專利名稱：涂膜形成裝置、電子照相用定影部件及圖像形成裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及在被涂敷物的圓筒面狀的外周面里涂敷涂料后形成涂膜的涂膜形成裝置，例如，在采用PPC(普通紙復(fù)印機(jī))、LBP(激光打印機(jī))、傳真機(jī)等的電子照相方式的圖像形成裝置中，為了形成通過加熱加壓來定影記錄紙上的未定影調(diào)色劑像的定影部件(定影帶、定影輥)的彈性層而優(yōu)選使用的涂膜形成裝置。同時，還涉及通過該涂膜形成裝置而形成有涂膜的電子照相用定影部件，以及具有該電子照相用定影部件的圖像形成裝置。
背景技術(shù)：
在依據(jù)電子照相的原理的復(fù)印機(jī)及打印機(jī)等的圖像形成裝置中，是在被加熱的定影部件和與該定影部件壓接的加壓部件之間通過轉(zhuǎn)印有調(diào)色劑像的記錄紙后，在對所述調(diào)色劑像的調(diào)色劑熔融的同時執(zhí)行將其定影到所述記錄紙里的定影工序的。該定影工序所使用的定影帶或定影輥等的定影部件是在由鋁、鐵等構(gòu)成的圓筒形狀的芯棒，或由聚酰亞胺等樹脂或鎳等的金屬構(gòu)成的環(huán)狀基體等的外周面里涂敷粘結(jié)劑，同時在其上面涂敷含硅酮橡膠等耐熱性橡膠的涂料后，形成厚度在100-300 μ m左右的彈性層而得到的。上述彈性層在上述定影工序中，一般公知的是使得將調(diào)色劑按壓在記錄紙里的壓力均一后來提高圖像的粒狀度。另外，這種彈性層的厚度在影響定影圖像品質(zhì)的同時，還影響所述定影部件的啟動時間(到達(dá)規(guī)定溫度里的時間)等，所以就要求上述彈性層的厚度為均一的。然后，作為形成上述彈性層的方法，以往采用的是噴霧涂敷法或浸漬涂敷法。這些方法因為是通過以溶劑稀釋涂料并降低粘度來控制膜厚的，所以對環(huán)境的影響較大。另一方面，可以舉例有環(huán)狀絲印涂敷法(專利文獻(xiàn)1)。該環(huán)狀絲印涂敷法如圖19所示，是從圓環(huán)狀的涂敷噴嘴71將涂料直接供給到被涂敷物70的外周面里，并為了通過將該涂敷噴嘴71相對于被涂敷物70在軸方向里移動后來進(jìn)行涂敷，只要對涂料提供僅用于被涂敷物70的涂敷的量即可，而不需要以溶劑來稀釋。然而，為了以均一的厚度來形成涂膜，就需要將圓筒形狀的芯棒或環(huán)狀的基體等被涂敷物保持為真圓的狀態(tài)，另外，涂敷噴嘴71和被涂敷物70的外周面之間的距離也需要保持為均一。于是，在以往，是通過將被涂敷物嵌合在圓柱狀的支持部件的外周里，或通過氣體在支持部件72的外周里使得被涂敷物浮起后，來保持該被涂敷物70，并沿著所述支持部件 72的軸芯來移動涂敷噴嘴71。但是，當(dāng)前述被涂敷物70的外徑增大時，涂敷噴嘴71為大型化而變?yōu)榇笾亓亢螅沟迷撏糠髧娮?1沿著軸芯高精度地移動就變得困難了，為了確保精度，就需要裝置全體的高精度化及高剛性化，從而在導(dǎo)致大幅增加成本的同時，使得至操作開始的調(diào)整時間趨于長時間化。因此，在專利文獻(xiàn)1所示的涂膜成像裝置中，是將大型且大重量的涂敷噴嘴固定， 并將嵌合在圓柱狀的支持部件的外周里被定心的被涂敷物沿著支持部件的軸芯來移動的。 在專利文獻(xiàn)1所示的涂膜成像裝置中，為了將被涂敷物嵌合到支持部件的外周里后，來決定該被涂敷物的位置，該支持部件的全長大約是被涂敷物的全長的兩倍左右。但是，一般地，由于被涂敷物的內(nèi)徑在軸芯方向里不是均一的，在上述專利文獻(xiàn)1 所示的涂膜成像裝置中，支持部件和被涂敷物之間的摩擦力太大而導(dǎo)致難以使得被涂敷物以一定速度來移動。另外，如圖19所示，雖然還記載了在支持部件72和被涂敷物71之間設(shè)置空間，通過將加壓后的氣體供給到該空間內(nèi)，來使得被涂敷物71在支持部件72的外周面上滑動，但因為支持部件72的全長大約是被涂敷物70的兩倍，根據(jù)被涂敷物70的位置的變化，支持部件72和被涂敷物70之間的空間(即被加壓后的氣體)到被大氣開放為止的流路的長度也會變化，通過被涂敷物70的位置的變化，支持部件72和被涂敷物70之間的空間內(nèi)的壓力也變化了。因此，就難以將被涂敷物70的外周面和涂敷噴嘴71之間的間隔一直保持為一定。專利文獻(xiàn)1特開2004-290853號公報

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種涂膜形成裝置，其能夠使得被涂敷物以一定的速度來移動，同時將被涂敷物的外周面和涂敷噴嘴之間的間隔保持為一定，以及低價地提供通過該涂膜形成裝置來形成涂膜的電子照相用定影部件，和。包括該電子照相用定影部件的圖像形成裝置。為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的技術(shù)方案1提供一種涂膜成像裝置，其包括支持部件，其穿通在圓筒狀的被涂敷物內(nèi)；涂敷噴嘴，其將涂料涂敷在所述被涂敷物的外周面里；移動機(jī)構(gòu)，其使得所述被涂敷物沿著該被涂敷物的軸芯與所述涂敷噴嘴進(jìn)行相對的移動，其特征在于，在所述支持部件的上端部里設(shè)置了朝著所述被涂敷物的內(nèi)周面來噴出氣體的噴出口，然后，所述涂敷噴嘴的排出所述涂料的排出口被設(shè)置在與所述支持部件的上端部相向而對的位置里。本發(fā)明的技術(shù)方案2根據(jù)技術(shù)方案1所述的涂膜成像裝置，其特征在于所述噴出口在所述支持部件的圓周方向里被等間隔地設(shè)置。本發(fā)明的技術(shù)方案3根據(jù)技術(shù)方案1所述的涂膜成像裝置，其特征在于在所述噴出口的下方里設(shè)置了貫通所述支持部件的排氣口。本發(fā)明的技術(shù)方案4根據(jù)技術(shù)方案1所述的涂膜成像裝置，其特征在于包括移動支持部件，其在被形成為內(nèi)側(cè)里穿通有所述支持部件，并且其內(nèi)徑要小于所述被涂敷物的外徑且大于所述支持部件的外徑的同時，端面上被放置了所述被涂敷物后，通過所述移動機(jī)構(gòu)的沿著所述支持部件的軸芯的移動，來使得所述被涂敷物相對于所述涂敷噴嘴作相對的移動。本發(fā)明的技術(shù)方案5根據(jù)技術(shù)方案4所述的涂膜成像裝置，其特征在于在所述移動支持部件里設(shè)置了朝著所述支持部件的外周面來噴出氣體的第二噴出口。本發(fā)明的技術(shù)方案6根據(jù)技術(shù)方案5所述的涂膜成像裝置，其特征在于在所述端面和所述第二噴出口之間設(shè)置了第二排氣口。
