輔助水 (115)的引入速率。在邊緣導軌主體(102)的下面部分，設(shè)有排出口(未顯示)和真空機構(gòu)(未顯示)，所述排出口使得由輔助水(115)和涂布液組成的混合液體被排出，而真空機構(gòu)使得 該混合液體容易排出。同樣，在邊緣導軌主體(102)的下面部分，可以施加用于防止涂 布液粘附的輔助水。圖16是邊緣導軌主體(102)的主視圖，而圖19是邊緣導軌主體(102)的截面示 視圖。如圖19所示，字母W表示邊緣導軌主體(102)的凹入部分側(cè)表面(116b)與另一 凹入部分側(cè)表面(116b)之間的最大距離(輔助水向下流動凹槽(凹入部分)(116)的最大 寬度，輔助水引入口(114)的最大寬度)，而字母h表示輔助水向下流動凹槽(凹入部分) (116)的最大深度。端部(190)具有銳角θ。另外，考慮到處理精確性，該端部可具有 大小約0.1mm的平坦部分，或具有大小約數(shù)十微米至100 μ m的彎曲表面(R)，以便降低 毛刺或飛邊(burr or flash)的量。同時，如圖17所示，輔助水引入口(114)的縫隙被調(diào)整至0.2mm，并且設(shè)置了 這樣的水平差異，其使得輔助水向下流動凹槽(凹入部分)(116)的底表面(116a)與簾式 膜和邊緣導軌的上面部分處的連接表面(170)的距離約在0.2mm至0.5mm的范圍內(nèi)。集流腔被設(shè)于邊緣導軌內(nèi)部的至少一個位置中，從而使得輔助水在寬度方向被 均勻噴出。邊緣導軌的輔助水向下流動凹槽的底表面優(yōu)選是金屬表面，諸如SUS、鋁或 金屬鍍層諸如硬鍍鉻層。邊緣導軌的輔助水向下流動凹槽的其它部分可以由親水材料或 疏水材料制造。同樣，邊緣導軌(導向單元)可以被應用于滑動簾式涂布裝置(如圖12所示) 和槽型簾式涂布裝置(如圖13和14所示)。當輔助水向下流動凹槽的底表面和側(cè)表面由金屬而不是多孔材料制造時，可以 解決多孔材料被涂布液堵塞的問題，并且中心可調(diào)整性可以通過輔助水的表面張力而非 通過涂布液的表面張力來展示。因此，通過提供輔助水向下流動凹槽(凹入部分)，形成 對風引起的干擾是穩(wěn)定的簾式膜是可能的。此外，通過在簾式膜的落下方向并且沿著簾 式膜的邊緣以0.4m/SeC至1.6m/SeC的初始引入速率引入輔助水，進一步抑制在簾式膜中 形成邊界層是可能的。然而，存在輔助水不流經(jīng)輔助水向下流動凹槽(凹入部分)的下面部分的整個表 面而是以線的形式流動從而引起簾式膜不穩(wěn)定的情況，以及存在在邊緣導軌的下面部分 出現(xiàn)湍流的情況。已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，這些現(xiàn)象由輔助水向下流動凹槽的最大寬度W引起。盡管發(fā)生湍流的機理細節(jié)是未知的，但是已經(jīng)發(fā)現(xiàn)下述。如圖24所示，與簾式 膜(106)接觸的輔助水(115)的流動在邊緣導軌的下面部分是湍流，因此簾式膜被擾亂。 輔助水的流動是湍流的情況可以容易鑒定，這是因為輔助水連同與該輔助水接觸的簾式 膜劇烈搖動。同時，存在輔助水作為層流穩(wěn)定流動的情況。因為在邊緣導軌的下面部分 容易出現(xiàn)湍流(在高速的情況下)，因此認為湍流的出現(xiàn)與輔助水流路中的雷諾數(shù)密切相 關(guān)，并且該出現(xiàn)因此與影響雷諾數(shù)的輔助水向下流動凹槽(凹入部分)的最大深度h和輔 助水向下流動凹槽的最大寬度W有關(guān)。本發(fā)明中的邊緣導軌可以被應用于滑動簾式涂布裝置(如圖12所示)和槽型簾 式涂布裝置(如圖13和14所示)。然而，應當注意，在本發(fā)明的邊緣導軌被應用于滑動 簾式涂布裝置的情況中，當涂布液已經(jīng)在滑動表面(108)上流動并形成自由落下的液膜 時，必需要避免由滑動表面(108)處的簾式膜與自由表面處的簾式膜之間的速度差異引起的簾式膜的彎曲(茶壺效應)。