本發(fā)明的技術(shù)方案7根據(jù)技術(shù)方案1至6中任何一項所述的涂膜成像裝置，其特征在于包括測量裝置，其可以測量內(nèi)側(cè)里穿通有所述支持部件的所述被涂敷物的外徑；變更裝置，其可以變更供給到所述噴出口內(nèi)的氣體的壓力；控制裝置，其對應(yīng)于所述被涂敷物的外徑來使得所述變更裝置變更所述氣體的壓力。本發(fā)明的技術(shù)方案8提供一種電子照相用定影部件，其特征在于通過技術(shù)方案1至7中任何一項所述的涂膜成像裝置來形成涂膜。本發(fā)明的技術(shù)方案9提供一種圖像形成裝置，其特征在于包括技術(shù)方案8所述的電子照相用定影部件。根據(jù)技術(shù)方案1的記載，因為將被加壓的氣體通過噴出口來朝著內(nèi)側(cè)里穿通有支持部件的被涂敷物的內(nèi)周面里噴出，通過使得被涂敷物浮起在支持部件的外周面上，就能夠容易并切實地以一定速度來移動該被涂敷物。另外，因為將朝著被涂敷物的內(nèi)周面噴出氣體的噴出口設(shè)置在支持部件的上端部里，就能夠使得該支持部件的全長遠(yuǎn)遠(yuǎn)短于被涂敷物的全長的兩倍，以及大致等于被涂敷物的全長。因此，由于從噴出口噴出的氣體到被大氣開放為止的流路一直是噴出口和支持部件的上端之間的空間，即使被涂敷物的位置變化，支持部件的外周面和基體之間的空間內(nèi)的壓力也不會變動。如此，就能夠使得被涂敷物的外周面和涂敷噴嘴之間的間隔一直不變，從而能夠形成沒有厚度不均的涂膜。根據(jù)技術(shù)方案2的記載，因為是將噴出口等間隔地設(shè)置在支持部件的圓周方向里，支持部件的外周面和被涂敷物之間的空間的壓力在圓周方向里也是均一的。由此，就能夠使得被涂敷物的外周面和涂敷噴嘴之間的間隔一直不變。根據(jù)技術(shù)方案3的記載，因為排氣口設(shè)置在噴出口的下方，從噴出口噴出的氣體就通過排氣口從支持部件和被涂敷物之間被排氣了。因此，就能夠防止支持部件和被涂敷物之間的空間的壓力過高。如此，就能夠使得被涂敷物的外周面和涂敷噴嘴之間的間隔一直不變，從而能夠形成沒有厚度不均的涂膜。根據(jù)技術(shù)方案4的記載，因為是在內(nèi)徑小于被涂敷物的外徑而大于支持部件的外徑的移動支持部件的端面上重合被涂敷物，通過移動該移動支持部件，就能夠順利地移動被涂敷物。如此，通過以一定的速度來移動移動支持部件，就能夠容易并切實地以一定的速度來移動被涂敷物。根據(jù)技術(shù)方案5的記載，因為是在移動支持部件的內(nèi)周面里設(shè)置了朝著支持部件的外周面來噴出氣體的第二噴出口，通過使得氣體由該第二噴出口來噴出，就能夠?qū)⒁苿又С植考椭С植考３譃橥S。根據(jù)技術(shù)方案6的記載，因為是在端面和第二噴出口之間設(shè)置了第二排氣口，從第二噴出口噴出的氣體就通過第二排氣口從移動支持部件和支持部件之間被排氣了。因此，就能夠防止噴出到移動支持部件的內(nèi)側(cè)里的氣體侵入到支持部件和被涂敷物之間，從而能夠防止該支持部件和被涂敷物之間的空間的壓力過高。如此，就能夠使得被涂敷物的外周面和涂敷噴嘴之間的間隔一直不變，從而能夠形成沒有厚度不均的涂膜。根據(jù)技術(shù)方案7的記載，控制裝置對應(yīng)于測量裝置測量到的被涂敷物的外徑，來變更通過噴出口而供給到支持部件和被涂敷物之間的氣體的壓力。因此，就能夠變更通過噴出口而供給到支持部件和被涂敷物之間的氣體的壓力，以使得被涂敷物的外徑不變。如此，就能夠使得被涂敷物的外周面和涂敷噴嘴之間的間隔一直不變，從而能夠形成沒有厚度不均的涂膜。根據(jù)技術(shù)方案8的記載，就能夠獲得沒有厚度不均的涂膜。根據(jù)技術(shù)方案9的記載，因為包括了具有沒有厚度不均的涂膜的電子照相用定影部件，就能夠提供高圖像品質(zhì)的圖像形成裝置。


參照下面對附圖詳細(xì)的說明可以更快·更好地理解對公開技術(shù)及其特征的完整描述。其中，圖1是本發(fā)明的第一實施方式所涉及的涂膜形成裝置的概要構(gòu)成的剖面圖。圖2是圖1中的II部的放大剖面圖。圖3是圖1所示涂膜形成裝置在基體的外周面里涂敷有涂料的狀態(tài)的要部剖面圖。圖4是圖3所示涂膜形成裝置在內(nèi)徑較大的基體的外周面里涂敷有涂料的狀態(tài)的要部剖面圖。圖5是圖1所示涂膜形成裝置在內(nèi)徑較小的基體的外周面里涂敷有涂料的狀態(tài)的要部剖面圖。圖6是通過圖1所示的涂膜形成裝置得到的形成有涂膜的定影帶的立體圖。圖7是沿著圖6中的VII-VII線的剖面圖。圖8是包括圖6所示定影帶的圖像形成裝置的剖面圖。圖9是平行平板間的Couette-Poiseuille流動說明圖。圖10是圖1所示涂膜形成裝置的心軸和基體的剖面圖。圖11是本發(fā)明的第二實施方式所涉及的涂膜形成裝置的概要構(gòu)成的剖面圖。圖12是圖11所示涂膜形成裝置在基體的外周面里涂敷有涂料的狀態(tài)的要部剖面圖。圖13是本發(fā)明的第三實施方式所涉及的涂膜形成裝置的概要構(gòu)成的剖面圖。圖14是安裝在本發(fā)明品1的涂膜形成裝置里的基體的內(nèi)徑說明圖。圖15是在移動安裝在本發(fā)明品1至本發(fā)明品3以及比較例的涂膜形成裝置里的基體時的基體的外周面的位置說明圖。圖16圖16(a)是本發(fā)明品1的涂膜形成裝置的涂敷噴嘴與基體的上端部相向而對的狀態(tài)的剖面圖，圖16(b)是本發(fā)明品1的涂膜形成裝置的涂敷噴嘴與基體的下端部相向而對的狀態(tài)的剖面圖，圖16(c)是本發(fā)明品1的涂膜形成裝置的涂敷噴嘴位于噴出口的下方里的狀態(tài)的剖面圖。圖17是相對于安裝在本發(fā)明品1至本發(fā)明品3以及比較例的涂膜形成裝置里的基體的內(nèi)徑的偏差，來表示基體的外表面的位置的偏差的說明圖。圖18是相對于安裝在本發(fā)明品1至本發(fā)明品3以及比較例的涂膜形成裝置里的基體的內(nèi)徑的偏差，來表示涂膜的厚度的偏差的說明圖。
圖19是現(xiàn)有技術(shù)中的涂膜形成裝置的概要構(gòu)成的剖面圖。符號說明1涂膜成像裝置2定影帶(電子照相用定影部件)4基體(被涂敷物)4c夕卜周面7 涂料8 涂膜13控制裝置(控制手段)19涂敷噴嘴19b涂敷狹縫(排出口)25心軸(支持部件)26移動支持部(移動手段)27b基部(上端)28 噴出口31移動支持部件31a 端面39 第二噴出口40 第二排氣口43b調(diào)整器(變更手段)45激光位移計(測量手段)47 排氣口101圖像形成裝置
具體實施例方式圖1所示是本發(fā)明的第一實施方式所涉及的涂膜形成裝置的概要構(gòu)成的剖面圖。 圖2所示是圖1中的II部的放大剖面圖。圖3-圖5是圖1所示涂膜形成裝置在基體的外周面里涂敷有涂料的狀態(tài)的要部剖面圖。圖6是通過圖1所示的涂膜形成裝置得到的形成有彈性層5的定影帶的立體圖。圖7所示是圖6中的沿VII-VII線的剖面圖。圖1所示的涂膜形成裝置1是在作為構(gòu)成復(fù)印機(jī)等圖像形成裝置101 (參見圖8) 的電子照相用定影部件的定影帶2的基體4里，涂敷了構(gòu)成彈性層5的涂料7來形成涂膜 8的裝置。定影帶2是作為將調(diào)色劑像定影到記錄紙107 (參見圖8)的電子照相用定影部件來使用的，如圖6所示，形成為圓筒狀(環(huán)管狀)。定影帶2如圖7所示，依次層積了由聚酰亞胺等合成樹脂構(gòu)成且形成為圓筒狀的基體4，和粘結(jié)劑層3，和由硅酮橡膠等耐熱性橡膠構(gòu)成的彈性層5，和粘結(jié)劑層3，以及由氟素樹脂構(gòu)成的脫膜層6。彈性層5的厚度形成為 100-300 μ m程度，同時，基體4和粘結(jié)劑層3加起來的厚度在110 μ m程度。另外，彈性層5被形成在從基體4的軸芯P(圖1中點劃線所示)方向的一端部 (通過涂膜形成裝置1涂料7被涂敷時的上端部) 開始至基體4的軸芯P方向的另一端部(通過涂膜形成裝置1涂料7被涂敷時的下端部)4b為止的范圍內(nèi)。定影帶2在被加熱的狀態(tài)下，將調(diào)色劑像按壓到記錄紙107里后，來將該調(diào)色劑像定影到記錄紙107里。涂料7由硅酮橡膠和公知的溶劑混合后得到，其粘度充分大于形成前述粘結(jié)劑層 3或脫膜層6時所使用的涂料的粘度。然后，該涂料7通過涂膜形成裝置1在表面形成有粘結(jié)劑層3的基體4 (相當(dāng)于權(quán)利要求中的被涂敷物)的外表面(也就是前述的粘結(jié)劑層3) 里被涂敷后形成了前述的彈性層5。涂膜形成裝置1如圖1所示，包括有作為涂料供給部的涂料供給組件10、涂敷組件11、作為加壓氣體供給手段的加壓氣體供給部12以及作為控制手段的控制裝置13。該涂料供給組件10包括被設(shè)置在工廠的地板上等的組件本體14和配管15等。在組件本體 14里設(shè)置了多個的原液罐，和多個的抽吸泵以及混合機(jī)等。組件本體14通過混合機(jī)來混合多個的原液罐內(nèi)作為前述涂料7的原料的液體后， 由抽吸泵將該混合得到的涂料7送出到配管15里。配管15將組件本體14的混合機(jī)和涂敷組件11所具有的后述的涂敷噴嘴19相互連接。涂料供給組件10將組件本體14來的涂料借助于配管15供給到涂敷噴嘴19內(nèi)。涂敷組件11包括框架17、保持部18以及涂敷噴嘴19。框架17包括設(shè)置在工廠的地板上等里的坐臺部21，和從該坐臺部21的邊緣開始向上方延伸后的板狀的延伸板部22， 和多個的噴嘴支持柱23以及噴嘴支持臺24。噴嘴支持柱23形成為從坐臺部21開始向上方延伸后的棒狀，其軸芯被設(shè)置為平行于垂直方向。另外，噴嘴支持柱23相互以間隔分開， 被設(shè)置在后述的心軸(mandrel) 25的周圍。噴嘴支持臺M形成為圓環(huán)狀，被安裝在噴嘴支持柱23的上端里，其兩個表面被設(shè)置為平行于水平方向。保持部18作為支持部件也包括了心軸25和作為移動手段的移動支持部26。心軸25的外觀被形成為圓筒狀并從坐臺部21的上面向上方里豎立設(shè)置后，其軸芯與垂直方向平行。心軸25的外徑比沒有彈性變形時的基體4的內(nèi)徑要大一些。這是因為，從心軸25 的后述的噴出口觀噴出的氣體所構(gòu)成的氣體層的壓力會將基體4從內(nèi)側(cè)開始擴(kuò)展，因為彈性變形，通過使得該基體4的內(nèi)徑稍大于心軸25的外形，就能夠明顯獲得后述的減小基體 4的內(nèi)徑偏差的影響的效果。心軸25被形成為全長充分短于基體4的全長的兩倍，并且稍長于基體4的全長(與基體4的全長大致相等)。前述心軸25穿通在基體4內(nèi)。另外，心軸25的上端里設(shè)置了使該心軸25的先端變細(xì)的錐面27。還有，作為本發(fā)明所說的支持部件的心軸25的上端是指通過加壓氣體供給部12供給來后，在心軸25的外周面和基體4的內(nèi)周面之間流動的氣體被大氣開放的位置，在本實施方式中，是指前述錐面27的基部27a。還有，在心軸25的上端部里，設(shè)置了將其內(nèi)側(cè)保持為氣密性的氣密室 46。更進(jìn)一步地，心軸25的上端部里多個地設(shè)置了連通氣密室46的內(nèi)外并在該心軸25的外周面里開口的噴出口觀。噴出口觀用于將加壓氣體供給部12供給來的加壓氣體向著內(nèi)側(cè)里穿通有心軸25的基體4的內(nèi)周面里噴出。多個的噴出口觀被等間隔地設(shè)置在心軸 25的圓周方向里。移動支持部沈包括線型驅(qū)動器四，支持板30，移動支持部件31以及未圖示的線型編碼器等。線型驅(qū)動器四包括被安裝在延伸板部22里并在垂直方向里直線延伸的固定部件32，和沿著該固定部件32的長邊方向在該固定部件32里自由移動的移動部件33。支持板30包括平板狀本體部34，和安裝在該本體部34里的圓環(huán)狀的圓環(huán)部35。
8本體部34的上下面被設(shè)置為平行于水平方向。本體部34的一端被安裝在線型驅(qū)動器四的移動部件33里。圓環(huán)部35被設(shè)置為內(nèi)徑充分大于心軸25的外徑的大的圓環(huán)狀。圓環(huán)部35在其內(nèi)側(cè)通過有心軸25的同時，被安裝在本體部34離開線型驅(qū)動器四一側(cè)的另一端部里。圓環(huán)部35被設(shè)置為與心軸25同軸。圓環(huán)部35的表面上放置有球輥36。移動支持部件31如圖2所示被形成為厚的圓環(huán)狀，其內(nèi)徑大于心軸25的外徑，但小于形成有粘結(jié)劑層3的基體4的外徑移動支持部沈的內(nèi)側(cè)里穿通有心軸25，并在球輥 36上(即，借助于球輥36)被配置在支持板30的圓環(huán)部35上。另外，移動支持部件31中位于上方的端面31a隨著朝向上方而形成了使該移動支持部件31慢慢變細(xì)的錐狀。移動支持部件31在其內(nèi)部設(shè)置了從其內(nèi)周面開始凹陷的凹形空間37的同時，設(shè)置了將該凹形空間37隔開的隔離板38。移動支持部件31的端面31a上設(shè)置有基體4的下端部4b。另外，在移動支持部件31里，如圖2所示地設(shè)置了多個的第二噴出口 39，和第二排氣口 40。這些個第二噴出口 39和第二排氣口 40在貫通移動支持部件31的外壁的同時，被等間隔地設(shè)置在該移動支持部件31的圓周方向里。第二噴出口 39使得移動支持部件31 的外側(cè)和由凹形空間37的隔離板38分割成的兩個空間37a、37b中的下方的空間37a相互連通。第二噴出口 39借助于前述空間37a將加壓氣體供給部12供給來的加壓氣體向著心軸25的外周面噴出。然后，從第二噴出口 39噴出的被加壓的氣體充填到前述的空間37a 內(nèi)后，在要越過前述隔離板38侵入到前述空間37a內(nèi)的同時，從其與心軸25之間向移動支持部件31外漏出。這時，根據(jù)前述加壓氣體供給部12供給來的氣體的壓力，來對移動支持部件31進(jìn)行位置決定，使得其位于與心軸25同軸，并對該移動支持部件31的端面31a上的基體4進(jìn)行位置決定，使得其位于與心軸25同軸。第二排氣口 40使得移動支持部件31 的外側(cè)和由凹形空間37的隔離板38分割成的兩個空間37a、37b中的上方的空間37b相互連通。即，第二排氣口 40被設(shè)置在移動支持部件31的端面31a和第二噴出口 39之間。第二排氣口 40將侵入到前述空間37b內(nèi)的被加壓的氣體向移動支持部件31外排氣。第二排氣口 40盡量擴(kuò)大其開口以降低排出的氣體的流速，使得被排出的氣體的壓力能夠立刻等于周圍空間的壓力。線型編碼器用于檢測移動支持部件31的位置。線型編碼器將檢測到的移動支持部件31的位置輸出到控制裝置13里。如此，保持部18將心軸25穿通在基體4內(nèi)，通過將該基體4與移動支持部件31 的端面31a重合，就對被涂敷物的基體4進(jìn)行保持了。另外，移動支持部沈即保持部18通過使得線型驅(qū)動器四的移動部件33在垂直方向里移動，就使得重合在移動支持部件31的端面31a上的基體4沿著該基體4的軸芯P，在垂直方向里移動了。如此，移動支持部沈就沿著基體4的軸芯P來使得基體4和涂敷噴嘴19作相對移動了。