因此，在輔助水引入口旁邊以及在簾式膜的前面至少3mm的寬度是必需的，并 且在輔助水引入口的旁邊以及在簾式膜的后面，至少Imm的寬度是必需的，這意味著至 少7mm的總寬度(上述寬度與輔助水引入口的寬度(3_)的總和)是必需的。關(guān)于高 度方向，在輔助水引入口之上至少5mm的長度是必需的，并且(取決于涂布液的流速) 在輔助水引入口之上約5mm至約15mm的長度是必需的。因此，如圖22所示，測量為5mm至15mm長度和7mm或更大寬度的平坦表面 優(yōu)選在邊緣導軌的上面部分形成，其延伸自滑動簾式模的下邊緣。盡管金屬表面被用作 該平坦表面，但是可以采用親水或疏水表面。此外，輔助水可以被施加到平坦表面上。輔助水引入口(114)呈直線(狹縫)形狀是必需的，該直線與簾式膜(106)的寬 度方向垂直并與簾式膜(106)的落下方向垂直。
實施例下面參考實施例解釋本發(fā)明。然而，應當注意，本發(fā)明不限于這些實施例。術(shù) 語“份數(shù)”和符號“％”分別指“質(zhì)量份”和“質(zhì)量百分比”，除非另外說明。(實施例A-1)<實驗的基本條件> 涂布裝置裝置示于圖2中。 簾落下寬度250mm邊緣導軌的位置在基材行進方向上可以來回移動。簾落下位置被調(diào)整，使得簾 在寬度方向上在邊緣導軌輔助水向下流動表面的中心處落下來。 涂布液丙烯酸乳液粘合劑，其液體粘度為750mPa ·3(Β_型粘度計)、液體 表面張力為33mN/m(在鉬板方法中的靜態(tài)表面張力)以及流速為1.25CC/Cm · sec。 邊緣導軌輔助水引入速率為0.40m/sec (每6.5mm邊緣導軌輔助水向下流動 表面寬度為100CC/min)，輔助水入口的縫隙尺寸為0.35mm。 在邊緣導軌處存在或不存在由茶壺效應引起的簾式膜變形。 在邊緣導軌處存在或不存在由干擾風引起的簾式膜落下位置的變化。 作為干擾風，利用小型吹風機，風以3m/sec的風速(用ANEMOMASTER測 量)被吹向簾式膜。利用示于圖2中的邊緣導軌。L = 33mmR(示于圖 5 中)=5mmθ 1 = 60 度θ 2 = 90 度邊緣導軌輔助水向下流動表面的寬度W = 14mm邊緣導軌的材料SUS402J2在邊緣導軌輔助水向下流動方向，利用砂紙(#1500)，將邊緣導軌輔助水向下流 動表面和邊緣導軌輔助水向下流動表面兩端處的側(cè)板進行拋光。(比較實施例A-1)
比較實施例A-I與實施例A-I相同，只是使用在JP-A號2001-46939中提到的 平板邊緣導軌(其中滑動部分由SUS板而不是玻璃形成)。邊緣導軌輔助水向下流動表面的寬度W = 14mm邊緣導軌的材料SUS402J2在邊緣導軌輔助水向下流動方向，利用砂紙(#1500)，將邊緣導軌輔助水向下流 動表面和邊緣導軌輔助水向下流動表面兩端處的側(cè)板進行拋光。(比較實施例A-2)比較實施例A-2與實施例A-I相同，只是使用在國際公開號W02008/000507中 提到的邊緣導軌(由瑞士的Polytype Ltd.制造)。在邊緣導軌輔助水向下流動表面上的弧形端的凸起形狀的曲率半徑5.5mm邊緣導軌輔助水向下流動表面的寬度=6.5mm表 1
存在或不存在由茶壺效應引起 的簾式膜變形存在或不存在由千擾風引起的簾 式膜落下位置的變化。實施例 A-IA沒有變形。由于茶壺效應， 簾式膜具有彎曲部分(寬度約5 mm,落下距離約20 mm),隨 后具有垂直落下部分。A沒有位置變化比較實施 例A-IA沒有變形。由于茶壺效應， 簾式膜具有彎曲部分(寬度約5 mm,落下距離約35 mm),隨 后具有垂直落下部分。B存在很大的位置變化。簾式 膜被邊緣導軌在輔助水向下流動 表面兩端處的側(cè)板捕獲，并因此 變形。比較實施 例A-2B由于茶壺效應，簾式膜具有 彎曲部分(寬度約5 mm)，輕微 接觸邊緣導軌輔助水向下流動 表面兩端處的側(cè)板并因此變形A沒有位置變化為了闡明圖5中所示的R長度的影響，改變邊緣導軌和R的長度，進行中心調(diào) 整性能的比較。在邊緣導軌的垂直方向是參考方向的情況下，簾邊導軌主體在與涂布寬度方向 成直角的表面的方向上被傾斜。評價標準