涂敷噴嘴19如圖1所示地，形成為中空的圓環(huán)狀。在涂敷噴嘴19里連接有配管 15，其內(nèi)側(cè)的空間里供給有來自該配管15即前述的涂料供給組件10的涂料7。配管15為了降低對涂敷噴嘴19內(nèi)部供給涂料7而導(dǎo)致的壓力分布的不均勻性，以多根地在涂敷噴嘴19的圓周方向里相互隔開間隔地連接為好。涂敷噴嘴19在內(nèi)側(cè)里穿通有心軸25的狀態(tài)下，被固定在噴嘴支持臺M上。涂敷噴嘴19在被配置為與心軸25及內(nèi)側(cè)里穿通有心軸 25的基體4同軸的同時，其內(nèi)周面被設(shè)置在與心軸25的上端部隔開間隔而相向而對的位置里。另外，涂敷噴嘴19的內(nèi)徑要大于內(nèi)側(cè)里穿通有心軸25的基體4的外徑。S卩，涂敷噴嘴 19的內(nèi)周面41在與基體4的外周面4c (粘結(jié)劑層3的外表面)隔開間隔地相向而對的同時，被配置為與保持部18所保持的基體4同軸。另外，在涂敷噴嘴19的內(nèi)周面41里，作為連通該涂敷噴嘴19的內(nèi)外的排出口的涂敷狹縫1%被形成在該涂敷噴嘴19的全周長里。涂敷狹縫19b被設(shè)置在心軸25的軸芯方向上作為該心軸25的上端的錐面27的基部27a和噴出口觀之間。這樣，涂敷狹縫19b 就被配置在與心軸25的上端部相向而對的位置里了。涂敷噴嘴19通過涂敷狹縫19b將涂料供給組件10供給來的涂料7朝著保持部18 的內(nèi)側(cè)里穿通有心軸25的基體4的外周面如，在水平方向里排出。這時，涂料7從涂敷狹縫19b全周長被均與地排出，該排出的涂料7就形成了圓錐狀的涂料膜。另外，在本說明書中，將從該涂敷噴嘴19被排出，至附著到基體4的外周面如里為止的圓錐狀的涂料膜稱為 “絲印膜”。加壓氣體供給部12包括未圖示的加壓氣體供給源，和與加壓氣體供給源連接并在中途分歧為一對的配管42a、42b，和分別設(shè)置在這些配管42a、42b里作為變更手段的調(diào)整器43a、4!3b及閥門44a、44b。加壓氣體供給源由充填有被加壓的氣體的罐(tank)或壓縮機(jī)等的送風(fēng)機(jī)構(gòu)成。加壓氣體供給源將被加壓的氣體供給到配管42a、42b里。配管42a、42b中的一方的配管4 貫通心軸25的下端部后連接到前述氣密室46 里，來將加壓氣體供給源供給來的被加壓的氣體供給到該氣密室46即噴出口觀內(nèi)。另一方的配管42b連接到設(shè)置在移動支持部件31里的第二噴出口 39里，來將加壓氣體供給源供給來的被加壓的氣體供給到該凹形空間37的下方的空間37a內(nèi)。調(diào)整器43a、43b可以變更配管42a、42b內(nèi)的氣體的壓力，即可以變更供給到氣密室46及噴出口 28內(nèi)的氣體的壓力和供給到前述凹形空間37內(nèi)的氣體的壓力。閥門44a、 44b對于供給到氣密室46及噴出口觀內(nèi)的氣體的切斷和開放，以及供給到前述凹形空間 37內(nèi)的氣體的切斷和開放進(jìn)行切換。加壓氣體供給部12在將加壓氣體供給源里被加壓的氣體引導(dǎo)到噴出口觀里后通過該噴出口觀來噴出到心軸25的外周面和基體4的內(nèi)周面之間的同時，將加壓氣體供給源里被加壓的氣體引導(dǎo)到第二噴出口 39里后通過該第二噴出口 39來噴出到心軸25的外周面和移動支持部件31之間。另外，加壓氣體供給部12供給到前述噴出口觀、39內(nèi)的氣體的壓力是可以變更的?？刂蒲b置13是包括公知的RAM、R0M、CPU等的計算機(jī)。該控制裝置13連接在涂料供給組件10，和涂敷組件11以及加壓氣體供給部12里，并對它們進(jìn)行控制后，來對涂膜形成裝置1全體進(jìn)行控制。即，在控制裝置13里輸入保持部18的移動支持部沈的線型編碼器來的情報的同時，根據(jù)線型編碼器對應(yīng)于涂敷噴嘴19的位置的情報，來控制保持部18的移動支持部沈的線型驅(qū)動器四，和加壓氣體供給部12的調(diào)整器43a、4;3b及閥門44a、44b， 和涂料供給組件10的組件本體14的抽吸泵等的動作后，在使涂敷噴嘴19沿著軸芯P移動的同時將涂料7涂敷到基體4的外周面如里，以形成涂膜8即彈性層5。前述的實施方式的涂膜成像裝置1如下所述地形成涂膜8 (彈性層幻。首先，使得保持部18的移動支持部沈的移動支持部件31位于左下方里，然后，將基體4覆蓋到心軸25里使得下端部4b重合到移動支持部件31的端面31a里后，將心軸25穿通到該基體4內(nèi)。然后，涂膜形成裝置1的控制裝置13開放閥門44a、44b，來將加壓氣體供給部供給來的加壓氣體從噴出口觀及第二噴出口 39噴出。如此，如圖3所示地，通過噴出口觀噴出的氣體就在基體4的內(nèi)周面和心軸25之間形成了空氣層，因為它們相互被保持為同軸，所以不會互相接觸。另外，通過第二噴出口 39噴出的氣體就在心軸25和移動支持部件31之間形成了空氣層，因為它們相互被保持為同軸，所以不會互相接觸。然后，控制裝置13在從涂料供給組件10開始對涂敷噴嘴19進(jìn)行涂料7的供給的同時，以一定的速度將線型驅(qū)動器四的移動部件33向上方移動。通過移動支持部件31即基體4的移動，涂料7就附著到基體4的外周面如里，在該基體4的外周面如里就形成了涂膜8。然后，移動支持部件31被位于最上方的位置里，在基體4的大致全長里都形成了涂膜8后，控制裝置13在停止從涂料供給組件10向涂敷噴嘴19供給涂料7的同時，停止線型驅(qū)動器四的移動部件33。然后，將形成有涂膜8的基體4從移動支持部件31上取下。 之后，在下一個工序里，通過加硫(加熱)來硬化涂膜8后形成彈性層5。對前述工序進(jìn)行重復(fù)后，就在新的基體4里形成彈性層5 了。以下說明形成涂膜8時的氣體的流動。被供給到氣密室46內(nèi)的被加壓的氣體，通過噴出口觀朝著基體4的內(nèi)周面被噴出。然后，因為噴出口觀被設(shè)置在心軸25的上端部里，從噴出口觀被噴出的氣體沿著圖3中的箭頭流到心軸25的外周面和基體4的內(nèi)周面之間，從作為錐面27的基部27a，也就是心軸25的上端的基部27a被大氣開放。如此，因為噴出口觀被設(shè)置在心軸25的上端部里，根據(jù)涂膜8的形成的進(jìn)度情況，即使基體4向上方移動，從前述噴出口 28到錐面27的基部27a，也就是心軸25的上端為止的氣體的流路長度不變動。因此，即使基體4移動，心軸25和基體4之間的空間的壓力也不會變動，基體4對于心軸25 —直在大致一定的范圍內(nèi)通過。另外，即使基體4的內(nèi)徑不均勻，由于心軸25和基體4之間的空間的壓力根據(jù)從作為心軸25的上端的錐面27的基部27a和基體4的內(nèi)周面之間噴出的氣體的流量來變化， 所以基體4對于心軸25 —直在大致一定的范圍內(nèi)通過。具體來說是，當(dāng)基體4的內(nèi)徑較大時，就如圖4所示地，通過噴出口 28噴出的氣體的壓力，基體4就膨脹，從作為心軸25的上端的錐面27的基部27a和基體4的內(nèi)周面之間噴出的氣體的流量就增加。然后，結(jié)果是， 心軸25和基體4之間的空間的壓力變?yōu)檩^低，基體4的膨脹就得到抑制。另外，當(dāng)基體4的內(nèi)徑較小時，就如圖5所示地，通過噴出口 28噴出的氣體的壓力，基體4就膨脹，從作為心軸25的上端的錐面27的基部27a和基體4的內(nèi)周面之間噴出的氣體的流量就降低。然后，結(jié)果是，心軸25和基體4之間的空間的壓力變?yōu)檩^高，基體4 的膨脹就得到增加。這樣，即使基體4的內(nèi)徑不均勻，在基體4對于心軸25 —直在大致一定的范圍內(nèi)通過的同時，無論是內(nèi)徑大的基體4還是內(nèi)徑小的基體4，基體4相對于心軸25 一直在大致一定的范圍內(nèi)通過。該情況可以通過以下的式子1(由納維-斯托克斯方程導(dǎo)出的表示平行平板之間的Couette-Poiseuille流動的式子)、式子2(基體4的圓周方向的張力的式子)、式子 3 (基體4的圓周方向的張力和內(nèi)壓的力的平衡式)，以從加壓氣體供給部12供給來的被加壓的氣體的壓力為一定不變時，根據(jù)作為心軸25的上端的錐面27的基部27a和基體4的內(nèi)周面之間噴出的氣體的流量反比例于心軸25和基體4之間的空間的壓力，就可以如式子4那樣地來求得基體4的外周面如的位置的變化量AG和基體4的內(nèi)徑的變化量AD之間的關(guān)系了。AG = i(yL/52)°-2AD0·4 式子 4其中，AG是基體4的外周面如的位移量，AD是基體4的內(nèi)徑的位移量，D是基體4的內(nèi)徑，μ是氣體的粘性系數(shù)，L是流路長度(從噴出口觀到錐面27的基部27a為止的長度)，δ是基體4的彈性模量，i是系數(shù)，Q是從噴出口觀噴出的氣體的流量，P是從噴出口觀噴出的氣體的壓力，T是基體4的張力。S卩，根據(jù)式子4可知，基體4的外周面如的位移量AG是基體4的內(nèi)徑的位移量 AD的0.4次方的函數(shù)，因為隨著AD的增加，對AG的影響變小，相對于基體4的內(nèi)徑，就能夠?qū)⒒w4的外周面如的位置的偏差收縮在小的范圍里。另外，根據(jù)式子4可知，如果不使流路的長度L為一定值，基體4的外周面如的位置就會偏差。如此，通過前述實施方式的構(gòu)成，就可以將基體4的外周面如和涂敷噴嘴19的涂敷狹縫19b之間的距離高精度地保持在一定的距離里，從而能夠形成均勻厚度的涂膜8，也就是彈性層5。還有，前述式子1、式子2、式子3以及式子4如下所述地求取。首先，說明式子1。 由粘性流體的運動方程式的納維-斯托克斯方程導(dǎo)出的如圖9所示平行平板200之間的 Couette-Poiseuille的流動，以平行平板200的長度為L，以平行平板200的間隔為2b時， 可以由下面的式子5來表示。Q = [(2AP)/(3uL)]b3式子 5將式子5適用到本實施方式的涂膜形成裝置1里時，因為心軸25的外周面和基體 4之間的間隔G = 2b，所以式子5就變成下面的式子6。Q = ( Δ PG3)/(12 μ L)式子 6這里，由于心軸25的上端的錐面27的基部27a中的壓力是大氣壓，式子6中的 ΔΡ = P-O = P，所以式子6就等于式子1 了。下面說明式子2。在圖10所示的剖面中，以ΔΤ作為基體4的張力的變化，以ΔΧ 作為基體4的圓周方向的伸長量，以上述楊氏模量δ作為基體4的彈性常數(shù)時，基體的圓周方向的張力可以用式子7來表示。ΔΤ = δ ΔΧ 式子 7這里，以AG來作為心軸25的外周面和基體4之間的間隔的變化，將該AG換算到基體4的圓周方向里后，因為圓周長度是2 π X半徑的關(guān)系，以下的式子8成立。ΔΧ = 2 π AG 式子 8將式子8代入式子7就得到上述的式子2。下面說明式子3。在圖10所示的剖面中，因為施加到基體4的內(nèi)周面里的力的總和可以用圓周方向的長度χ壓力來表示，所以就能夠以PnD來表示。由于該力的總和與基體4內(nèi)的張力平衡，所以下面的式子9成立。由此就得到了上述的式子3。T = PjiD 式子 9接著說明式子4。從式子2和式子3消去Δ T后變?yōu)镻JIAD = 2SJIAG，就得到AQ= (P Δ G3)/(12 μ L)ΔΤ = 2 δ Ji AGΔΤ = P π AD
式子1 式子2 式子3下面的式子10。P = (2 δ AG)/ AD 式子 10這里，在前述實施方式中，根據(jù)心軸25和基體4之間被大氣開放，也就是從心軸25 和基體4之間排出的氣體的流量增加時，心軸25和基體4之間的壓力會下降，將I作為常數(shù)時，上述流量Q和上述壓力P成反比例，下面的式子11就成立。Q = I/P 式子 11將式子11代入前述式子1后，就得到了下面的式子12。P2 = (12IuL)/(AG3)式子 12從式子10和式子12消去P后得到下面的式子13。AG = (3I)°-2(yL/52)°-2AD0·4 式子 13這里，因為I是常數(shù)，當(dāng)(3I)°_2 = i(常數(shù))時，就能夠得到上述式子4。如前所述地形成有彈性層5的定影帶2構(gòu)成了圖8所示的圖像形成裝置101。圖像形成裝置101將黃色⑴、洋紅色(M)、青色(C)、黑色⑷等各色的圖像(即彩色圖像) 形成到一張作為轉(zhuǎn)印材料的記錄紙107里。還有，將對應(yīng)于黃色、洋紅色、青色、黑色等各色的組件，以后將在符號的最后以賦予Y、M、C、K來表示。圖像形成裝置101如圖8所示地，至少包括了裝置本體102、供紙組件103、對位輥對110、轉(zhuǎn)印組件104、定影組件105、多個的激光寫入組件122Y、122M、122C、122K以及多個的處理卡盒 106Y、106M、106C、106K。裝置本體102可以形成為箱體狀，設(shè)置在地板等上面。裝置本體102收容有供紙組件103、對位輥對110、轉(zhuǎn)印組件104、定影組件105、多個的激光寫入組件122Y、122M、122C、 122K以及多個的處理卡盒106Y、106M、106C、106K。供紙組件103在裝置本體102的下部里設(shè)置有多個。供紙組件103在重疊地收容前述的記錄紙107的同時，還包括了可以在裝置本體102里自由出入的供紙卡盒123，和供紙輥124。供紙輥IM被按壓在供紙卡盒123內(nèi)的最上面的記錄紙107里。供紙輥IM將前述最上面的記錄紙107送到轉(zhuǎn)印組件104的后述的搬送輪帶1 和具有處理卡盒106Y、 106M、106C、106K的感光體鼓之間。對位輥對110被設(shè)置在從供紙組件103被搬送到轉(zhuǎn)印組件104里的記錄紙107的搬送路徑里，包括一對輥110a、110b。對位輥對110將記錄紙107夾在一對輥110a、IlOb之間，并以可以與調(diào)色劑像重合的時機(jī)來將該被夾住的記錄紙107送到轉(zhuǎn)印組件104和處理卡盒 106Y、106M、106C、106K 之間。轉(zhuǎn)印組件104被設(shè)置在供紙組件103的上方里。轉(zhuǎn)印組件104包括驅(qū)動輥127、 從動輥128、搬送輪帶129以及轉(zhuǎn)印輥130Y、130M、130C、130K。驅(qū)動輥127被配置在記錄紙 107的搬送方向的下游側(cè)里，通過作為驅(qū)動源的馬達(dá)等被轉(zhuǎn)動驅(qū)動。從動輥1 在裝置本體 102被支持為自由轉(zhuǎn)動，其被配置在記錄紙107的搬送方向的上游側(cè)里。搬送輪帶1 形成為無端環(huán)狀，被架設(shè)在前述驅(qū)動輥127和從動輥1 里。搬送輪帶1 通過驅(qū)動輥127的轉(zhuǎn)動驅(qū)動，繞著前述驅(qū)動輥127和從動輥1 在圖中的反時針方向里循環(huán)(環(huán)繞移動)。