A傾斜角為lo度或更大
B傾斜角為6度或更大但小于lo度
C傾斜角小于6度
。涂布液用于熱敏紙的熱敏層液{固體含量濃度(S．C．)9．9％，粘度25@nPa．S(B一型粘度計)，液體表面張力391刀N／m(鉑板方法中的靜態(tài)表面張力*)；*靜態(tài)表面張力利用Face自動表面張力儀CBVP—A3(由Kyowa Internice SCience C0．，Ltd
。3一二丁氨基一6一甲基一7一苯胺基熒烷4份
。4一異丙氧基一4’ 一羥基二苯砜12份
。lo％聚乙烯醇水溶液16份
(實施例A一2)
實施例A一2與實施例A—l相同，只是R的長度從5mm變?yōu)?mm。
(實施例A一3)
實施例A一3與實施例A—l相同，只是R的長度從5mm變?yōu)?mm。
(實施例A一4)
實施例A一4與實施例A—l相同，只是R的長度從5mm變?yōu)?．5mm。
(實施例A一5)
實施例A一5與實施例A—l相同，只是R的長度從5mm變?yōu)?．5mm。
權(quán)利要求
1.簾式涂布裝置，其包括一對邊緣導軌，其被配置為支撐至少一種涂布液的兩個側(cè)邊緣，以便形成自由落下 的涂布液膜并將所述涂布液膜施加到連續(xù)運行的載體上；和輔助水引入口，其允許輔助水在每個邊緣導軌的邊緣導軌輔助水向下流動表面的寬 度方向基本均勻地從所述邊緣導軌輔助水向下流動表面的上面部分向所述邊緣導軌輔助 水向下流動表面的下面部分引入，其中所述邊緣導軌輔助水向下流動表面在其上面部分具有基本為平坦表面形式的平 坦表面部分，和其中所述邊緣導軌輔助水向下流動表面在其下面部分具有弧形部分，其在所述寬度 方向設(shè)于中心處并且其以弧形突出；和平坦表面部分，其在所述寬度方向設(shè)于所述弧形 部分的兩側(cè)上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的簾式涂布裝置，其中所述弧形部分具有2mm至5mm的曲率半徑。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的簾式涂布裝置，其中從所述邊緣導軌輔助水向下流動表面的 所述上面部分處的所述平坦表面部分到所述邊緣導軌輔助水向下流動表面的所述下面部 分處的所述弧形部分存在連續(xù)的形狀變化。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的簾式涂布裝置，其中所述邊緣導軌輔助水向下流動表面具有 沿著倒置等腰三角形的斜邊提供的弧形區(qū)域，所述斜邊連接所述弧形部分在所述寬度方 向的中心線與在所述邊緣導軌輔助水向下流動表面的上面部分提供的所述平坦表面部分 的兩端。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的簾式涂布裝置，其中所述輔助水引入口與所述等腰三角形的 頂點之間的距離在IOmm至35mm的范圍內(nèi)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的簾式涂布裝置，其中所述輔助水以0.40m/SeC至1.20m/SeC 的速率被引入。
7.簾式涂布裝置，其包括具有涂布液噴射口的噴射單元，其被配置為從所述涂布液噴射口噴射涂布液；一對導向單元，其每個具有輔助水引入口，輔助水經(jīng)過所述輔助水引入口被引入， 所述導向單元被配置為在寬度方向支撐簾式膜的兩個邊緣，所述寬度方向基本垂直于 由涂布液形成的所述簾式膜的向下流動方向；以及引導所述簾式膜到所傳送的載體上； 和傳送單元，其被配置為傳送所述載體，其中所述一對導向單元每個具有凹入部分，所述輔助水經(jīng)過所述凹入部分向下流 動，和其中基本垂直于所述凹入部分的底表面形成的所述凹入部分的側(cè)表面與暴露表面形 成銳角，所述暴露表面被形成以便與所述側(cè)表面連續(xù)并且與所述側(cè)表面相交。