轉(zhuǎn)印輥130Y、130M、130C、130K分別和處理卡盒106Y、106M、106C、106K的感光體鼓一起將搬送輪帶1 和該搬送輪帶1 上的記錄紙107夾在其間。轉(zhuǎn)印組件104通過轉(zhuǎn)印輥130Y、130M、130C、130K將供紙組件103送出的記錄紙107按壓到各處理卡盒106Y、106M、106C、106K的感光體鼓的外表面里后，來將感光體鼓上的調(diào)色劑像轉(zhuǎn)印到記錄紙107里。轉(zhuǎn)印組件104將轉(zhuǎn)印有調(diào)色劑像的記錄紙107送向定影組件105。定影組件105被設(shè)置在轉(zhuǎn)印組件104中記錄紙107的搬送方向下游側(cè)里，包括將記錄紙107夾在相互之間的一對輪帶2、加。該輪帶2是前述的定影帶2并成為權(quán)利要求中的電子照相用定影部件。輪帶加是對定影帶2壓接的加壓輪帶(加壓部件)2a。定影組件105將轉(zhuǎn)印組件104送出來的記錄紙107夾在一對輪帶2、加之間，通過按壓加熱，就將從感光體鼓108轉(zhuǎn)印到記錄紙107里的調(diào)色劑像定影到該記錄紙107里了。激光寫入組件122Y、122M、122C、12^(分別被安裝在裝置本體102的上部里。激光寫入組件122Y、122M、122C、122K分別對應(yīng)于一個處理卡盒106Y、106M、106C、106K。激光寫入組件122Y、122M、122C、122K將激光照射到通過處理卡盒106Y、106M、106C、106K所具有的帶電輥而被均勻帶電的感光體鼓外表面里后，形成靜電潛像。處理卡盒106Y、106M、106C、106K分別被設(shè)置在轉(zhuǎn)印組件104和激光寫入組件 122Y、122M、122C、122K之間。處理卡盒106Y、106M、106C、106K自由裝卸于裝置本體102。 處理卡盒106Y、106M、106C、106K沿著記錄紙107的搬送方向被相互地并列設(shè)置。處理卡盒 106Y、106M、106C、106K包括作為帶電裝置的帶電輥、作為靜電潛像載置體的感光體鼓、作為清潔裝置的清潔刮刀以及顯影裝置。因此，圖像形成裝置101至少包括帶電輥、感光體鼓、 清潔刮刀以及顯影裝置。圖像形成裝置101如下所述地在記錄紙107里形成圖像。首先，圖像形成裝置101 轉(zhuǎn)動感光體鼓，通過帶電輥來對該感光體鼓的外表面進(jìn)行均勻帶電。將激光照射到感光體鼓的外表面里后，就在該感光體鼓的外表面里形成了靜電潛像。然后，當(dāng)靜電潛像位于顯影領(lǐng)域里時，吸附在顯影裝置所具有的顯影套筒的外表面里的顯影劑就吸附到感光體鼓的外表面里，來對靜電潛像進(jìn)行顯影，并將調(diào)色劑像形成到感光體鼓的外表面里。然后，圖像形成裝置101中通過供紙組件103的供紙輥IM等被搬送來的記錄紙 107位于處理卡盒106Y、106M、106C、106K的感光體鼓和轉(zhuǎn)印組件104的搬送輪帶1 之間后，來將形成在感光體鼓的外表面上的調(diào)色劑像轉(zhuǎn)印到記錄紙107里。圖像形成裝置101 通過定影組件105來將調(diào)色劑像定影到記錄紙107里。這樣，圖像形成裝置101就將彩色圖像形成到記錄紙107里了。根據(jù)本實施方式，因為是通過噴出口觀來將被加壓的氣體朝著內(nèi)側(cè)里穿通有心軸25的基體4的內(nèi)周面里噴出的，通過使得基體4浮起在心軸25的外周面上，就能夠容易地使得該基體4切實地以一定的速度來移動。另外，因為是將朝著基體4的內(nèi)周面噴出氣體的噴出口觀設(shè)置在心軸25的上端部里，就能夠使得該心軸25的全長遠(yuǎn)遠(yuǎn)短于基體4的全長的兩倍，能夠使得心軸25的全長大致等于基體4的全長。因此，由于從噴出口觀噴出的氣體到大氣開放為止的流路一直是噴出口 28和作為心軸25的上端的錐面27的基部27a之間的空間，即使基體4的位置變化，心軸25的外周面和基體4之間的空間內(nèi)的壓力也不會變動。如此，就能夠使得基體4 的外周面4c和涂敷噴嘴19之間的間隔一直保持不變，從而能夠形成厚度上沒有不均的涂膜8(即彈性層5)。由于噴出口 28在心軸25的圓周方向里等間隔地設(shè)置，心軸25的外周面和基體4 之間的空間內(nèi)的壓力在圓周方向里也是均勻的。如此，就能夠使得基體4的外周面如和涂
14敷噴嘴19之間的間隔一直保持為一定。因為是將基體4重合到內(nèi)徑小于基體4的外徑且大于心軸25的外徑的移動支持部件31的端面31a上的，通過移動該移動支持部件31，就能夠順利地移動基體4。由此，通過以一定速度來移動移動支持部件31，就能夠以一定速度來容易切實地移動基體4 了。因為將朝著心軸25的外周面噴出氣體的第二噴出口 39設(shè)置在移動支持部件31 里，通過該第二噴出口 39來噴出氣體，就能夠?qū)⒁苿又С植考?1和心軸25保持在同軸里。因為將第二排氣口 40設(shè)置在端面31a和第二噴出口 39之間，從第二噴出口 39噴出的氣體就通過第二排氣口 40從移動支持部件31和心軸25之間被排氣了。因此，就能夠防止噴出到移動支持部件31的內(nèi)側(cè)里的氣體侵入到心軸25和基體4之間，從而防止了氣體從基體4和端面31a之間的間隙的泄漏，并能夠防止基體4的另一端部4b向外側(cè)的擴(kuò)張。 如此，就能夠使得基體4的外周面如和涂敷噴嘴19之間的間隔一直保持不變，從而能夠形成厚度上沒有不均的涂膜8 (即彈性層5)。另外，根據(jù)本實施方式，能夠獲得厚度上沒有不均的涂膜8，也就是彈性層5的定影帶2。更進(jìn)一步地，圖像形成裝置1因為設(shè)置了具有厚度上沒有不均的彈性層5的定影帶2，從而就能夠獲得高圖像品質(zhì)。下面，根據(jù)圖11及圖12來說明本發(fā)明的第二實施方式所涉及的涂膜成像裝置。還有，對于與前述第一實施方式相同的部分賦予同一符號并省略其說明。在本實施方式的圖像形成裝置1中，如圖11及圖12所示，被設(shè)置在心軸25的上端部里的氣密室46在比起心軸25的其他部分來形成為大口徑的同時，在該心軸25的上端部中，在氣密室46的上方和下方的雙方以及心軸25的上端面里設(shè)置有排氣口 47。排氣口 47是連通(即貫通了心軸2 心軸25的內(nèi)外的孔，并且，設(shè)置在氣密室46的上方和下方的雙方里的排氣口 47在心軸25的圓周方向等間隔地被設(shè)置，而設(shè)置在心軸25的上端面里的排氣口 47被設(shè)置在該上端面的中央里。也就是，排氣口 47被設(shè)置在噴出口觀的緊下方里。另外，在本實施方式中，在心軸25的下端部里設(shè)置了貫通(連通心軸25的內(nèi)外)該心軸25的排氣口 47。在本實施方式中，從噴出口 28噴出到心軸25的外周面和基體4的內(nèi)周面之間的氣體如圖12中箭頭所示地流動，通過排氣口 47被引導(dǎo)到心軸25內(nèi)，也就是從心軸25和基體4的之間被排氣到此處以外。然后，氣體通過排氣口 47被排氣到心軸25的外面。根據(jù)本實施方式，因為在前述第一實施方式的效果之上，還在噴出口觀的下方里設(shè)置了排氣口 47，從噴出口觀噴出的氣體通過排氣口 47被排氣到心軸25和基體4之間。 因此，就能夠防止心軸25和基體4之間的空間的壓力過高。如此，就能夠使得基體4的外周面4c和涂敷噴嘴19之間的間隔一直保持不變，從而能夠形成厚度上沒有不均的涂膜8 (即彈性層5)。下面，根據(jù)圖13來說明本發(fā)明的第三實施方式所涉及的涂膜成像裝置。還有，對于與前述第一實施方式相同的部分賦予同一符號并省略其說明。在本實施方式的涂膜形成裝置1中，如圖13所示地，設(shè)置了作為測量手段的激光位移計45。激光位移計45以相向而對于心軸25的上端部的狀態(tài)被安裝在噴嘴支持臺M 里。激光位移計45通過將激光照射到內(nèi)側(cè)里穿通有心軸25的基體4的外周面如里，并接受從該基體4的外周面如反射回來的激光，來測量該激光位移計45和基體4的外周面如之間的距離。激光位移計45通過測量其與基體4的上端部之間的距離來測量基體4的外徑(對應(yīng)于外徑的情報)。激光位移計45將測量所得的結(jié)果輸出到控制裝置13里。
控制裝置13對應(yīng)于激光位移計45測量到的基體4的外徑，來變更調(diào)整器4 里的氣體的壓力。具體來說是，當(dāng)激光位移計45測量到的基體4的外徑小于事先確定的規(guī)定的值時，就使得調(diào)整器4 提高氣體的壓力，當(dāng)激光位移計45測量到的基體4的外徑大于事先確定的規(guī)定的值時，就使得調(diào)整器43b降低氣體的壓力，通過變更氣體的壓力來將基體4 和涂敷狹縫1%之間的間隔一直穩(wěn)定地保持在規(guī)定的值里。根據(jù)本實施方式，在前述第一實施方式的效果以外，控制裝置13對應(yīng)于激光位移計45測量到的基體4的外徑，通過噴出口觀來變更供給到心軸25和基體4之間的氣體的壓力。因此，就能夠通過噴出口觀來變更供給到心軸25和基體4之間的氣體的壓力，以使得基體4的外徑為不變。如此，就能夠使得基體4的外周面如和涂敷噴嘴19之間的間隔一直保持不變，從而能夠形成厚度上沒有不均的涂膜8 (即彈性層幻。還有，在本實施方式中，也可以設(shè)置前述的噴出口觀。另外，在前述的實施方式中，雖然顯示了形成定影帶2的彈性層5的情況，但本發(fā)明不限于定影帶2，也可以是在定影輥等各種被涂敷物里形成涂膜。接著，本發(fā)明的發(fā)明者們對本發(fā)明的涂膜形成裝置1的效果進(jìn)行了確認(rèn)。首先，在結(jié)果如圖14所示的第一實驗中，在以下的本發(fā)明品1里，是將粘度為20000Pa · s(帕斯卡秒)的雙液體混合型的附加反應(yīng)型熱硬化性樹脂的液狀硅酮彈性材料作為涂料7來涂敷到由聚酰亞胺構(gòu)成、內(nèi)徑為147. 1mm、長度為420mm、厚度為IlOym的基體4里的。在加硫后使得所形成的涂膜8的厚度為200士30 μ m(為了得到良好的圖像品質(zhì)而要求定影帶2所有的厚度)。還有，涂敷后對基體4的兩端部分別切斷25mm，以使得該基體4的全長為370mm。在本發(fā)明品1中，是在前述第一實施方式的涂膜形成裝置1里采用外徑為 147. 21mm、長度為560mm的心軸25，在被設(shè)置在心軸25的上端部里的寬度為2mm的V字槽的底部里開口，并將16個直徑為Imm的噴出口觀形成在圓周方向的等間隔里。更進(jìn)一步地，使得V字槽和作為心軸25的上端的錐面27的基部27a之間的距離為15mm，使噴出的氣體的壓力為0. 08MPa，使涂敷噴嘴19的涂敷狹縫19b部分的內(nèi)徑為148. 2mm。在本發(fā)明品1 中，為了獲得均一的厚度，必須將涂敷噴嘴19的涂敷狹縫19b和基體4的外周面如之間的距離保持在330士20 μ m以內(nèi)。另外，在本發(fā)明品1中，移動支持部件31的內(nèi)徑為147. 35mm, 從噴出口 28噴出的氣體的壓力為0. IMPa，該移動支持部件31的上升速度為30mm/s，涂料 7的排出流量為2. 7cc/sec。這時，將內(nèi)徑互為不同的基體4安裝到本發(fā)明品1的涂膜形成裝置1里時的該基體4的內(nèi)徑如圖14所示。還有，圖14中的橫軸代表安裝在涂膜形成裝置1里之前的各基體4的內(nèi)徑，圖14中的縱軸代表安裝在涂膜形成裝置1里之后的各基體4的內(nèi)徑。根據(jù)圖14可知，即使是內(nèi)徑有0. Imm不同的基體4，在安裝到本發(fā)明品1的涂膜形成裝置1里時，其內(nèi)徑的差在20 μ m以下。也就是說，在本發(fā)明品1中，明顯地能夠?qū)⒒w 4的外周面如和涂敷噴嘴19的涂敷狹縫19b之間的間隔保持在一定的范圍內(nèi)。接著，在結(jié)果如圖15所示的第二實驗中，在本發(fā)明品1以外的本發(fā)明品2、本發(fā)明品3以及比較例中，是將粘度為20000Pa · s (帕斯卡秒)的雙液體混合型的附加反應(yīng)型熱硬化性樹脂的液狀硅酮彈性材料作為涂料7來涂敷到由聚酰亞胺構(gòu)成、內(nèi)徑為147. 1mm、 長度為420mm、厚度為110 μ m的基體4里的。在加硫后使得所形成的涂膜8的厚度為 200士30 μ m(為了得到良好的圖像品質(zhì)而要求定影帶2所有的厚度)。還有，涂敷后對基體 4的兩端部分別切斷25mm，以使得該基體4的全長為370mm。在本發(fā)明品2中，是在前述第二實施方式的涂膜形成裝置1里，以氣密室46的全長為30mm、外徑為148. 21mm，在被設(shè)置在心軸25的上端部里的寬度為2mm的V字槽的底部里開口，并將16個直徑為Imm的噴出口 28及排氣口 47形成在圓周方向的等間隔里。另外， 心軸25的氣密室46以外的部分的外徑為145. 14mm，其他條件與前述本發(fā)明品1相同。在本發(fā)明品3中，是在前述第三實施方式的涂膜形成裝置1里，采用分辨率為1 μ m 的CXD型來作為激光位移計，作為調(diào)整器43a、4!3b采用的壓力調(diào)整精度是lkPa。其他條件與前述本發(fā)明品1相同。在比較例中，是在圖19所示的以往的涂膜形成裝置里，使得作為支持部件72的心軸的全長為950mm，成為在作為被涂敷物70的基體的全長的兩倍以上的長度。在圖15中的前述本發(fā)明品1至本發(fā)明品3以及比較例里，通過激光位移計來測定內(nèi)徑互為相同的基體4沿著心軸25的軸芯移動時的該基體4的外周面如的位置。橫軸代表基體4的軸芯P方向的位置，縱軸代表基體4的外周面如的位置(基體4外徑以及基體 4的外周面如和涂敷噴嘴19之間的間隔)。根據(jù)圖15可知，除去基體4的兩端部^、4b從頂端開始的15mm以內(nèi)的部分后，本發(fā)明品1至本發(fā)明品3的基體4的外周面如的位置都在大致一定的范圍內(nèi)，與此相對，在比較例中，隨著朝向基體4的中央部，基體4的外徑也逐漸擴(kuò)大。這是因為，隨著基體4的移動，從噴出氣體的噴出口到被大氣開放的位置為止的距離變化后，心軸25和基體4之間的空間的壓力也變動了。