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的簾式涂布裝置，其中所述凹入部分具有0.2_至0.5mm的 最大深度。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的簾式涂布裝置，其中在所述凹入部分的所述側(cè)表面與另一側(cè) 表面之間的最大距離在1.5mm至4.0mm的范圍內(nèi)。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的簾式涂布裝置，其中每個導向單元在所述輔助水向下流 動的方向具有在所述輔助水引入口之上的平坦表面，并且其中所述平坦表面是5mm至 15mm長和7mm或更大寬度的矩形。
11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的簾式涂布裝置，其中所述輔助水以0.4m/SeC至2.1m/SeC的 速率引入。
12.根據(jù)權(quán)利要求7所述的簾式涂布裝置，其中所述輔助水引入口在所述輔助水向下 流動的方向具有0.2_至0.5mm的最大縫隙。
13.簾式涂布方法，其包括從涂布液噴射口噴射涂布液；通過使用一對導向單元，在基本垂直于由涂布液形成的簾式膜向下流動的方向的寬 度方向，支撐所述簾式膜的兩個邊緣，并將所述簾式膜引導到所傳送的載體上，所述一 對導向單元每個具有輔助水引入口，輔助水經(jīng)過所述輔助水引入口被引入；和傳送所述載體，其中所述一對導向單元每個具有凹入部分，所述輔助水經(jīng)過所述凹入部分向下流 動，和其中基本垂直于所述凹入部分的底表面形成的所述凹入部分的側(cè)表面與暴露表面形 成銳角，所述暴露表面被形成以便與所述側(cè)表面連續(xù)并且與所述側(cè)表面相交。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的簾式涂布裝置，其中所述凹入部分具有0.2mm至0.5_ 的最大深度。
15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的簾式涂布方法，其中在所述凹入部分的所述側(cè)表面與另一 側(cè)表面之間的最大距離在1.5mm至4.0mm的范圍內(nèi)。
16.根據(jù)權(quán)利要求13所述的簾式涂布方法，其中每個導向單元在所述輔助水向下流 動的方向具有在所述輔助水引入口之上的平坦表面，并且其中所述平坦表面是5mm至 15mm長和7mm或更大寬度的矩形。
17.根據(jù)權(quán)利要求13所述的簾式涂布方法，其中所述輔助水以0.4m/SeC至2.1m/SeC 的速率引入。
18.根據(jù)權(quán)利要求13所述的簾式涂布方法，其中所述輔助水引入口在所述輔助水向下 流動的方向具有0.2mm至0.5mm的最大縫隙。
全文摘要
本發(fā)明的名稱為簾式涂布裝置和簾式涂布方法。簾式涂布裝置包括一對邊緣導軌，其被配置為支撐至少一種涂布液的兩個側(cè)邊緣以便形成自由落下的涂布液膜并將該涂布液膜施加到連續(xù)運行的載體上；和輔助水引入口，其使得輔助水在每個邊緣導軌的邊緣導軌輔助水向下流動表面的寬度方向基本均勻地從該向下流動表面的上面部分到該向下流動表面的下面部分引入，其中所述向下流動表面在其上面部分具有平坦表面部分，并且其中所述向下流動表面在其下面部分具有被設(shè)于中心處并以弧形突出的弧形部分，和被設(shè)于弧形部分兩側(cè)上的平坦表面部分。
文檔編號B05C11/10GK102009025SQ20101027799
公開日2011年4月13日 申請日期2010年9月8日 優(yōu)先權(quán)日2009年9月8日
發(fā)明者原哲也, 山本一公, 杣田浩紀 申請人:株式會社理光