特別是，在基體4的中央部靠近到噴出口觀上的狀態(tài)中，該氣體到被大氣開放為止的阻力變得最大，因為心軸25和基體4之間的空間的壓力為最高，所以基體4就處于最膨脹的狀態(tài)了。另外，根據(jù)圖15可知，即使在本發(fā)明品1中，在從基體4的兩端部如、仙的頂端開始15mm以內(nèi)中靠近噴出口觀上時，心軸25和基體4之間的空間的壓力變動，并且不能將基體4的外周面如和涂敷噴嘴19的涂敷狹縫19b之間的間隔保持在一定不變里，從而不能形成均一厚度的涂膜8。如圖16(a)及圖16(b)所示，當(dāng)涂敷噴嘴19被配置在作為心軸 25的上端的錐面27的基部27a和噴出口 28之間時，圖中Ls、Le的范圍內(nèi)得不到均一厚度的涂膜8。如圖16(c)所示，當(dāng)涂敷噴嘴19被配置在噴出口觀的下面時，得不到均一厚度的涂膜8的范圍就變?yōu)橛蓤D中Lo所示的長于Ls+Le的范圍了。也就是說，從噴出口觀來的氣體沿著基體4的內(nèi)周流動后到達(dá)被大氣開放為止的流路的軸方向最短長度必須在基體4 的兩端部如、4b的膜厚公差適用以外的長度的和以下。接著，在前述本發(fā)明品1、本發(fā)明品2、本發(fā)明品3及比較例中，分別對內(nèi)徑各異的基體4保持后來測定使得該基體4沿心軸25的軸芯移動時的該基體4的外周面如的位置的偏差。測定結(jié)果如圖17所示。圖17中的橫軸代表基體4的內(nèi)徑的偏差，縱軸代表基體 4的外周面如的位置的偏差。另外，在圖17中，以中空菱形來表示本發(fā)明品1，以中空三角形來表示本發(fā)明品2，以中空圓來表示本發(fā)明品3，以實心正方形來表示比較例。根據(jù)圖17 可知，在比較例中，當(dāng)基體4的內(nèi)徑增大時，基體4的外周面如的位置的偏差也增大，而在
17本發(fā)明品1至本發(fā)明品3中，即使基體4的內(nèi)徑增大，也能將基體4的外周面如的位置的偏差保持為不滿40 μ m而不增大。另外，本發(fā)明品1至本發(fā)明品3以及比較例的涂膜形成裝置1在圖17所示的各基體4里形成涂膜8時的涂膜8的厚度偏差如圖18所示。另外，在圖18中，以中空菱形來表示本發(fā)明品1，以中空三角形來表示本發(fā)明品2，以中空圓來表示本發(fā)明品3，以實心正方形來表示比較例。根據(jù)圖18可知，在比較例中，當(dāng)基體4的內(nèi)徑增大時，涂膜8的厚度的偏差也增大，而在本發(fā)明品1至本發(fā)明品3中，即使基體4的內(nèi)徑增大，也能將涂膜8的厚度偏差保持為不滿60 μ m而不增大。還有，在圖17及圖18中，是對離開基體4的上端分別為40mm、 210mm、380mm的部位在圓周方向里的4處測定并求得共計12處的偏差后來求取縱軸的值的。還有，前述實施方式只是本發(fā)明的代表方式，本發(fā)明并不限于實施方式。也就是說，在不脫離本發(fā)明的思想的范圍內(nèi)可以進(jìn)行各種變化后來實施。本發(fā)明的涂膜形成裝置在例如復(fù)印機(jī)或傳真機(jī)、LBP等圖像形成裝置中，可以應(yīng)用到定影、加壓、帶電、顯影等使用的圓筒狀部件(輪帶或管材)、圓柱部件的涂敷里。從以上所述還可以有許多的改良和變化，在權(quán)利要求的范圍內(nèi)，該專利說明書的公開內(nèi)容不局限于上述的說明。本專利申請的基礎(chǔ)和優(yōu)先權(quán)要求是2010年9月6日、在日本專利局申請的日本專利申請JP2010-198891，其全部內(nèi)容在此引作結(jié)合。
權(quán)利要求
1.一種涂膜成像裝置，其包括支持部件，其穿通在圓筒狀的被涂敷物內(nèi)； 涂敷噴嘴，其將涂料涂敷在所述被涂敷物的外周面里；移動機(jī)構(gòu)，其使得所述被涂敷物沿著該被涂敷物的軸芯與所述涂敷噴嘴進(jìn)行相對的移動，其特征在于，在所述支持部件的上端部里設(shè)置了朝著所述被涂敷物的內(nèi)周面來噴出氣體的噴出口，然后，所述涂敷噴嘴的排出所述涂料的排出口被設(shè)置在與所述支持部件的上端部相向而對的位置里。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂膜成像裝置，其特征在于 所述噴出口在所述支持部件的圓周方向里被等間隔地設(shè)置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂膜成像裝置，其特征在于 在所述噴出口的下方里設(shè)置了貫通所述支持部件的排氣口。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂膜成像裝置，其特征在于包括移動支持部件，其在被形成為內(nèi)側(cè)里穿通有所述支持部件，并且其內(nèi)徑要小于所述被涂敷物的外徑且大于所述支持部件的外徑的同時，端面上被放置了所述被涂敷物后， 通過所述移動機(jī)構(gòu)的沿著所述支持部件的軸芯的移動，來使得所述被涂敷物相對于所述涂敷噴嘴作相對的移動。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的涂膜成像裝置，其特征在于在所述移動支持部件里設(shè)置了朝著所述支持部件的外周面來噴出氣體的第二噴出口。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的涂膜成像裝置，其特征在于 在所述端面和所述第二噴出口之間設(shè)置了第二排氣口。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任何一項所述的涂膜成像裝置，其特征在于包括 測量裝置，其可以測量內(nèi)側(cè)里穿通有所述支持部件的所述被涂敷物的外徑； 變更裝置，其可以變更供給到所述噴出口內(nèi)的氣體的壓力；控制裝置，其對應(yīng)于所述被涂敷物的外徑來使得所述變更裝置變更所述氣體的壓力。
8.一種電子照相用定影部件，其特征在于通過權(quán)利要求1至7中任何一項所述的涂膜成像裝置來形成涂膜。
9.一種圖像形成裝置，其特征在于 包括權(quán)利要求8所述的電子照相用定影部件。
全文摘要
本發(fā)明提供一種在可以以一定的速度來移動被涂敷物的同時，還能夠?qū)⒈煌糠笪锏耐庵苊婧屯糠髧娮熘g的間隔保持為一定的涂膜形成裝置、電子照相用定影部件及圖像形成裝置。涂膜形成裝置(1)包括保持基體(4)的保持部(18)，和將涂料(7)涂敷到基體(4)的外周面(4c)里的涂敷噴嘴(19)，以及移動涂敷噴嘴(19)的移動支持部(26)。保持部(18)包括穿通在基體(4)的內(nèi)側(cè)里的心軸(25)。在心軸(25)的上端部里設(shè)置了朝著基體(4)的內(nèi)周面噴出氣體的噴出口(28)。涂敷噴嘴(19)中排出涂料(7)的涂敷狹縫(19b)被設(shè)置在與心軸(25)的上端部相向而對的位置里。
文檔編號B05C5/00GK102385294SQ20111024362
公開日2012年3月21日 申請日期2011年8月24日 優(yōu)先權(quán)日2010年9月6日
發(fā)明者渡邊利也, 見上康臣 申請人:株式會社理光